CN110518021A - 显示基板及其制备方法和显示面板 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及显示技术领域，公开了一种显示基板及其制备方法和显示面板，显示基板，包括柔性衬底，柔性衬底包括折弯区域，折弯区域形成有第一凹槽，至少第一凹槽的内壁形成有第一柔性层，在第一凹槽底部的第一柔性层上形成有至少一条凸筋，第一柔性层上形成有覆盖凸筋的布线层，且布线层覆盖凸筋处形成凸起与凹陷交替的形状，凸起的位置与凸筋的位置对应。在折弯区域布线层覆盖凸筋处形成凸起与凹陷交替的形状，凹凸相间的布线结构相较于平面的布线结构，在进行弯折时，凹凸弯折的区域可以产生较大量的延展，通过凹凸弯折区域的延展可以减小弯折时的应力，有利于降低布线层产生断裂的风险，提高了弯折区域的信耐性。

Description

显示基板及其制备方法和显示面板
技术领域
本申请一般涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制备方法和显示面板。
背景技术
随着用户对电子产品小型化及便携等需求的增加，传统的显示装置已不能满足此种需求，为了解决此问题近年来出现了柔性显示产品，但现有的柔性显示，其弯折区设计不能满足需要，在多次弯折后，弯折区的走线存在断裂的风险。
发明内容
本申请期望提供一种显示基板及其制备方法和显示面板，用以降低弯折区的走线存在断裂的风险。
本申请一方面提供一种显示基板，包括柔性衬底，所述柔性衬底包括折弯区域，所述折弯区域形成有第一凹槽，至少所述第一凹槽的内壁形成有第一柔性层，在所述第一凹槽底部的所述第一柔性层上形成有至少一条凸筋，所述第一柔性层上形成有覆盖所述凸筋的布线层，且所述布线层覆盖所述凸筋处形成凸起与凹陷交替的形状，所述凸起的位置与所述凸筋的位置对应。
进一步地，所述布线层上形成有平坦化层，所述平坦化层上背离所述柔性衬底的一侧形成有至少一条第二凹槽，所述第二凹槽对应于形成所述凸筋的区域；和/或，
所述第一凹槽的侧壁与底面之间的夹角小于50°。
进一步地，在所述第一凹槽内所述第一柔性层形成有第三凹槽，在所述第三凹槽内所述布线层上形成有第四凹槽，在所述第四凹槽内所述平坦化层上形成有所述第二凹槽。
本申请第二方面提供一种显示基板的制备方法，包括：
提供柔性衬底，所述柔性衬底包括折弯区域；
在所述折弯区域形成有第一凹槽，至少在所述第一凹槽的内壁形成有第一柔性层，在所述第一凹槽底部的所述第一柔性层上形成有至少一条凸筋；
在所述第一柔性层上形成有覆盖所述凸筋的布线层，且所述布线层覆盖所述凸筋处形成凸起与凹陷交替的形状，所述凸起的位置与所述凸筋的位置对应。
进一步地，在所述布线层上涂覆第一聚酰亚胺光刻胶，对所述第一聚酰亚胺光刻胶进行曝光并显影，形成具有至少一条第二凹槽的平坦化层，所述第二凹槽形成于所述平坦化层背离所述柔性衬底的一侧，所述第二凹槽对应于形成所述凸筋的区域。
进一步地，所述在所述折弯区域形成有第一凹槽，至少在所述第一凹槽的内壁形成有第一柔性层，在所述第一凹槽底部的所述第一柔性层上形成有至少一条凸筋，具体包括：
在柔性衬底上依次形成缓冲层、第一绝缘层、第二绝缘层及层间绝缘层；
在折弯区域开设第一凹槽，所述第一凹槽暴露出所述柔性衬底；
涂覆第二聚酰亚胺光刻胶，所述第二聚酰亚胺光刻胶覆盖层间绝缘层及所述第一凹槽暴露出的柔性衬底，对所述第二聚酰亚胺光刻胶进行曝光并显影，在所述第一凹槽内形成具有第三凹槽的第一柔性层，且所述第一凹槽底部的所述第一柔性层上形成有至少一条凸筋。
进一步地，所述在所述第一柔性层上形成有覆盖所述凸筋的布线层，且所述布线层覆盖所述凸筋处形成凸起与凹陷交替的形状，所述凸起的位置与所述凸筋的位置对应，具体包括：
沉积布线层，所述布线层覆盖所述第一柔性层，且在所述第三凹槽内所述布线层上形成有第四凹槽；
通过构图工艺刻蚀掉相邻所述凸筋之间布线层的部分厚度，在所述布线层覆盖所述凸筋处形成凸起与凹陷交替的形状，所述凸起的位置与所述凸筋的位置对应。
进一步地，所述在所述折弯区域形成有第一凹槽，至少在所述第一凹槽的内壁形成有第一柔性层，在所述第一凹槽底部的所述第一柔性层上形成有至少一条凸筋，具体包括：
在柔性衬底上依次形成缓冲层、第一绝缘层、第二绝缘层及层间绝缘层；
在折弯区域开设第一凹槽，所述第一凹槽暴露出所述柔性衬底；
涂覆第二聚酰亚胺光刻胶，所述第二聚酰亚胺光刻胶覆盖层间绝缘层及所述第一凹槽暴露出的柔性衬底，对所述第二聚酰亚胺光刻胶进行曝光并显影，在所述第一凹槽内形成具有第三凹槽的第一柔性层；
通过构图工艺在第一柔性层上形成无机材料层，所述无机材料层包括多条所述凸筋。
进一步地，所述在所述第一柔性层上形成有覆盖所述凸筋的布线层，且所述布线层覆盖所述凸筋处形成凸起与凹陷交替的形状，所述凸起的位置与所述凸筋的位置对应，具体包括：
沉积布线层，所述布线层覆盖所述层间绝缘层及第一柔性层，且在所述第三凹槽内所述布线层上形成有第四凹槽；
通过构图工艺刻蚀掉相邻所述凸筋之间布线层的部分厚度，在所述布线层覆盖所述凸筋处形成凸起与凹陷交替的形状，所述凸起的位置与所述凸筋的位置对应。
本申请第三方面提供一种显示面板，包括上述的显示基板。
本申请提供的上述方案，在折弯区域布线层覆盖凸筋处形成凸起与凹陷交替的形状，凹凸相间的布线结构相较于平面的布线结构，在相同的宽度上，其总长度较长，在进行弯折时，凹凸弯折的区域可以产生较大量的延展，通过凹凸弯折区域的延展可以减小弯折时的应力，有利于降低布线层产生断裂的风险，提高了弯折区域的信耐性。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1为本发明实施例提供的显示基板的俯视图；
图2-8为本发明实施例提供的显示基板的制作过程结构示意图；
图9-10为本发明另一实施例提供的显示基板的制作过程中的结构示意图；
图11为本发明实施例提供的显示基板制备方法的流程图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
如图1-8所示，本发明实施例提供的显示基板，包括柔性衬底1，柔性衬底1包括折弯区域，折弯区域形成有第一凹槽6，至少第一凹槽6的内壁形成有第一柔性层7，在第一凹槽6底部的第一柔性层7上形成有至少一条凸筋8，第一柔性层7上形成有覆盖所述凸筋8的布线层10，且布线层10覆盖凸筋8处形成凸起11与凹陷12交替的形状，凸起11的位置与凸筋8的位置对应。
需要说明的是，折弯区域可以位于非显示区BB，也可以位于显示区AA。图1中虚线标出的区域为折弯区域，该折弯区域仅是用于示例，并非对折弯区域的具体位置及折弯方向的限定。
其中，凸筋8可以是与第一柔性层7通过相同的材料一体形成，也可以采用不同的材料分体形成，下文将对凸筋8与第一柔性层7一体形成及分体形成进行详细描述。
上述方案，在折弯区域布线层10覆盖凸筋8处形成凸起11与凹陷12交替的形状，凹凸相间的布线结构相较于平面的布线结构，在相同的宽度上，其总长度较长，在进行弯折时，凹凸弯折的区域可以产生较大量的延展，通过凹凸弯折区域的延展可以减小弯折时的应力，有利于降低布线层10产生断裂的风险，提高了弯折区域的信耐性。
进一步地，在布线层10上形成有平坦化层13，平坦化层13上背离所述柔性衬底1的一侧形成有至少一条第二凹槽15，第二凹槽15对应于形成凸筋8的区域。通过在形成凸筋8的区域设置第二凹槽15，降低了折弯区域的整体厚度，随之降低了折弯区域在折弯时的应力，进一步提高了弯折区域的信耐性。平坦化层13可以采用PI材料或平坦化(PLN)材料，下文以PI材料为例进行说明。
作为一种可实现方式，第一凹槽6的侧壁与底面之间的夹角α小于50°，以降低侧壁的陡峭程度，一方面防止形成布线层10时造成布线层10短线，另外一方面防止第一凹槽6开口处残存光刻胶，造成布线层10短路。
进一步地，在第一凹槽6内第一柔性层7形成有第三凹槽9，在第三凹槽9内布线层10上形成有第四凹槽14，在第四凹槽14内平坦化层13上形成有第二凹槽15。上述结构也即在折弯区域形成多层槽状结构，以最大限度的降低折弯区域的整体厚度，使折弯区域在折弯时降低应力。
下面通过具体实施方式对本发明的技术方案进行详细描述。
本文中所说的“构图工艺”包括沉积膜层、涂覆光刻胶、掩模曝光、显影、刻蚀、剥离光刻胶等处理，是现有成熟的制备工艺。沉积可采用溅射、蒸镀、化学气相沉积等已知工艺，涂覆可采用已知的涂覆工艺，刻蚀可采用已知的方法，在此不做具体的限定。
下面通过显示基板的制备过程详细说明本申请的技术方案。本申请制备显示基板的总体过程为，先在衬底基板上形成柔性衬底1，随后在柔性衬底1上形成各柔性层、绝缘层等结构层，待显示基板制备完成后，将柔性衬底1与衬底基板剥离。其中，衬底基板可以采用玻璃或硅等材料，柔性衬底1可以采用聚酰亚胺(Polyimide，PI)材料。
1、在柔性衬底1上依次形成缓冲层2、第一绝缘层3、第二绝缘层4及层间绝缘层5，如图2所示。
可以采用沉积工艺在柔性衬底1上依次形成缓冲层2、第一绝缘层3、第二绝缘层4及层间绝缘层5。
例如但不限于，缓冲层2、第一绝缘层3、第二绝缘层4及层间绝缘层5均可以采用氧化硅SiOx、氮化硅SiNx或氮氧化硅Si(ON)x材料，可以为单层、双层或者多层结构，如SiNx/SiOx的复合薄膜，这样可以起到更好的阻挡和平坦作用，同时也有利于薄膜之间的应力释放。
2、在弯折区域形成第一凹槽6。
在层间绝缘层5上涂覆光刻胶，采用单色调掩膜版对光刻胶进行曝光并显影，在弯折区域形成完全曝光区域，光刻胶被去除，暴露出层间绝缘层5，其余位置形成未曝光区域，保留光刻胶，对完全曝光区域进行刻蚀并剥离剩余的光刻胶，形成第一凹槽6图案，如图3所示。进行刻蚀时，弯折区域的缓冲层2、第一绝缘层3、第二绝缘层4及层间绝缘层5被刻蚀掉，形成暴露出柔性衬底1的第一凹槽6。此工艺后，弯折区域的柔性衬底1上没有结构层。
3、形成第一柔性层7。
涂覆第二聚酰亚胺光刻胶，如图4所示。第二聚酰亚胺光刻胶覆盖层间绝缘层5及第一凹槽6暴露出的柔性衬底1，采用半色调掩膜版对第二聚酰亚胺光刻胶进行曝光并显影，在弯折区域形成部分曝光区域，第二聚酰亚胺光刻胶被部分去除，形成第三凹槽9图案，且在第三凹槽9的底部具有至少一条凸筋8，采用半色调掩膜版对第二聚酰亚胺光刻胶进行曝光并显影形成了与第一柔性层7为一体结构的至少一条凸筋8，该实施例中采用两条凸筋8，如图5所示。
4、形成布线层10。
通过沉积工艺在第一柔性层7上形成布线层10，布线层10覆盖第一柔性层7，且在第三凹槽9内布线层10上形成有第四凹槽14。通过构图工艺刻蚀掉相邻凸筋8之间布线层10的部分厚度，在布线层10覆盖凸筋8处形成凸起11与凹陷12交替的形状，凸起11的位置与凸筋8的位置对应，如图6所示。布线层10可以采用铂Pt、钌Ru、金Au、银Ag、钼Mo、铬Cr、铝Al、钽Ta、钛Ti、钨W等金属中的一种或多种，可以为单层、双层或者多层结构。优选为Ti/Al/Ti三层结构。
5、形成平坦化层13。
在布线层10上涂覆第一聚酰亚胺光刻胶，如图7所示。采用单色调掩膜版对第一聚酰亚胺光刻胶进行曝光并显影，在弯折区域形成部分曝光区域，第一聚酰亚胺光刻胶被部分去除，形成具有至少一条第二凹槽15的平坦化层13，第二凹槽15形成于平坦化层13背离柔性衬底1的一侧，第二凹槽15对应于形成凸筋8的区域，如图8所示。
实际实施时，可以根据实际的需要来设置凸筋8及第二凹槽15的数量。
除上述制备过程外，还可以采用其它的制备过程。在另外的一个制备过程中，其与上述的制备过程主要区别在第3步骤，其余步骤可以相同。
在该制备过程的第3步骤中，涂覆第二聚酰亚胺光刻胶，第二聚酰亚胺光刻胶覆盖层间绝缘层5及第一凹槽6暴露出的柔性衬底1，采用单色调掩膜版对第二聚酰亚胺光刻胶进行曝光并显影，在弯折区域形成部分曝光区域，第二聚酰亚胺光刻胶被部分去除，形成第三凹槽9图案，在此工艺后形成的第一柔性层7位于第三凹槽9底部的面为平面，如图9所示。然后在第一柔性层7上沉积无机材料薄膜，在无机材料薄膜上涂覆光刻胶，采用单色调掩膜版对光刻胶进行曝光并显影，在弯折区域形成完全曝光区域，光刻胶被去除，于形成凸筋8的位置暴露出无机材料薄膜，其余位置形成未曝光区域，保留光刻胶，对完全曝光区域进行刻蚀并剥离剩余的光刻胶，凸筋8图案，如图10所示。此步骤形成的凸筋8与第一柔性层7为不同材料的分体结构。无机材料薄膜可以采用氧化硅SiOx、氮化硅SiNx或氮氧化硅Si(ON)x材料，可以为单层、双层或者多层结构，如SiNx/SiOx的复合薄膜。
如图11所示，本申请还提供一种显示基板的制备方法，包括：
S1：提供柔性衬底1，所述柔性衬底1包括折弯区域；
S2：在所述折弯区域形成有第一凹槽6，至少在所述第一凹槽6的内壁形成有第一柔性层7，在所述第一凹槽6底部的所述第一柔性层7上形成有至少一条凸筋8；
S3：在所述第一柔性层7上形成有覆盖所述凸筋8的布线层10，且所述布线层10覆盖所述凸筋8处形成凸起11与凹陷12交替的形状，所述凸起11的位置与所述凸筋8的位置对应。
进一步地，S3之后还包括：
S4：在所述布线层10上涂覆第一聚酰亚胺光刻胶，对所述第一聚酰亚胺光刻胶进行曝光并显影，形成具有至少一条第二凹槽15的平坦化层13，所述第二凹槽15形成于所述平坦化层13背离所述柔性衬底1的一侧，所述第二凹槽15对应于形成所述凸筋8的区域。
进一步地，S2具体包括：
S211：在柔性衬底1上依次形成缓冲层2、第一绝缘层3、第二绝缘层4及层间绝缘层5；
S212：在折弯区域开设第一凹槽6，所述第一凹槽6暴露出所述柔性衬底1；
S213：涂覆第二聚酰亚胺光刻胶，所述第二聚酰亚胺光刻胶覆盖层间绝缘层5及所述第一凹槽6暴露出的柔性衬底1，对所述第二聚酰亚胺光刻胶进行曝光并显影，在所述第一凹槽6内形成具有第三凹槽9的第一柔性层7，且所述第一凹槽6底部的所述第一柔性层7上形成有至少一条凸筋8。
作为另外一种可实现方式，S2具体包括：
S221：在柔性衬底1上依次形成缓冲层2、第一绝缘层3、第二绝缘层4及层间绝缘层5；
S222：在折弯区域开设第一凹槽6，所述第一凹槽6暴露出所述柔性衬底1；
S223：涂覆第二聚酰亚胺光刻胶，所述第二聚酰亚胺光刻胶覆盖层间绝缘层5及所述第一凹槽6暴露出的柔性衬底1，对所述第二聚酰亚胺光刻胶进行曝光并显影，在所述第一凹槽6内形成具有第三凹槽9的第一柔性层7；
S224：通过构图工艺在第一柔性层7上形成无机材料层，所述无机材料层包括多条所述凸筋8。
进一步地，S3具体包括：
S31：沉积布线层10，所述布线层10覆盖所述层间绝缘层5及第一柔性层7，且在所述第三凹槽9内所述布线层10上形成有第四凹槽14；
S32：通过构图工艺刻蚀掉相邻所述凸筋8之间布线层10的部分厚度，在所述布线层10覆盖所述凸筋8处形成凸起11与凹陷12交替的形状，所述凸起11的位置与所述凸筋8的位置对应。
本申请还提供一种显示面板，包括上述的显示基板。该显示面板可以应用于手机、平板电脑等。
以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。

Claims (10)

1.一种显示基板，包括柔性衬底，所述柔性衬底包括折弯区域，所述折弯区域形成有第一凹槽，其特征在于，至少所述第一凹槽的内壁形成有第一柔性层，在所述第一凹槽底部的所述第一柔性层上形成有至少一条凸筋，所述第一柔性层上形成有覆盖所述凸筋的布线层，且所述布线层覆盖所述凸筋处形成凸起与凹陷交替的形状，所述凸起的位置与所述凸筋的位置对应。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述布线层上形成有平坦化层，所述平坦化层上背离所述柔性衬底的一侧形成有至少一条第二凹槽，所述第二凹槽对应于形成所述凸筋的区域；和/或，
所述第一凹槽的侧壁与底面之间的夹角小于50°。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，在所述第一凹槽内所述第一柔性层形成有第三凹槽，在所述第三凹槽内所述布线层上形成有第四凹槽，在所述第四凹槽内所述平坦化层上形成有所述第二凹槽。
4.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：
提供柔性衬底，所述柔性衬底包括折弯区域；
在所述折弯区域形成有第一凹槽，至少在所述第一凹槽的内壁形成有第一柔性层，在所述第一凹槽底部的所述第一柔性层上形成有至少一条凸筋；
在所述第一柔性层上形成有覆盖所述凸筋的布线层，且所述布线层覆盖所述凸筋处形成凸起与凹陷交替的形状，所述凸起的位置与所述凸筋的位置对应。
5.根据权利要求4所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在所述布线层上涂覆第一聚酰亚胺光刻胶，对所述第一聚酰亚胺光刻胶进行曝光并显影，形成具有至少一条第二凹槽的平坦化层，所述第二凹槽形成于所述平坦化层背离所述柔性衬底的一侧，所述第二凹槽对应于形成所述凸筋的区域。
6.根据权利要求5所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述在所述折弯区域形成有第一凹槽，至少在所述第一凹槽的内壁形成有第一柔性层，在所述第一凹槽底部的所述第一柔性层上形成有至少一条凸筋，具体包括：
在柔性衬底上依次形成缓冲层、第一绝缘层、第二绝缘层及层间绝缘层；
在折弯区域开设第一凹槽，所述第一凹槽暴露出所述柔性衬底；
涂覆第二聚酰亚胺光刻胶，所述第二聚酰亚胺光刻胶覆盖层间绝缘层及所述第一凹槽暴露出的柔性衬底，对所述第二聚酰亚胺光刻胶进行曝光并显影，在所述第一凹槽内形成具有第三凹槽的第一柔性层，且所述第一凹槽底部的所述第一柔性层上形成有至少一条凸筋。
7.根据权利要求6所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述在所述第一柔性层上形成有覆盖所述凸筋的布线层，且所述布线层覆盖所述凸筋处形成凸起与凹陷交替的形状，所述凸起的位置与所述凸筋的位置对应，具体包括：
沉积布线层，所述布线层覆盖所述第一柔性层，且在所述第三凹槽内所述布线层上形成有第四凹槽；
通过构图工艺刻蚀掉相邻所述凸筋之间布线层的部分厚度，在所述布线层覆盖所述凸筋处形成凸起与凹陷交替的形状，所述凸起的位置与所述凸筋的位置对应。
8.根据权利要求4或5所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述在所述折弯区域形成有第一凹槽，至少在所述第一凹槽的内壁形成有第一柔性层，在所述第一凹槽底部的所述第一柔性层上形成有至少一条凸筋，具体包括：
在柔性衬底上依次形成缓冲层、第一绝缘层、第二绝缘层及层间绝缘层；
在折弯区域开设第一凹槽，所述第一凹槽暴露出所述柔性衬底；
涂覆第二聚酰亚胺光刻胶，所述第二聚酰亚胺光刻胶覆盖层间绝缘层及所述第一凹槽暴露出的柔性衬底，对所述第二聚酰亚胺光刻胶进行曝光并显影，在所述第一凹槽内形成具有第三凹槽的第一柔性层；
通过构图工艺在第一柔性层上形成无机材料层，所述无机材料层包括多条所述凸筋。
9.根据权利要求8所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述在所述第一柔性层上形成有覆盖所述凸筋的布线层，且所述布线层覆盖所述凸筋处形成凸起与凹陷交替的形状，所述凸起的位置与所述凸筋的位置对应，具体包括：
沉积布线层，所述布线层覆盖所述层间绝缘层及第一柔性层，且在所述第三凹槽内所述布线层上形成有第四凹槽；
通过构图工艺刻蚀掉相邻所述凸筋之间布线层的部分厚度，在所述布线层覆盖所述凸筋处形成凸起与凹陷交替的形状，所述凸起的位置与所述凸筋的位置对应。
10.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1或2或3所述的显示基板。
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