CN106019428A - 一种低折射率光学镀膜材料 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种低折射率光学镀膜材料，所述光学镀膜材料由二氧化硅和其它添加物二氧化锆组成，其中，二氧化硅50‑99.5wt％，二氧化锆：0.5‑50wt％。

Description

一种低折射率光学镀膜材料
技术领域
本发明涉及一种低折射率光学镀膜材料，属于光学镀膜材料领域。
背景技术
在光学镀膜领域，二氧化硅是最常用的低折射率光学镀膜材料，但随着技术和应用的发展，常用的单纯二氧化硅低折射率光学镀膜材料不能满足市场更高的要求，比如手机面板、触摸屏等的表面容易划伤。由于防指纹材料必须要以二氧化硅材料作为基底，为了满足象手机面板、触摸屏等产品使用中表面不易划伤，又能满足防指纹材料的防油污要求，我们特发明了以二氧化硅和二氧化锆混合物为原料的低折射率光学镀膜材料。
发明内容
针对现有的低折射率光学镀膜材料二氧化硅在实际生产中性能的不足，本发明的目的在于提供一种优良的低折射率光学镀膜材料。
为了实现上述目的，本发明采取的技术方案是：
一种低折射率光学镀膜材料，所述光学镀膜材料由二氧化硅和二氧化锆组成，其中，二氧化硅：50-99.5wt％，二氧化锆：0.5-50wt％。
所述光学镀膜材料的烧结温度为900℃以上，优选1200－1650℃之间。
所述光学镀膜材料也可以是二种混合料的熔融料，该混合物熔融温度为1800℃。
所述光学镀膜材料可用于手机玻璃面板,触摸屏及其它光学元件。
由于手机面板、触摸屏等在日常使用中通常会受到摩擦而导致表面膜层划伤，因而对其在光学镀膜后膜层表面的硬度和抗划伤能力提出了更高的要求，我们研制了一种二氧化硅和二氧化锆的混合物，该混合物因二氧化锆有较高的硬度，二氧化硅材料中引入部分二氧化锆，经烧结可形成硅酸锆化合物，该材料进入膜层后，因二氧化锆的引入，所生成膜的硬度也得到提高。
具体实施方式
实施例1-12的原料组份配比见表1
将表1中各配方按重量计量比进行配比、混合，经造粒，并在900℃以上进行烧结3个小时或在1800℃熔融3个小时，对所发明的产品进行镀膜实验，结果如下:
(镀膜条件：镀膜机直径1100，所发明材料镀膜时的蒸发速率为10A0/S，基片温度为200℃)
表1对比实验(镀膜实验：10A0/S，200℃)
由于ZrO2具有较高的硬度，理论上讲，ZrO2的含量越高越好，但ZrO2的折射率高，含量过高可导致所发明光学镀膜材料的折射率变高，不利于光学性能，同时，ZrO2含量过高，也会影响到防指纹药的防油污效果，经过实验，二氧化锆的含量低于50％。
通过表1所列各比例，我们发明了一种SiO2-ZrO2混合物的镀膜材料，该材料提高了由单一二氧化硅作为低折射率光学镀膜材料所存在的不耐磨导致表面易划伤这一问题。
最后应说明的是：显然，上述实施例仅是为了清楚地说明本申请所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引申出的显而易见的变化或变动仍处于本申请型的保护范围之中。

Claims (5)

1.一种低折射率光学镀膜材料，其特征在于：所述光学镀膜材料由二氧化硅和二氧化锆两种材料混合组成。
2.根据权利要求1所述的光学镀膜材料，其特征在于：所述光学镀膜材料的原料组成为，二氧化硅：50-99.5wt％，二氧化锆：0.5-50wt％。
3.根据权利要求1或2所述的光学镀膜材料，其特征在于：所述光学镀膜材料的烧结温度为900℃以上，优选1200-1650℃。
4.根据权利要求1或2所述的光学镀膜材料，其特征在于：所述光学镀膜材料的混合物也可以是二氧化硅和二氧化锆高温熔化后所形成的混合物，熔融温度为1800℃以上。
5.根据权利要求1或2所述的光学镀膜材料：所述光学镀膜材料用于生产手机玻璃面板，触摸屏及其它光学元件。
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