CN110471569B - 基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

基板及其制备方法、显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN110471569B
CN110471569B CN201910759083.5A CN201910759083A CN110471569B CN 110471569 B CN110471569 B CN 110471569B CN 201910759083 A CN201910759083 A CN 201910759083A CN 110471569 B CN110471569 B CN 110471569B
Authority
CN
China
Prior art keywords
substrate
electrode
layer
electrode layer
strip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201910759083.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110471569A (zh
Inventor
戴明
李易峰
刘红灿
曹鑫
陈竹
樊浩原
尹正民
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Mianyang BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Mianyang BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Mianyang BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201910759083.5A priority Critical patent/CN110471569B/zh
Publication of CN110471569A publication Critical patent/CN110471569A/zh
Priority to US16/942,154 priority patent/US11366537B2/en
Application granted granted Critical
Publication of CN110471569B publication Critical patent/CN110471569B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0412—Digitisers structurally integrated in a display
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0443—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a single layer of sensing electrodes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/13338—Input devices, e.g. touch panels
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0446—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0448—Details of the electrode shape, e.g. for enhancing the detection of touches, for generating specific electric field shapes, for enhancing display quality
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/621—Providing a shape to conductive layers, e.g. patterning or selective deposition
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04111—Cross over in capacitive digitiser, i.e. details of structures for connecting electrodes of the sensing pattern where the connections cross each other, e.g. bridge structures comprising an insulating layer, or vias through substrate
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04112—Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/38—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/40—OLEDs integrated with touch screens
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

一种基板及其制备方法、显示装置，该基板包括基底以及位于所述基底上的触控结构层，所述触控结构层包括叠置在所述基底上的第一电极层、滤色层和第二电极层；其中，所述滤色层位于所述第一电极层和所述第二电极层之间，滤色层集成在触控结构层中，可以简化基板的结构，有利于基板的轻薄化设计。

Description

基板及其制备方法、显示装置
技术领域
本公开至少一个实施例涉及一种基板及其制备方法、显示装置。
背景技术
具有触控功能的电子显示产品愈来愈受到消费者的青睐，目前比较常见的技术包括电阻式、电容式以及光学式等，其中电容式触控板由于具有高准确率、多点触控、高耐用性以及高触控解析度等特点，已成为目前中高阶消费性电子产品使用的主流触控技术。
但是，对于当前的具有触控结构的基板的结构比较复杂，限制了基板的轻薄化设计，且制备工艺复杂，此外，触控结构距离触摸对象(例如手指)的距离较大，触控功能的灵敏度低。
发明内容
本公开至少一个实施例提供一种基板，该基板包括基底以及位于所述基底上的触控结构层，所述触控结构层设置在所述基底上，且包括彼此叠置的第一电极层、滤色层和第二电极层；其中，所述滤色层位于所述第一电极层和所述第二电极层之间。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，所述第一电极层和所述第二电极层之一包括多个并列排布的第一条状电极，所述第一电极层和所述第二电极层之另一包括多个并列排布的第二条状电极，所述第一条状电极和所述第二条状电极彼此交叉。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，所述第一电极层包括多个并列排布的第一条状电极和多个并列排布的第二条状电极，所述第一条状电极和所述第二条状电极彼此交叉且所述第一条状电极在与所述第二条状电极的交叉处断开，所述第二电极层包括多个连接桥，所述第一条状电极在与所述第二条状电极的交叉处断开的部分通过所述连接桥连接。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，所述滤色层中设置有过孔，所述连接桥通过所述过孔与所述第一条状电极连接。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，所述第二电极层位于所述基底和所述滤色层之间。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，所述基底包括显示阵列层，所述显示阵列层包括多个发光器件，所述滤色层包括多个滤色器，所述多个滤色器包括至少两种颜色且与多个所述发光器件一一对应。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板还包括黑矩阵，所述滤色层包括多个滤色器，所述黑矩阵设置在所述多个滤色器之间。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，所述触控结构层包括多个子触控区域，所述第一电极层和所述第二电极层至少之一的位于所述子触控区域的部分设置为网格状电极。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，所述网格状电极包括多个电极条，多个所述电极条彼此交叉以形成多个与所述发光器件一一对应的开口，以及所述开口在所述基底所在面上的正投影与对应的所述发光器件在所述基底所在面上的正投影重合，所述电极条在所述基底所在面上的正投影位于所述发光器件在所述基底所在面上的正投影之外。
例如，本公开至少一个实施例提供的基板还包括黑矩阵，所述黑矩阵设置为与所述网格状电极的背离所述基底的表面接触；其中，所述黑矩阵在所述基底所在面上的正投影所述发光器件在所述基底所在面上的正投影之外。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，所述黑矩阵设置在所述网格状电极的背离所述基底的表面、与所述表面相接的侧表面处，所述网格状电极为不透明电极。
本公开至少一个实施例提供一种显示装置，该显示装置包括上述任一实施例中的基板。
本公开至少一个实施例提供一种基板的制备方法，包括：提供基底；以及形成所述触控结构层，包括：在所述基底上形成所述触控电极层，所述触控电极层包括第一电极层、滤色层和第二电极层的叠层；其中，所述滤色层形成在所述第一电极层和所述第二电极层之间。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板的制备方法中，形成所述触控结构层包括：在所述基底上沉积第一导电材料薄膜并对其进行构图工艺，以形成包括多个并列排布的第一条状电极的所述第一电极层；在所述第一电极层上沉积覆盖所述第一电极层的绝缘材料以形成滤色层；以及在所述基底上沉积第二导电材料薄膜并对其进行构图工艺，以形成包括多个并列排布的第二条状电极的所述第二电极层，其中所述第一条状电极和所述第二条状电极彼此交叉。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板的制备方法中，形成所述触控结构层包括：在所述基底上沉积第二导电材料薄膜并对其进行构图工艺，以形成包括多个连接桥的所述第二电极层；在所述第二电极层上沉积覆盖所述第二电极层的绝缘材料以形成滤色层，对所述滤色层进行构图工艺以形成多个开孔以暴露所述连接桥的部分；以及在所述基底上沉积第一导电材料薄膜并对其进行构图工艺，以形成包括多个并列排布的第一条状电极和多个并列排布的第一条状电极的所述第一电极层，所述第一条状电极和所述第二条状电极彼此交叉且所述第一条状电极在与所述第二条状电极的交叉处断开，所述第一条状电极在与所述第二条状电极的交叉处断开的部分通过所述连接桥连接。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板的制备方法中，所述滤色层形成为包括至少两种颜色的多个滤色器，所述基底形成为包括具有多个发光器件的显示阵列层，形成所述触控结构层还包括：在对所述第一导电层和所述第二导电层至少之一进行构图工艺，以使得所述第一导电层和所述第二导电层至少之一形成为网格状电极，所述网格状电极包括多个电极条，多个所述电极条彼此交叉以形成多个开口；其中，所述开口在所述基底所在面上的正投影与所述发光器件在所述基底所在面上的正投影重合，所述电极条在所述基底所在面上的正投影位于所述发光器件的间隙在所述基底所在面上的正投影之内。
例如，本公开至少一个实施例提供的基板的制备方法还包括：在所述触控结构层的背离所述基底的表面上形成黑矩阵；其中，所述黑矩阵在所述基底所在面上的正投影位于所述发光器件的间隙在所述基底所在面上的正投影之内。
在本公开至少一个实施例提供的基板及其制备方法、显示装置中，滤色层位于触控结构层中，并充当第一电极层、滤色层和第二电极层之间的绝缘层，从而不需要在触控结构层之外再额外形成滤色层，可以简化基板的结构，简化基板的制备工艺并有利于基板的轻薄化设计。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例，而非对本发明的限制。
图1为本公开一些实施例提供的一种基板的截面图；
图2A为本公开一些实施例提供的一种基板的部分结构的平面图；
图2B为图2A所示基板沿着M1-N1的截面图；
图3A为本公开一些实施例提供的另一种基板的部分结构的平面图；
图3B为图3A所示基板的一个子触控区域的平面图；
图3C为图3A所示基板沿着M2-N2的截面图；
图3D为本公开实施例提供的示例性基板的截面图；
图4A为本公开一些实施例提供的一种基板的部分结构的平面图；
图4B为图4A所示基板沿着M3-N3的截面图；
图5为本公开一些实施例提供的一种基板的截面图；
图6为本公开一些实施例提供的一种基板的截面图；以及
图7A～图7E为本公开一些实施例提供的一种基板的制备方法的过程图。
附图标记：
10-第一条状电极；11-电极条；20-第二条状电极；30-连接桥；40-过孔；100-基底；110-显示阵列层；111-发光器件；112-像素界定层；120-驱动电路层；130-封装层；200-触控结构层；210-第一电极层；220-第二电极层；230-滤色层；300-黑矩阵；400-盖板；500-光学胶层。
具体实施方式
为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
在当前的具有显示功能的基板中，通常会设置滤色层以减少因反射外界光造成的干扰，从而提高图像的清晰度。例如，在基板上设置触控结构以具备触控功能，如此，基板的设计厚度大，结构和制备工艺复杂。此外，滤色层通常会设置在触控结构的用于触摸的一侧，从而增加触控结构和触摸对象(例如手指)的距离，从而降低触控的灵敏度。
本公开至少一个实施例提供一种基板，该基板包括基底以及位于基底上的触控结构层，触控结构层包括叠置在基底上的第一电极层、滤色层和第二电极层，滤色层位于第一电极层和第二电极层之间。例如，滤色层为绝缘层。滤色层位于触控结构层中，并充当第一电极层、滤色层和第二电极层之间的绝缘层，从而不需要在触控结构层之外再额外形成滤色层，可以简化基板的结构，简化基板的制备工艺并有利于基板的轻薄化设计，并提高基板的触控功能的灵敏度。
下面，结合附图对根据本公开至少一个实施例中的基板及其制备方法、显示装置进行说明。在该附图中，以基板的基底为参考建立空间直角坐标系，以对基板中的各个部件的位置进行说明。在该空间直角坐标系中，X轴和Y轴与基底所在面平行，Z轴与基底所在面垂直。
如图1所示，本公开至少一个实施例提的基板包括基底100以及依次叠置在基底100上的触控结构层200，触控结构层200包括彼此叠置的第二电极层220、滤色层230和第一电极层210。
需要说明的是，在本公开的实施例中，对触控结构层的具体化结构不做限制，只要滤色层位于触控结构层的两个电极层之间即可，触控结构层的结构可以根据实际需要进行设计。下面，在一些实施例中，对触控结构层的几种结构进行说明。
例如，在本公开一些实施例提供的基板中，第一电极层和第二电极层之一包括多个并列排布的第一条状电极，第一电极层和第二电极层之另一包括多个并列排布的第二条状电极，第一条状电极和第二条状电极彼此交叉。示例性的，如图2A和图2B所示，第一电极层210包括多个沿着X轴方向延伸的第一条状电极10，多个第一条状电极10沿着Y轴方向间隔排布，第二电极层220包括多个沿着Y轴方向延伸的第二条状电极20，多个第二条状电极20沿着X轴方向间隔排布。如此，多个第一条状电极10和多个第二条状电极20位于不同层且彼此交叉。滤色层230位于第一电极层210和第二电极层220之间，以使得第一条状电极10和第二条状电极20彼此间隔。例如，第一条状电极10和第二条状电极20之一为驱动电极，第一条状电极10和第二条状电极20之另一为感应电极。
需要说明的是，在本公开的实施例中，在第一电极层包括多个并列排布的第一条状电极，第二电极层包括多个并列排布的第二条状电极的情况下，第二电极层、滤色层和第一电极层可以如图2A和图2B所示的依次叠置在基底100上，或者，第一电极层、滤色层和第二电极层依次叠置在基底上。
例如，在本公开另一些实施例提供的基板中，第一电极层包括多个并列排布的第一条状电极和多个并列排布的第二条状电极，第一条状电极和第二条状电极彼此交叉且第一条状电极在与第二条状电极的交叉处断开，第二电极层包括多个连接桥，第一条状电极在与第二条状电极的交叉处断开的部分通过连接桥连接。
示例性的，如图3A、图3B和图3C所示，第一电极层210a包括多个沿着Y轴方向延伸的第一条状电极10a和多个沿着X轴方向延伸的第二条状电极20a，多个第一条状电极10a沿着X轴方向间隔排布，多个第二条状电极20a沿着Y轴方向间隔排布。例如，第一条状电极10a可以包括多个彼此连接的电极块，例如，如图3B所示的菱形块，以及将电极块彼此连接的电极条，第二条状电极20也可以包括多个彼此连接的电极块，例如，如图3B所示的菱形块，以及将电极块彼此连接的电极条，其中一个条状电极的电极条为连接桥。备选地，该电极块也可以是其他形状，这样可以使得第一条状电极的交叠面积较大提高触控灵敏度，而且每个电极块的形状相同也利于制作。备选地，第一条状电极10a可以是连续设置的条状电极，第二条状电极20a可以包括多个在第一条状电极处断开的多段电极，不同段电极之间通过连接桥连接。本公开的实施例并不对此进行限制。如此，多个第一条状电极10a和多个第二条状电极20a同层且彼此交叉。在第一条状电极10a和第二条状电极20a的交叉处，第一条状电极10a断开，第二条状电极20a未断开。第二电极层220a包括多个连接桥30，连接桥30分布在第一条状电极10a和第二条状电极20a的交叉处，以连接第一条状电极10a断开的部分。例如，如图3A所示，触控结构层包括多个子触控区域2011，如图3B所示，在每个子触控区域2011中，第一条状电极10a包括两个彼此断开的第一子电极101和第二子电极102，第二条状电极20a包括两个彼此连接的第三子电极201和第四子电极202。
例如，在本公开至少一个实施例中，第一条状电极和第二条状电极的子电极(例如第一子电极，即，电极块)的平面形状可以为如图3A和图3B所示的四边形，例如矩形、菱形等，从而增加的第一条状电极和第二条状电极的平面面积，以增加触控结构层的灵敏度。需要说明的是。图3B中示出每个子电极的一部分。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，在第一电极层包括多个并列排布的第一条状电极和多个并列排布的第二条状电极的情况下，滤色层中设置有过孔，连接桥通过过孔与第一条状电极连接。示例性的，如图3C所示，在第一条状电极10a和第二条状电极20a交叉的区域，滤色层230中设置有过孔40，第一条状电极10a通过过孔40与连接桥30连接。例如，图3B中的第一子电极101和第二子电极102分别通过不同的过孔40与连接桥30连接。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，在第一电极层包括多个并列排布的第一条状电极和多个并列排布的第二条状电极的情况下，第二电极层位于基底和滤色层之间(如图3C所示)，或者第一电极层位于基底和滤色层之间(如图3D所示)。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，滤色层可以设置为具有平坦化膜层，以提供平坦化的表面，以提高形成在滤色层的背离基底的表面上的第一电极层或第二电极层的质量(平坦度)。
下面，以如图3A、图3B、图3C所示的触控电极层设为例，对本公开下述至少一个实施例中的基板及其制备方法、显示装置进行说明。
例如，在本公开一些实施例提供的基板中，第一条状电极、第二条状电极、连接桥都可以设置为面状电极。在该情况下，第一条状电极、第二条状电极、连接桥的材料可以为透明导电材料。例如，透明导电材料可以为氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化铟镓(IGO)、氧化镓锌(GZO)氧化锌(ZnO)、氧化铟(In2O3)、氧化铝锌(AZO)、碳纳米管或其它透明导电材料。例如，在本公开至少一个实施例中，“透明”可以表示光的透过率为50％～100％，例如进一步为75％～100％。
例如，在本公开另一些实施例提供的基板中，触控结构层包括多个子触控区域，第一电极层和第二电极层至少之一的位于子触控区域的部分设置为具有网格状，也就是，形成为网格状电极。示例性的，如图3B和4A所示，第三子电极201设置为网格状电极，例如，第一子电极101、第二子电极102和第四子电极202也设置为网格状电极。例如，连接桥30也可以设置为网格状电极。网格状电极对外界光的反射少，从而减少触控结构层对外界光的反射，提高显示图像的对比度。
例如，网格状电极的网孔(下述的开口)可以使得显示图像透过，因此，网格状电极可以为透明电极也可以为不透明电极。例如，该不透明电极的材料可以为金属例如银、铝、铜等。例如，该不透明电极可以为多个膜层构成的电极，例如铬-铝-铬、钛-铝-钛等三层结构，从而具有较高的强度。此外，在基板用于柔性领域的情况下，网格状电极在弯曲时产生的应力小，不易在弯折过程中断裂，而且网格电极设置为多层结构(例如上述的三层)，可以提高其弯折能力，有利于基板的柔性设计。
下面，以第一条状电极、第二条状电极、连接桥都设置为网格状电极为例，对本公开下述至少一个实施例中的基板及其制备方法、显示装置进行说明。
例如，该基板可以是触控基板，或者可以是具有触控功能的阵列基板或对置基板，或者可以是具有触控功能的显示基板。
例如，该基板可以是液晶显示器的对置基板，该对置基板具有触控功能，或者可以是有机发光二极管显示的对置基板，本公开的实施例不对此进行限制。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，基底可以包括显示阵列层，显示阵列层包括多个发光器件。示例性的，如图4B所示，基底包括底板140以及位于底板140上的显示阵列层110，显示阵列层110包括多个发光器件111。发光器件111对应于基板的子像素。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，基底可以包括显示阵列层，显示阵列层包括多个液晶单元。液晶单元对应于基板的子像素。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，发光器件可以为有机发光二极管或量子点发光二极管，可以包括阳极、阴极以及位于阳极和阴极之间的发光功能层。例如，多个发光器件的发光功能层设置为可以发出不同颜色的光，例如红光、绿光、蓝光、黄光、白光等；例如多个发光器件的发光功能层设置为一体化以发出同一颜色的光线，例如白光、蓝光、黄光或者其它颜色的光线。
例如，在本公开至少一个实施例中，如图4B所示，显示阵列层110包括像素界定层112，发光器件111位于像素界定层112的开口中，即，像素界定层112位于发光器件111的间隙。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，网格状电极包括多个电极条，多个电极条彼此交叉以形成多个与发光器件一一对应的开口，以及开口在基底所在面上的正投影与对应的发光器件在基底所在面上的正投影重合，电极条在基底所在面上的正投影位于发光器件的间隙在基底所在面上的正投影之内。如此，网格状电极不会阻挡发光器件发出的光线，使得基板可以正常显示，例如，在网格状电极(电极条)为不透明电极的情况下，基板仍可以正常显示。示例性的，如图4A和图4B所示，显示阵列层包括网格状电极的电极条11在基底(其中的底板140)上的正投影位于发光器件111的间隙(像素界定层112)在基底(其中的底板140)上的正投影之内。如此，发光器件111发出的光线可以从由电极条11限定的开口12出射。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，滤色层包括多个滤色器，多个滤色器包括至少两种颜色且与多个发光器件一一对应，所述基板还包括：黑矩阵，所述黑矩阵设置在所述多个发光器件之间。示例性的，如图4B所示，滤色层包括多个滤色器，例如多个第一滤色器231、多个第二滤色器232、多个第三滤色器233，第一滤色器231、第二滤色器232和第三滤色器233的颜色不同，例如可以分别为红色、绿色、蓝色等。滤色器与发光器件一一对应。如此，在发光器件只发出一种颜色的光(例如白光、蓝光等)的情况下，滤色层可以使得基板能够显示彩色图像，在发光器件发出多种颜色的光的情况下，滤色器的颜色可以与对应的发光器件发出光的颜色相同。滤色器可以使得射入的外界光在被反射出基板时，反射光的颜色与滤色器的颜色相同，从而提高显示图像的对比度。
例如，在本公开至少一个实施例中，滤色器中可以设置有量子点，在特定波长的光线(例如蓝光)的激发下，可以产生不同颜色的光线。
例如，本公开至少一个实施例提供的基板还包括黑矩阵，设置在所述多个发光器件之间，黑矩阵在基底所在面上的正投影位于发光器件在基底所在面上的正投影之外，即，发光器件的间隙在基底所在面上的正投影之内。示例性的，如图5所示，黑矩阵300位于触控结构层的背离基底(其中的底板140)的一侧。需要说明的是，图5仅示出触控结构层的第一电极层(其中的网格状电极的电极条11)和滤色层(其中的滤色器例如第一滤色器231)，第二电极层(例如连接桥)未示出，第二电极层所在层位于滤色层和基底之间。黑矩阵300在基底(例如底板140)所在面上的正投影位于发光器件111在基底所在面上的正投影之外，例如，像素界定层112在基底所在面上的正投影之内，或者，与像素界定层112在基底所在面上的正投影重合或部分交叠，例如，在Z轴方向上，黑矩阵300覆盖网格状电极的电极条11。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，黑矩阵设置为与网格状电极的背离基底的表面接触。示例性的，如图5所示，黑矩阵300位于电极条11的背离基底(例如其中的底板140)的表面上。黑矩阵可以用于划分像素区域，以提高显示图像的对比度，因此黑矩阵通常设置在滤色层的面向外界的一侧，即，滤色层位于黑矩阵和发光器件之间。在本公开的实施例中，由于滤色层位于触控结构层中，因此黑矩阵可以位于触控结构层(例如网格状电极的电极条)的背离基底的表面上，这样，黑矩阵和电极条之间没有间隔，黑矩阵可以对斜射向电极条的光线进行遮挡，从而防止网格状电极对外界光(包括斜射入的外界光)的反射，提高显示图像的对比度。
例如，黑矩阵可以包住网格状电极的电极条的除面对基底的表面之外的表面，即，设置在网格状电极的电极条的背离基底的表面、与该表面相接的侧表面处，从而更好地遮挡斜射向电极条的光线，防止网格状电极对外界光(包括斜射入的外界光)的反射，提高显示图像的对比度。
备选地，黑矩阵也可以仅设置在触控结构层(例如网格状电极的电极条)的背离基底的表面上，其两个侧表面与电极条的侧表面对齐。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，如图5所示，基底还可以包括驱动电路层120，驱动电路层120位于显示阵列层110和底板140之间。例如，驱动电路层可以包括像素驱动电路，像素驱动电路可以为被动矩阵有机电激发光二极管(PMOLED)驱动电路或者有源矩阵有机发光二极管(AMOLED)驱动电路。例如，AMOLED驱动电路可以包括驱动晶体管、数据写入晶体管和存储电容，即为2T1C电路结构，其中T表示开关元件例如薄膜晶体管(TFT)，C表示存储电容。根据需要，该AMOLED驱动电路也可以为4T1C、4T2C或者其它的电路结构，从而以具有补偿功能、复位功能、发光控制功能等。本公开的实施例对于驱动电路层的类型以及具体构成不作限制。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，基底还可以包括封装层130，该封装层130位于触控结构层(例如其中的滤色层200)和显示阵列层110之间。例如，可以在形成封装层130之后，直接在封装层130上进行沉积薄膜、构图等工艺制造触控结构层，以增加基板的整体结构的结合强度，并有利于基板的轻薄化设计。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板中，封装层可以为单层结构，也可以为至少两层的复合结构。例如，封装层的材料可以包括氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、高分子树脂等绝缘材料。例如，封装层可以包括依次设置在显示阵列层上的第一无机封装层、有机封装层和第二无机封装层。例如，第一无机封装层和第二无机封装层的材料可以包括无机材料，例如氮化硅、氧化硅、氮氧化硅等，无机材料的致密性高，可以防止水、氧等的侵入；例如，有机封装层的材料可以为含有干燥剂的高分子材料或可阻挡水汽的高分子材料等，例如高分子树脂等以对显示基板的表面进行平坦化处理，并且可以缓解第一无机封装层和第二无机封装层的应力，还可以包括干燥剂等吸水性材料以吸收侵入内部的水、氧等物质。
需要说明的是，在封装层(例如第二无机封装层)的厚度不够的情况下，可以在封装层上形成缓冲层，以免在制造触控结构层的过程中破坏封装层。例如，该缓冲层的材料可以包括氧化硅、氮化硅、氧氮化硅等。
例如，在本公开至少一个实施例中，如图6所示，基板还可以包括盖板400和光学胶层500(例如Optically Clear Adhesive，简称OCA)。盖板400位于触控结构层(例如其中的滤色层200)的背离基底(例如其中的底板140)的一侧，光学胶层500位于盖板400和触控结构层之间。盖板400可以用于保护基板中的触控结构层等部件。例如，该盖板400可以为柔性材料。
例如，在本公开至少一个实施例中，盖板的材料可以包括有机材料，例如该有机材料可以为聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚醚砜、聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯等树脂类材料。
例如，本公开至少一个实施例提供的基板可以是液晶显示器阵列基板，滤色层包括多个滤色器，该基板包括由彼此交叉的数据线和栅线限定的多个像素单元，所述基板还包括黑矩阵，像素单元之间的区域对应于所述黑矩阵，所述黑矩阵设置在所述多个滤色器之间，该黑矩阵位于多个滤色器之间可以是黑矩阵的在基底上的投影位于多个滤色器在基板上的投影之间，此时，滤色器之间可以的投影可以相接，黑矩阵的投影与滤色器之间的相接处对应且与相邻两个滤色器的投影均有重叠，也可以是二者不相接，投影位于二者的投影之间；也可以是黑矩阵与多个滤色器在同一平面上且位于多个滤色器之间，本公开的实施例不对此进行限制，其余部件的设置以及位置关系与以上描述相同，这里将不进行赘述。
本公开至少一个实施例提供一种显示装置，该显示装置包括上述任一实施例中的基板。例如，显示装置包括柔性电路板，柔性电路板上设置有控制芯片。例如，控制芯片可以为中央处理器、数字信号处理器、系统芯片(SoC)等。例如，控制芯片还可以包括存储器，还可以包括电源模块等，且通过另外设置的导线、信号线等实现供电以及信号输入输出功能。例如，控制芯片还可以包括硬件电路以及计算机可执行代码等。硬件电路可以包括常规的超大规模集成(VLSI)电路或者门阵列以及诸如逻辑芯片、晶体管之类的现有半导体或者其它分立的元件；硬件电路还可以包括现场可编程门阵列、可编程阵列逻辑、可编程逻辑设备等。
例如，在本公开至少一个实施例中，该显示装置可以为电视、数码相机、手机、手表、平板电脑、笔记本电脑、导航仪等任何具有显示功能的产品或者部件。
需要说明的是，为表示清楚，并没有叙述该显示装置的全部结构。为实现显示装置的必要功能，本领域技术人员可以根据具体应用场景进行设置其他结构，本公开对此不做限制。
本公开至少一个实施例提供一种基板的制备方法，包括：提供基底；以及形成触控结构层，包括：在基底上形成所述触控结构层，所述触控结构层包括第一电极层、滤色层和第二电极层的叠层；其中，滤色层形成在第一电极层和第二电极层之间。例如，滤色层形成为绝缘层。在利用上述制备方法获得的基板中，滤色层形成在触控结构层中，并充当第一电极层、滤色层和第二电极层之间的绝缘层，从而不需要在触控结构层之外再额外形成滤色层，可以简化基板的结构，简化基板的制备工艺并有利于基板的轻薄化设计，并提高基板的触控功能的灵敏度。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板的制备方法中，形成触控结构层包括：在基底上沉积第一导电材料薄膜并对其进行构图工艺，以形成包括多个并列排布的第一条状电极的第一电极层；在第一电极层上沉积覆盖第一电极层的绝缘材料以形成滤色层；以及在基底上沉积第二导电材料薄膜并对其进行构图工艺，以形成包括多个并列排布的第二条状电极的第二电极层。例如，所述第一条状电极和所述第二条状电极彼此交叉。第一条状电极和第二条状电极之一形成为驱动电极，第一条状电极和第二条状电极之另一形成为感应电极。利用该方法获得的基板的触控结构层的结构可以参见图2A和图2B所示的实施例中的相关说明，在此不做赘述。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板的制备方法中，形成触控结构层包括：在基底上沉积第二导电材料薄膜并对其进行构图工艺，以形成包括多个连接桥的第二电极层；在第二电极层上沉积覆盖第二电极层的绝缘材料以形成滤色层，对滤色层进行构图工艺以形成多个开孔以暴露连接桥的部分；以及在基底上沉积第一导电材料薄膜并对其进行构图工艺，以形成包括多个并列排布的第一条状电极和多个并列排布的第一条状电极的第一电极层，第一条状电极和第二条状电极彼此交叉且第一条状电极在与第二条状电极的交叉处断开，第一条状电极在与第二条状电极的交叉处断开的部分通过连接桥连接。利用该方法获得的基板的触控结构层的结构可以参见图3A、图3B所示的实施例中的相关说明，在此不做赘述。
例如，在本公开至少一个实施例提供的基板的制备方法中，滤色层形成为包括至少两种颜色的多个滤色器，基底形成为包括具有多个发光器件的显示阵列层，形成触控结构层还包括：在对第一导电层和第二导电层至少之一进行构图工艺，以使得第一导电层和第二导电层至少之一形成为网格状电极，网格状电极包括多个电极条，多个电极条彼此交叉以形成多个开口；其中，开口在基底所在面上的正投影与发光器件在基底所在面上的正投影重合，电极条在基底所在面上的正投影位于发光器件的间隙在基底所在面上的正投影之内。在利用上述制备方法获得的基板中，网格状电极对外界光的反射少，从而减少触控结构层对外界光的反射，提高显示图像的对比度。
例如，本公开至少一个实施例提供的基板的制备方法还包括：在触控结构层的背离基底的表面上形成黑矩阵；其中，黑矩阵在基底所在面上的正投影位于发光器件的间隙在基底所在面上的正投影之内。在利用上述制备方法获得的基板中，黑矩阵和电极条之间没有间隔，黑矩阵可以对斜射向电极条的光线进行遮挡，从而消除网格状电极对外界光的反射，提高显示图像的对比度。
下面，在本公开的实施例的一个示例中，如图7A～图7E所示，以制造如图3C所示的基板为例，对基板的制备方法进行说明。
如图7A所示，提供基底100并在基底上沉积第二导电材料薄膜2。
例如，基底100可以仅为用于支撑的底板，也可以为如图4B所示的包括显示阵列层110、驱动电路层120、封装层130等。对于显示阵列层110、驱动电路层120、封装层130的制造过程，可以参见常规工艺，在此不做赘述。
例如，在本公开的实施例中，底板可以为玻璃板、石英板、金属板或树脂类板件等。例如，底板的材料可以包括有机材料，例如该有机材料可以为聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚醚砜、聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯等树脂类材料。
如图7A～图7B所示，对第二导电材料薄膜2进行构图工艺，以形成包括多个连接桥30的第二电极层。连接桥30在基板中的分布可以参见图3A、图3B所示的实施例中的相关说明。例如，连接桥30可以形成为如图4A所示的网格状电极。
如图7B～图7C所示，在形成有连接桥30的基底100上形成滤色层230，滤色层230，对滤色层230进行构图工艺已形成暴露连接桥30的过孔40。在该工艺过程中，滤色层230平坦化基板的表面。滤色层230的结构可参见图4B所示的实施例中的相关说明，在此不做赘述。
例如，在本公开一些实施例中，可以在基底上分别沉积不同颜色的薄膜，对该不同颜色的薄膜分别进行构图工艺以形成不同颜色的滤色器。例如，在本公开一些实施例中，可以在基底上沉积一层薄膜，对该层薄膜的不同区域注入不同类型的量子点，以使得该不同区域可以分别形成可被激发出不同颜色的滤色器。
如图7C～图7D所示，在滤色层230上沉积第一导电材料层1，第一导电材料层1通过过孔40与连接桥30连接。
如图7D～图7E所示，对第一导电材料层1进行构图工艺形成多个第一条状电极10a和多个第二条状电极20a。第一条状电极10a和第二条状电极20a的排布方式可参见如图3A、图3B所示的实施例中的相关说明，在此不做赘述。例如，第一条状电极10a和第二条状电极20a可以形成为如图4A所示的网格状电极。
示例性地，第一条状电极10a和第二条状电极20a形成为网格状电极可以是条状电极的各个部分形成为网格状，或者条状电极的至少一部分形成为具有网格状，例如，如图3B所示，第一子电极101和第二子电极102形成为具有网格状，第三子电极201和第四子电极202形成为具有网格状，第一子电极101和第二子电极102之间的连接桥也形成为具有网格状，第三子电极201和第四子电极202之间的连接部分也形成为具有网格状。
在本公开的实施例中，基板及其制备方法、显示装置被提供，基板包括基底；以及触控结构层，包括叠置在所述基底上的第一电极层、滤色层和第二电极层；其中，所述滤色层位于所述第一电极层和所述第二电极层之间。该基板中，滤色层位于触控结构层中，并充当第一电极层、滤色层和第二电极层之间的绝缘层，从而不需要在触控结构层之外再额外形成滤色层，可以简化基板的结构，简化基板的制备工艺并有利于基板的轻薄化设计。
对于本公开，还有以下几点需要说明：
(1)本公开实施例附图只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。
(2)为了清晰起见，在用于描述本公开的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。
(3)在不冲突的情况下，本公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。
以上，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (17)

1.一种基板，包括：
基底；
触控结构层，设置在所述基底上，且包括彼此叠置的第一电极层、滤色层和第二电极层；其中，所述滤色层位于所述第一电极层和所述第二电极层之间；以及
黑矩阵，设置于所述触控结构层的所述第一电极层和所述第二电极层的远离所述基底的一侧，
其中所述第一电极层和所述第二电极层之一包括位于所述滤色层的远离所述基底一侧的电极条，且所述黑矩阵覆盖并接触所述电极条的背离所述基底的表面以及与所述表面相接的侧表面。
2.根据权利要求1所述的基板，其中，
所述第一电极层和所述第二电极层之一包括多个并列排布的第一条状电极，所述第一电极层和所述第二电极层之另一包括多个并列排布的第二条状电极，
所述第一条状电极和所述第二条状电极彼此交叉。
3.根据权利要求1所述的基板，其中，
所述第一电极层包括多个并列排布的第一条状电极和多个并列排布的第二条状电极，所述第一条状电极和所述第二条状电极彼此交叉且所述第一条状电极在与所述第二条状电极的交叉处断开，
所述第二电极层包括多个连接桥，所述第一条状电极在与所述第二条状电极的交叉处断开的部分通过所述连接桥连接。
4.根据权利要求3所述的基板，其中，
所述滤色层中设置有过孔，所述连接桥通过所述过孔与所述第一条状电极连接。
5.根据权利要求3所述的基板，其中，
所述第二电极层位于所述基底和所述滤色层之间。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的基板，其中，
所述基底包括显示阵列层，所述显示阵列层包括多个发光器件，所述滤色层包括多个滤色器，所述多个滤色器包括至少两种颜色且与多个所述发光器件一一对应。
7.根据权利要求1-5中任一项所述的基板，
其中所述滤色层包括多个滤色器，所述黑矩阵设置在所述多个滤色器之间。
8.根据权利要求6所述的基板，其中，
所述触控结构层包括多个子触控区域，所述第一电极层和所述第二电极层至少之一的位于所述子触控区域的部分设置为网格状电极。
9.根据权利要求8所述的基板，其中，
所述网格状电极包括多个电极条，多个所述电极条彼此交叉以形成多个与所述发光器件一一对应的开口，以及
所述电极条在所述基底所在面上的正投影位于所述发光器件在所述基底所在面上的正投影之外。
10.根据权利要求9所述的基板，其中，所述黑矩阵设置为与所述网格状电极的所述电极条接触；
所述黑矩阵在所述基底所在面上的正投影位于所述发光器件在所述基底所在面上的正投影之外。
11.根据权利要求10所述的基板，其中所述网格状电极为不透明电极。
12.一种显示装置，包括权利要求1-11中任一项所述的基板。
13.一种基板的制备方法，包括：
提供基底；以及
形成触控结构层，包括：
在所述基底上形成所述触控结构层，所述触控结构层包括第一电极层、滤色层和第二电极层的叠层；其中，所述滤色层形成在所述第一电极层和所述第二电极层之间；以及
形成黑矩阵，所述黑矩阵设置于所述触控结构层的所述第一电极层和所述第二电极层的远离所述基底的一侧，
其中所述第一电极层和所述第二电极层之一包括位于所述滤色层的远离所述基底一侧的电极条，且所述黑矩阵覆盖并接触所述电极条的背离所述基底的表面以及与所述表面相接的侧表面。
14.根据权利要求13所述的制备方法，其中，形成所述触控结构层包括：
在所述基底上沉积第一导电材料薄膜并对其进行构图工艺，以形成包括多个并列排布的第一条状电极的所述第一电极层；
在所述第一电极层上沉积覆盖所述第一电极层的绝缘材料以形成滤色层；以及
在所述基底上沉积第二导电材料薄膜并对其进行构图工艺，以形成包括多个并列排布的第二条状电极的所述第二电极层，
其中所述第一条状电极和所述第二条状电极彼此交叉。
15.根据权利要求13所述的制备方法，其中，形成所述触控结构层包括：
在所述基底上沉积第二导电材料薄膜并对其进行构图工艺，以形成包括多个连接桥的所述第二电极层；
在所述第二电极层上沉积覆盖所述第二电极层的绝缘材料以形成滤色层，对所述滤色层进行构图工艺以形成多个开孔以暴露所述连接桥的部分；以及
在所述基底上沉积第一导电材料薄膜并对其进行构图工艺，以形成包括多个并列排布的第一条状电极和多个并列排布的第二条状电极的所述第一电极层，所述第一条状电极和所述第二条状电极彼此交叉且所述第一条状电极在与所述第二条状电极的交叉处断开，所述第一条状电极在与所述第二条状电极的交叉处断开的部分通过所述连接桥连接。
16.根据权利要求13-15中任一项所述的制备方法，其中，所述滤色层形成为包括至少两种颜色的多个滤色器，所述基底形成为包括具有多个发光器件的显示阵列层，形成所述触控结构层还包括：
对所述第一电极层和所述第二电极层至少之一进行构图工艺，以使得所述第一电极层和所述第二电极层至少之一形成为网格状电极，所述网格状电极包括多个电极条，多个所述电极条彼此交叉以形成多个开口；
其中，所述开口在所述基底所在面上的正投影与所述发光器件在所述基底所在面上的正投影重合，所述电极条在所述基底所在面上的正投影位于所述发光器件的间隙在所述基底所在面上的正投影之内。
17.根据权利要求16所述的制备方法，其中，所述黑矩阵在所述基底所在面上的正投影位于所述发光器件的间隙在所述基底所在面上的正投影之内。
CN201910759083.5A 2019-08-16 2019-08-16 基板及其制备方法、显示装置 Active CN110471569B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910759083.5A CN110471569B (zh) 2019-08-16 2019-08-16 基板及其制备方法、显示装置
US16/942,154 US11366537B2 (en) 2019-08-16 2020-07-29 Substrate including touch structure layer, manufacturing method thereof and display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910759083.5A CN110471569B (zh) 2019-08-16 2019-08-16 基板及其制备方法、显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110471569A CN110471569A (zh) 2019-11-19
CN110471569B true CN110471569B (zh) 2023-11-28

Family

ID=68510973

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910759083.5A Active CN110471569B (zh) 2019-08-16 2019-08-16 基板及其制备方法、显示装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US11366537B2 (zh)
CN (1) CN110471569B (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107092399B (zh) * 2017-05-12 2019-09-13 京东方科技集团股份有限公司 一种oled阵列基板及其制作方法、触控显示装置
EP3923351A4 (en) * 2020-03-03 2023-01-04 HCP Technology Co., Ltd. Light emitting diode and manufacturing process therefor
CN111580698B (zh) * 2020-05-11 2023-10-10 京东方科技集团股份有限公司 一种触控面板及其制备方法、显示面板
CN111625132B (zh) * 2020-05-15 2021-12-03 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板以及显示装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN205427390U (zh) * 2016-03-22 2016-08-03 天马微电子股份有限公司 一种阵列基板、显示面板及显示装置
CN107219953A (zh) * 2017-05-27 2017-09-29 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性触控显示面板及其制备方法、显示装置
CN108415630A (zh) * 2017-02-09 2018-08-17 晶门科技（中国）有限公司 一种结合了电容式触控传感器的装置及其制造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI460629B (zh) * 2012-05-11 2014-11-11 Au Optronics Corp 觸控顯示面板及其製造方法
CN103676358B (zh) * 2013-12-17 2017-02-22 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制作方法、触摸屏和显示装置
TWI546586B (zh) * 2014-11-07 2016-08-21 速博思股份有限公司 高感測靈敏度的自電容內嵌式觸控顯示面板裝置
TWI528258B (zh) * 2014-11-07 2016-04-01 速博思股份有限公司 高感測靈敏度的互電容內嵌式觸控顯示面板裝置
CN104880842A (zh) * 2015-06-16 2015-09-02 京东方科技集团股份有限公司 一种触摸显示面板及显示装置
CN107065279A (zh) * 2017-03-14 2017-08-18 惠科股份有限公司 一种显示面板及其制程和显示装置
CN107275512A (zh) * 2017-05-25 2017-10-20 厦门天马微电子有限公司 一种有机电致发光显示面板、其制作方法及显示装置
CN107357079A (zh) * 2017-08-29 2017-11-17 惠科股份有限公司 一种显示面板
US10488694B2 (en) * 2017-10-31 2019-11-26 Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. In-cell touch panel and display device
TWI707174B (zh) * 2019-05-06 2020-10-11 友達光電股份有限公司 顯示面板

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN205427390U (zh) * 2016-03-22 2016-08-03 天马微电子股份有限公司 一种阵列基板、显示面板及显示装置
CN108415630A (zh) * 2017-02-09 2018-08-17 晶门科技（中国）有限公司 一种结合了电容式触控传感器的装置及其制造方法
CN107219953A (zh) * 2017-05-27 2017-09-29 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性触控显示面板及其制备方法、显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20210048908A1 (en) 2021-02-18
CN110471569A (zh) 2019-11-19
US11366537B2 (en) 2022-06-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110471569B (zh) 基板及其制备方法、显示装置
CN108054193B (zh) 柔性显示面板及柔性显示装置
CN109859648B (zh) 一种显示面板及显示装置
CN113126806B (zh) 触摸显示装置
CN111722744B (zh) 显示装置
EP4095937B1 (en) Display substrate and display device
JP2022046740A (ja) タッチパネル及びタッチディスプレイ装置
WO2022057541A1 (zh) 显示面板及其驱动方法和制备方法、显示装置
CN113557470B (zh) 显示基板及显示装置
KR102673524B1 (ko) 전자 장치
CN115280511A (zh) 显示基板以及显示装置
US11921963B2 (en) Touch structure, touch display structure, and touch display device
CN112860095B (zh) 触摸显示装置
CN115768197B (zh) 显示基板及其制备方法、显示装置
CN114556277B (zh) 触控基板及显示面板
CN111694459A (zh) 显示装置
CN113206139A (zh) 显示面板及其制作方法、显示装置
CN113157151B (zh) 触控面板和触控显示装置
CN112711354B (zh) 触控面板及其制备方法、显示触控装置
EP3624196B1 (en) Display device
CN111310741B (zh) 显示面板和显示装置
US20220317807A1 (en) Touch structure, touch display panel and electronic device
CN114649374A (zh) 显示装置
TWI832895B (zh) 顯示裝置
KR20220023895A (ko) 표시 장치

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant