CN110570748B - 一种光固化型耐热全息防伪膜 - Google Patents
一种光固化型耐热全息防伪膜 Download PDFInfo
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Abstract
本发明公开了一种光固化型耐热全息防伪膜,为层状结构,由外向内依次包括载体层、防伪信息层、脱膜层和粘接层,所述载体层为聚对苯二甲酸乙二酯膜,所述防伪信息层为光固化型耐热丙烯酸树脂层,所述光固化型耐热丙烯酸树脂中添加有纳米级气相二氧化硅,所述防伪信息层中具有凹凸的全息图案,所述脱膜层为含氟涂层,所述粘接层为热熔胶层或压敏胶层。本发明的防伪信息层采用添加有纳米级气相二氧化硅的光固化型耐热丙烯酸树脂层,能够承受260℃以上的模压温度,且透明性好,脱膜层的存在使得防伪信息层在模压之后能够轻易与模压板剥离,保证防伪信息的完整性和清晰度,且在压膜之后对防伪信息层进行固化处理,进一步提高了全息图案的稳定性。
Description
本申请是申请号为201610667568.8,申请日为2016年8月15日,发明名称为“一种耐热全息防伪膜”的中国专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种光固化型耐热全息防伪膜,属于防伪技术领域。
背景技术
近年来,随着科学技术的发展,防伪技术得到了迅速发展,各种产品的防伪包装也得到广泛应用。集多种防伪技术于一体的全息防伪标识,由于具有独特的防伪功能、信息量大、图像清晰、色彩绚丽、立体感强、一次性使用等特点,而被广泛应用于商标、食品、药品、化妆品等日常生活中各个领域。
全息防伪是指利用激光彩色全息图制版技术和模压复制技术完成的一种防伪技术,目前全息防伪膜一般采用PET膜或OPP膜作为载体,然后在载体上依次涂布防伪信息层和保护层,通过常规的加温加压全息压纹工艺,将全息图压制进防伪信息层中。这存在如下缺陷:一是现有防伪信息层的耐热性不高,在较高的模压温度下,防伪信息层容易发生粘流变形,易受热发黄,影响防伪膜整体的透明度,若降低模压温度,又导致模压效果变差,得到的全息图案清晰度不高;二是在全息图模压复制过程中,防伪信息层与模压板之间不易剥离,防伪信息层树脂容易在模压板上粘附,甚至会丢失部分全息条纹,破坏全息图的完整性,导致全息图的清晰度受影响。
发明内容
本发明的目的是针对现有技术中的不足,提供一种耐热全息防伪膜,通过在防伪信息层中添加纳米级气相二氧化硅,使得防伪信息层能够承受较高的模压温度,脱膜层的存在,使得压膜之后,防伪信息层能够轻易与模压板剥离,从而获得防伪信息完整性、清晰的全息防伪膜。
为了实现上述发明目的,本发明采取如下的技术方案:
一种耐热全息防伪膜,为层状结构,由外向内依次包括载体层(1)、防伪信息层(2)、脱膜层(3)和粘接层(4),所述载体层(1)为聚对苯二甲酸乙二酯膜,所述防伪信息层(2)为固化型耐热丙烯酸树脂层,所述固化型耐热丙烯酸树脂中添加有纳米级气相二氧化硅,所述防伪信息层(2)中具有凹凸的全息图案,所述脱膜层(3)为含氟涂层,所述粘接层(4)为热熔胶层或压敏胶层。
优选地,所述防伪信息层(2)中的固化型耐热丙烯酸树脂为光固化型耐热丙烯酸树脂或热固化型耐热丙烯酸树脂,所述固化型耐热丙烯酸树脂的耐热温度为260℃以上。
优选地,所述固化型耐热丙烯酸树脂中纳米级气相二氧化硅的粒径为20-50nm。
优选地,所述含氟涂层为聚四氟乙烯涂层或氟碳图层。
优选地,所述载体层(1)的厚度为0.5-1µm,所述防伪信息层(2)的厚度为1-2µm,所述脱膜层(3)的厚度为0.2-0.5µm,所述粘接层(4)的厚度为0.5-1µm。
优选地,所述防伪信息层(2)中全息图案的纹理深度为0.5-1µm。
本发明的耐热全息防伪膜的制备方法包括如下步骤:
1)在载体层(1)上涂布防伪信息层(2)并烘干;
2)在烘干后的防伪信息层(2)上涂布脱膜层(3)并烘干;
3)对涂布有脱膜层(3)和防伪信息层(2)的载体层(1)加热,加热至180℃时,采用模压机隔着脱膜层(3)对防伪信息层(2)进行模压,将全息图案模压至防伪信息层(2)中,模压温度为120-150℃,模压深度为0.5-1µm;
4)对模压之后的由脱膜层(3)、防伪信息层(2)和载体层(1)构成的半成品进行光固化或热固化处理,使防伪信息层(2)中的全息图案得到固定。
5)对脱膜层(3)进行电晕处理,以提高脱膜层(3)与粘接层(4)之间的粘接强度,电晕处理间隙为1-2毫米,处理电压为10-20kV,处理时间为10-15分钟,处理温度为30-60℃。
6)在脱膜层(3)上刮涂粘接层(4)并烘干,完成耐热全息防伪膜的制作。
本发明具有如下有益效果:
(1)本发明的一种耐热全息防伪膜,防伪信息层(2)采用添加有纳米级气相二氧化硅的耐热丙烯酸树脂层,能够承受260℃以上的模压温度,避免了防伪信息层(2)在较高的模压温度下发生形变和黄变,从而影响全息防伪膜整体的透明度,并且纳米级气相二氧化硅分散性好,进一步保证了防伪膜的透明性
(2)本发明的一种耐热全息防伪膜,在防伪信息层(2)上添加了一层脱膜层(3),使得防伪信息层(2)在信息模压复制过程中,防伪信息层(2)与模压板之间容易剥离,不发生粘附,从而保证了信息的完整性,不破坏全息图的清晰度。
(3)本发明的一种耐热全息防伪膜,在压膜之后对防伪信息层(2)进行固化处理,进一步提高了全息图案的稳定性。
(4)本发明的一种耐热全息防伪膜,在刮涂粘接层(4)之前对脱膜层(3)进行电晕处理,使得其与粘接层(4)之间具有较好的附着力。
附图说明:
图1为本发明的耐热全息防伪膜的结构示意图。
具体实施方式:
实施例1
如图1所示,本发明的耐热全息防伪膜,为层状结构,由外向内依次包括载体层(1)、防伪信息层(2)、脱膜层(3)和粘接层(4),所述载体层(1)为聚对苯二甲酸乙二酯膜,所述防伪信息层(2)为光固化耐热丙烯酸树脂层,其耐热温度为260℃以上,所述固化型耐热丙烯酸树脂中添加有纳米级气相二氧化硅,所述纳米级气相二氧化硅的粒径为20nm,所述防伪信息层(2)中具有凹凸的全息图案,所述脱膜层(3)为聚四氟乙烯涂层,所述粘接层(4)为热熔胶层。所述载体层(1)的厚度为0.5µm,所述防伪信息层(2)的厚度为1µm,所述脱膜层(3)的厚度为0.2µm,所述粘接层(4)的厚度为0.5µm,所述防伪信息层(2)中全息图案的纹理深度为0.5µm。
所述耐热全息防伪膜的制备方法包括如下步骤:1)在载体层(1)上涂布防伪信息层(2)并烘干;2)在烘干后的防伪信息层(2)上涂布脱膜层(3)并烘干;3)对涂布有脱膜层(3)和防伪信息层(2)的载体层(1)加热,加热至180℃时,采用模压机隔着脱膜层(3)对防伪信息层(2)进行模压,将全息图案模压至防伪信息层(2)中,模压温度为120-150℃;4)对模压之后的由脱膜层(3)、防伪信息层(2)和载体层(1)构成的半成品进行光固化或热固化处理,使防伪信息层(2)中的全息图案得到固定;5)对脱膜层(3)进行电晕处理,以提高脱膜层(3)与粘接层(4)之间的粘接强度,电晕处理间隙为1-2毫米,处理电压为10-20kV,处理时间为10-15分钟,处理温度为30-60℃;6)在脱膜层(3)上刮涂粘接层(4)并烘干,完成耐热全息防伪膜的制作。
实施例2
本实施例中耐热全息防伪膜的结构与制备方法和实施例1相同,不同的是:所述固化型耐热丙烯酸树脂中纳米级气相二氧化硅的粒径为35nm,所述载体层(1)的厚度为1µm,所述防伪信息层(2)的厚度为2µm,所述脱膜层(3)的厚度为0.5µm,所述粘接层(4)的厚度为1µm,所述防伪信息层(2)中全息图案的纹理深度为1µm。
实施例3
本实施例中耐热全息防伪膜的结构与制备方法和实施例1相同,不同的是:所述防伪信息层(2)为热固化耐热丙烯酸树脂层,所述固化型耐热丙烯酸树脂中纳米级气相二氧化硅的粒径为50nm,所述脱膜层(3)为氟碳涂层,所述粘接层(4)为压敏胶层。所述载体层(1)的厚度为0.8µm,所述防伪信息层(2)的厚度为1.5µm,所述脱膜层(3)的厚度为0.35µm,所述粘接层(4)的厚度为0.8µm,所述防伪信息层(2)中全息图案的纹理深度为0.8µm。
以上实例的说明只是用于帮助理解本发明的核心思想;同时,对于本领域的一般技术人员,依据本发明的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
Claims (1)
1.一种光固化型耐热全息防伪膜的制备方法,其特征在于,所述光固化型耐热全息防伪膜为层状结构,由外向内依次包括载体层(1)、防伪信息层(2)、脱膜层(3)和粘接层(4),所述载体层(1)为聚对苯二甲酸乙二酯膜,所述防伪信息层(2)为光固化型耐热丙烯酸树脂层,其耐热温度为260℃以上,所述光固化型耐热丙烯酸树脂中添加有纳米级气相二氧化硅,所述纳米级气相二氧化硅的粒径为35nm,所述防伪信息层(2)中具有凹凸的全息图案,所述脱膜层(3)为聚四氟乙烯涂层,所述粘接层(4)为热熔胶层,所述载体层(1)的厚度为1μm,所述防伪信息层(2)的厚度为2μm,所述脱膜层(3)的厚度为0.5μm,所述粘接层(4)的厚度为1μm,所述防伪信息层(2)中全息图案的纹理深度为1μm;所述光固化型耐热全息防伪膜的制备方法包括如下步骤:
1)在载体层(1)上涂布防伪信息层(2)并烘干;
2)在烘干后的防伪信息层(2)上涂布脱膜层(3)并烘干;
3)对涂布有脱膜层(3)和防伪信息层(2)的载体层(1)加热,加热至180℃时,采用模压机隔着脱膜层(3)对防伪信息层(2)进行模压,将全息图案模压至防伪信息层(2)中,模压温度为120-150℃,模压深度为0.5-1μm;
4)对模压之后的由脱膜层(3)、防伪信息层(2)和载体层(1)构成的半成品进行光固化处理,使防伪信息层(2)中的全息图案得到固定;
5)对脱膜层(3)进行电晕处理,以提高脱膜层(3)与粘接层(4)之间的粘接强度,电晕处理间隙为1-2毫米,处理电压为10-20kV,处理时间为10-15分钟,处理温度为30-60℃;
6)在脱膜层(3)上刮涂粘接层(4)并烘干,完成光固化型耐热全息防伪膜的制作。
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