CN110456427A - 低折射率光学镀膜材料及其应用 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种低折射率光学镀膜材料，属于光学镀膜材料技术领域，所述低折射率光学镀膜材料由二氧化硅和添加剂混合组成；其中，所述添加剂为五氧化二铌、五氧化二钽中的一种或两种，所述低折射率光学镀膜材料的组成为：二氧化硅：90‑99.5wt％，添加剂：0.5‑10wt％。低折射率光学镀膜材料经高温烧结或高温熔融形成。本发明通过引入部分较低折射率的氧化物，如五氧化二铌、五氧化二钽等，在不影响二氧化硅材料折射率的情况下，改变了二氧化硅氧化物的基本性能，提高了二氧化硅的膨胀系数，避免了塑料元件镀膜时膜裂、脱膜的现象的发生。

Description

低折射率光学镀膜材料及其应用
技术领域
本发明涉及光学镀膜材料技术领域，具体涉及一种能够避免塑料元件镀膜时膜裂、脱膜的现象发生的低折射率光学镀膜材料。
背景技术
在光学镀膜领域，二氧化硅是最常用的低折射率光学镀膜材料，但随着技术和应用的发展，许多传统玻璃光学元件被塑料元件替代，如照相机镜头等，也有的手机外壳部件，本身就是塑料元件。这些塑料元件同玻璃光学元件相比，耐温低，膨胀系数大。在塑料元件镀膜时,镀膜机中的基底温度要比镀膜玻璃元件时的基底温度低，这导致以二氧化硅做为低折射率光学镀膜材料在塑料元件表面形成膜层时附着力小，造成膜裂、脱膜等情况。
发明内容
本发明的目的在于提供一种低折射率光学镀膜材料，以解决上述背景技术中存在的技术问题。
为了实现上述目的，本发明采取了如下技术方案：
一方面，本发明提供的一种低折射率光学镀膜材料，所述低折射率光学镀膜材料由二氧化硅和添加剂混合组成；其中，所述添加剂为五氧化二铌、五氧化二钽中的一种或两种。
优选的，所述低折射率光学镀膜材料的组成为：
二氧化硅：90-99.5wt％，添加剂：0.5-10wt％。
优选的，所述低折射率光学镀膜材料是所述二氧化硅和所述添加剂高温烧结后形成的混合物。
优选的，所述烧结温度为1100-1550℃。
优选的，所述低折射率光学镀膜材料是所述二氧化硅和所述添加剂高温熔融后形成的混合物。
优选的，所述熔融温度为1800℃以上。
另一方面，本发明还提供一种如上所述的低折射率光学镀膜材料在用于制备光学元件、手机外壳或触摸屏中的应用。
本发明有益效果：通过引入部分较低折射率的氧化物，如五氧化二铌、五氧化二钽等，在不影响二氧化硅材料折射率的情况下，改变了二氧化硅氧化物的基本性能，提高了二氧化硅的膨胀系数，避免了塑料元件镀膜时膜裂、脱膜的现象的发生。
本发明附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。
具体实施方式
本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本发明的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或模块，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、模块和/或它们的组。
本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样定义，不会用理想化或过于正式的含义来解释。
实施例
本发明实施例提供的一种低折射率光学镀膜材料，原料组份配比如表1所示。按表1中所列二氧化硅和五氧化二铌、五氧化二钽比例进行配料、混合、造粒，并在1100℃烧结3个小时或在1800℃以上熔融3个小时,用该配方和工艺所生产的光学镀膜材料进行光学镀膜实验，结果如表1所示,通过对表1中所列二氧化硅和五氧化二铌、五氧化二钽混合物进行配料、混合、造粒、烧结或熔融后的材料,在光学塑料元件和手机塑料外壳上进行镀膜实验，真空镀膜机直径1100,镀膜机镀膜时的温度为50℃，所发明的光学镀膜材料的蒸发速率是10A0/S，结果如表1所示。
表1：
综上所述，本发明实施例通过在二氧化硅材料中引入少量的五氧化二铌、五氧化二钽等添加剂。这样，由于引入量小，10％以内，新材料的折射率没有显著的改变，新氧化物的引入，改变了二氧化硅的膨胀系数，这样，有效避免了光学镀膜中遇到的实际问题。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。

Claims (7)

1.一种低折射率光学镀膜材料，其特征在于：所述低折射率光学镀膜材料由二氧化硅和添加剂混合组成；其中，所述添加剂为五氧化二铌、五氧化二钽中的一种或两种。
2.根据权利要求1所述的低折射率光学镀膜材料，其特征在于：所述低折射率光学镀膜材料的组成为：
二氧化硅：90-99.5wt％，添加剂：0.5-10wt％。
3.根据权利要求1或2所述的低折射率光学镀膜材料，其特征在于：所述低折射率光学镀膜材料是所述二氧化硅和所述添加剂高温烧结后形成的混合物。
4.根据权利要求3所述的低折射率光学镀膜材料，其特征在于：所述烧结温度为1100-1550℃。
5.根据权利要求1或2所述的低折射率光学镀膜材料，其特征在于：所述低折射率光学镀膜材料是所述二氧化硅和所述添加剂高温熔融后形成的混合物。
6.根据权利要求5所述的低折射率光学镀膜材料，其特征在于：所述熔融温度为1800℃以上。
7.一种如权利要求1-6任一项所述的低折射率光学镀膜材料在用于制备光学元件、手机外壳或触摸屏中的应用。
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