CN106019417A - 一种低折射率光学镀膜材料 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种低折射率光学镀膜材料，所述光学镀膜材料是由二氧化硅和添加剂组成，所述添加剂选自三氧化二铝、氧化镁和氧化钇的一种或多种。

Description

一种低折射率光学镀膜材料
技术领域
本发明涉及一种低折射率光学镀膜材料，属于光学镀膜材料领域。
背景技术
在光学镀膜领域，二氧化硅是最常用的低折射光学率镀膜材料，但随着技术和应用的发展，许多传统玻璃光学元件，现在多被塑料元件替代，如照相机镜头等，也有的手机外壳部件，本身就是塑料元件。这些塑料元件同玻璃光学元件相比，耐温低，膨胀系数大，在塑料元件镀膜时,镀膜机中的基底温度不像镀膜玻璃元件时的基底温度高。这导致以二氧化硅作为低折射率光学镀膜材料在塑料元件表面形成膜层时附着力小，造成膜裂、脱膜等情况。目前国内外光学镀膜材料市场上均未有单一的低折射率的镀膜材料能很好的解决这一问题，也未有相似的专利技术。为了解决实际情况中出现的这些问题，在不影响二氧化硅材料折射率的情况下，通过引入部分较低折射率的氧化物，如三氧化二铝、氧化镁、三氧化二钇等来改变二氧化硅氧化物的基本性能，本专利是通过在二氧化硅中引入少量的三氧化二铝来解决塑料元件镀膜时膜裂、脱膜这一难题的。
发明内容
针对现有技术中的不足，本发明的目的在于提供一种低折射率光学镀膜材料。
为了实现上述目的，本发明采取的技术方案是：
一种低折射率光学镀膜材料，所述光学镀膜材料由二氧化硅和添加剂组成，所述添加剂选自三氧化二铝、氧化镁和氧化钇的一种或多种。
所述光学镀膜材料重量配比为：二氧化硅:90-99.5％,添加剂:0.5-10％。
所述光学镀膜材料的烧结温度是1100－1550℃之间。
所述光学镀膜材料也可为二氧化硅和添加剂的熔融混合物。熔融温度1800℃以上
所述光学镀膜材料用于光学元件、手机或触摸屏等元器件的真空光学镀膜。
本发明是在通常的二氧化硅材料中引入少量的三氧化二铝等添加剂。这样，由于引入量小，10％以内，新材料的折射率没有显著的改变，新氧化物的引入，改变了二氧化硅的膨胀系数，这样基本解决了光学镀膜中遇到的实际问题。
具体实施方式
实施例1-5的原料组份配比见表1
根据本发明的要求，按表1中所列二氧化硅和三氧化二铝比例进行配料、混合、造粒、烧结、或者熔融，用该配方和工艺所生产的光学镀膜材料进行光学镀膜实验，结果如表1所示，通过对表1中所列二氧化硅和三氧化二铝混合物进行配料、混合、造粒、烧结和熔融后的材料，在光学塑料元件和手机塑料外壳上进行镀膜实验，真空镀膜机直径1100,镀膜机镀膜时的温度为50℃，所发明的光学镀膜材料的蒸发速率是10A0/S，结果如表1所示。
表1
通过上述几组实验，通过在二氧化硅原料中引入一定量的三氧化二铝，来生产的光学镀膜材料，很好的解决了因二氧化硅材料在塑料镜片或塑料手机盖板中所出现的脱膜和膜裂问题。最后应说明的是：显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明本申请所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引申出的显而易见的变化或变动仍处于本申请型的保护范围之中。

Claims (5)

1.一种低折射率光学镀膜材料，其特征在于：所述光学镀膜材料由二氧化硅和添加剂组成，所述添加剂选自三氧化二铝、氧化镁和氧化钇的一种或多种。
2.根据权利要求1所述的光学镀膜材料，其特征在于：所述光学镀膜材料重量配比为：二氧化硅：90-99.5％，添加剂：0.5-10％。
3.根据1或2所述的光学镀膜材料，其特征在于：所述光学镀膜材料是二氧化硅和添加剂的烧结混合物,该混合物的烧结温度是1100-1550℃之间。
4.根据1或2所述的光学镀膜材料，其特征在于：该光学镀膜材料也可以为二氧化硅和添加剂的熔融混合物，该熔融混合物的熔融温度在1800℃以上。
5.根据权利要求1或2所述的光学镀膜材料，其特征在于：所述光学镀膜材料用于生产光学元件、手机外壳或触摸屏。
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