CN110451561A - 一种大孔径介孔双金属氧化物半导体气敏材料的合成方法 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 32
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 title claims description 28
- 239000011148 porous material Substances 0.000 title claims description 19
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 title claims 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 33
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229920000469 amphiphilic block copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims abstract description 8
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000012702 metal oxide precursor Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000011540 sensing material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 19
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 11
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 10
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 claims description 4
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 4
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 claims description 4
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 3
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 claims description 3
- -1 polyethylene Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000007888 film coating Substances 0.000 claims description 2
- 238000009501 film coating Methods 0.000 claims description 2
- 229920000885 poly(2-vinylpyridine) Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 claims description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 abstract description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 abstract description 4
- 230000004044 response Effects 0.000 abstract description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 4
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 abstract description 4
- 238000001553 co-assembly Methods 0.000 abstract description 3
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 abstract description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 abstract description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 229910020599 Co 3 O 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 2
- 229920000075 poly(4-vinylpyridine) Polymers 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 1
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 238000010560 atom transfer radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000004146 energy storage Methods 0.000 description 1
- 238000003837 high-temperature calcination Methods 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000000693 micelle Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003228 poly(4-vinyl pyridine) Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000012712 reversible addition−fragmentation chain-transfer polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000000935 solvent evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006557 surface reaction Methods 0.000 description 1
- YOUIDGQAIILFBW-UHFFFAOYSA-J tetrachlorotungsten Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)Cl YOUIDGQAIILFBW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G25/00—Compounds of zirconium
- C01G25/02—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G41/00—Compounds of tungsten
- C01G41/02—Oxides; Hydroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/01—Particle morphology depicted by an image
- C01P2004/03—Particle morphology depicted by an image obtained by SEM
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/14—Pore volume
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/16—Pore diameter
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
本发明属于先进纳米材料技术领域,具体为基于酸碱对的大孔径介孔双金属氧化物半导体气敏材料合成方法。本发明以两亲性嵌段共聚物为模板剂,金属醇盐和金属氯化物为两种金属氧化物前驱物,在极性有机溶剂的合成体系中通过氢键及配位作用与模板剂亲水段发生作用,之后经过溶剂挥发诱导共组装以及先惰性气氛再空气气氛的分步煅烧,得到大孔径介孔双金属氧化物半导体材料。本发明可以合成包括p‑n结半导体、p‑p结半导体及n‑n结半导体在内的材料,且所合成材料具有高度有序的介孔结构、大的孔径和高的比表面积。该类材料可用于气体传感方面,对CO、H2、CH4等小分子气体或乙醇、丙酮、甲苯等VOCs中的一种或多种具有极好的灵敏度和选择性以及超快的响应和恢复时间。
Description
技术领域
本发明属于先进纳米材料技术领域,具体涉及一种基于酸碱对概念合成大孔径介孔双金属氧化物半导体气敏材料的方法。
背景技术
金属氧化物半导体纳米材料凭借其独特的微纳米结构以及特殊的光学与电子特性,在催化、传感和储能等领域有着广泛的应用。气体传感方面,客体分子的快速扩散以及活性位点的大量暴露将在极大程度上提高基于金属氧化物半导体材料所得气敏器件的性能。因而,与无孔的块体金属氧化物半导体相比,有序介孔金属氧化物半导体凭借其高度晶化的孔壁、较高的比表面积、较大的孔容、丰富有序且连通的孔道结构、可调的孔径尺寸等特点引起了研究者广泛的兴趣。(Wagner T, Haffer S, Weinberger C, et al. Chem. Soc. Rev.,2013, 42: 4036-4053;Wang Z, Tian Z, Han D, et al. ACS Appl. Mater. Interf.,2016, 8: 5466-5474;Li Y, Luo W, Qin N, et al. Angew. Chem. Int. Ed.,2014, 53: 9035-9040;Ma J, Ren Y, Zhou X, et al. Adv. Funct. Mater., 2018, 28:1705268; Zhu Y, Zhao Y, Ma J, et al. J. Am. Chem. Soc.,2017,139: 10365-10373;Zhou X, Zhu Y, Luo W, et al. J. Mater. Chem.,2016, A 4: 15064-15071.)。
金属氧化物半导体的气敏传感性能不仅与其孔道结构及比表面积密切相关,而且取决于其化学结构及骨架组成。双金属氧化物中异质结构复合物的存在可有效增加金属氧化物的缺陷位、提高表面吸附氧的浓度,有助于加快骨架中电子的传导速率、降低表面反应的活化能,异质结的构建被认为是提高金属氧化物半导体材料气敏传感性能的一个行之有效的办法。(Koo WT, Choi SJ, Kim SJ, et al. J. Am. Chem. Soc., 2016, 138:13431-13437.)。
然而到目前为止,有关介孔双金属氧化物半导体材料的合成鲜有报道,这是因为不同金属前驱体的水解与缩合速率不同,介孔双金属氧化物的合成过程较难控制,且在煅烧去除模板剂并使介孔金属氧化物孔壁结晶的后处理过程中,金属氧化物会因剧烈的结构重整而导致孔结构的坍塌,较差的稳定性导致其难以进行大规模的工业生产。
为解决上述问题,本发明提出一种基于酸碱对概念而改良的溶剂挥发诱导共组装法(EICA)用于合成骨架高度晶化的大孔径有序介孔双金属氧化物半导体材料。本方法中选用作为酸碱对的金属醇盐与金属氯化物为两种金属氧化物的前驱体,在易挥发的极性有机溶剂中与模板剂共组装形成有序的介观结构。酸碱对的选用使得两种金属氧化物前驱体的水解与缩聚速率得到调节,介孔双金属氧化物的合成过程得到控制。此外,在本发明的合成过程中采用了先惰性气氛后空气气氛的分步煅烧策略,惰性气氛煅烧过程中模板剂疏水端形成的无定形碳在后续空气气氛煅烧使金属氧化物骨架发生晶化的过程中起到支撑介孔骨架防止其坍塌的作用。本发明所提出的方法可用于合成包括p-n结半导体、p-p结半导体及n-n结半导体在内的材料,所合成的金属氧化物半导体材料具有高度晶化的骨架,丰富有序的介孔结构、大的孔径和高的比表面积。该类材料丰富有序的大孔径介孔结构及异质结的作用用于气体传感方面,对CO、H2、CH4等小分子气体或乙醇、丙酮、甲苯等VOCs中的一种或多种具有极好的灵敏度和选择性以及超快的响应和恢复时间。
发明内容
本发明旨在利用酸碱对概念,提供一种简单可控、易于重复及大规模生产的大孔径介孔双金属氧化物半导体气敏材料的合成方法。
本发明提出的大孔径介孔双金属氧化物半导体气敏材料的合成方法,包括:选用金属醇盐和金属氯化物为两种金属氧化物的前驱体,两种前驱体因在溶剂中分别表现出一定的碱性和酸性而发生相互作用。选用两亲性嵌段共聚物为模板剂,易挥发的极性有机溶剂为反应体系,利用溶胶-凝胶原理,随着溶剂挥发,两亲性嵌段共聚物形成胶束,其亲水端通过氢键和配位作用与发生相互作用的金属醇盐和氯化物同时进行组装,经溶剂挥发诱导共组装以及后续的固化处理得到高度有序的介观结构;再经先惰性气氛再空气气氛的分步煅烧处理过程,得到骨架高度晶化的大孔径有序介孔双金属氧化物半导体材料。所合成的材料具有大的比表面积(100~135m2/g),大的介孔孔径尺寸(10nm~35nm)以及大的孔容(0.2~0.45cm3/g),对CO、H2、CH4等小分子气体或乙醇、丙酮、甲苯等VOCs中的一种或多种具有极好的灵敏度和选择性以及超快的响应和恢复时间。合成的具体步骤如下:
(1)将两亲性嵌段共聚物模板剂溶解于极性有机溶剂中,室温搅拌均匀得到溶液A;将两种金属氧化物前驱物金属醇盐和金属氯化物按比例溶解于乙醇中,室温搅拌得到溶液B;将溶液A与溶液B混合均匀,室温搅拌2-4h,到均相混合溶液;在均相混合溶液中,模板剂含量为0.5~3wt.%,金属醇盐的含量为1~8 wt.%,金属氯化物与金属醇盐的摩尔比为1:2~1:5,其余为溶剂;
(2)所得均相混合溶液通过铺膜、旋涂或提拉的方法,使易挥发的极性有机溶剂于室温挥发12~24h,之后置于40~80℃的烘箱中进一步挥发溶剂,最后将样品转移至100~150℃烘箱中烘12~24h,使其固化;
(3)将固化的样品收集后煅烧,煅烧过程分步进行:首先将样品置于惰性气氛中以1~5℃/min的升温速率升至350~400℃煅烧3~5h,得到双金属氧化物/碳复合材料;然后将得到的复合材料转移至空气气氛中,以5~10℃/min的升温速率升至400~600℃,煅烧30~180min,得到介孔双金属氧化物气敏传感材料。
本发明步骤(1)中,所用有机溶剂为四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、二氧六环、乙醇中的一种或多种。
本发明步骤(1)中,所用的两亲性嵌段共聚物的数均分子量为5000~50000;亲水段为聚环氧乙烷、聚-(4-乙烯基吡啶)、聚-(2-乙烯基吡啶)中的一种,数均分子量为1000~10000;疏水段为聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚异戊二烯、聚环氧丙烷及它们的衍生物等具有疏水性质的聚合物,或者两种或两种以上疏水性聚合物的共聚物,数均分子量为4000~40000。
本发明中,所用的两亲性嵌段共聚物分子量具有较大调节空间,可以通过控制原子转移自由基聚合、可逆加成-断裂链转移聚合等反应的时间、温度、投料比等来控制嵌段共聚物的分子量,进而调节所得介孔双金属氧化物的孔径大小。
本发明中,所使用的两种金属氧化物前驱物在溶液中分别表现出一定碱性和酸性,酸碱对发生较强的相互作用,使得两种前驱体的水解与缩聚速率得到调节,介孔双金属氧化物的合成过程得到控制,且有助于两种金属氧化物组分在体系和所得材料中的均匀分布。
本发明中,采用先惰性气氛后空气气氛的分步煅烧策略,首先在惰性气氛中使模板剂低温碳化,可以令含有sp 2 杂化碳的疏水嵌段原位转化为无定形碳从而对金属氧化物骨架起到支撑作用,使其在高温煅烧结晶的过程中介孔骨架结构得到保持。
本发明中,大孔径介孔双金属氧化物半导体材料具有球形或蠕虫状的有序介孔孔道结构,孔道结构的空间群为Fmm、p6mm、Imm、Pmn、Pmm、Fdm、P63/mmc、Iad中一种或者几种的混合结构;比表面积为100~135m2/g,孔容为0.2~0.45cm3/g,介孔孔径尺寸为10nm~35nm。
本发明中,所合成的材料包括p-n结半导体材料、p-p结半导体材料及n-n结半导体材料。该类材料丰富有序的大孔径介孔结构及异质结的作用用于气体传感方面,对CO、H2、CH4等小分子气体或乙醇、丙酮、甲苯等VOCs中的一种或多种具有极好的灵敏度和选择性以及超快的响应和恢复时间。
本合成方法简单可控,有望推进介孔金属氧化物在气体传感方面的大规模应用。
附图说明
图1为介孔ZrO2/WO3 双金属氧化物半导体材料的扫描电镜照片。
图2为介孔ZrO2/WO3 双金属氧化物半导体材料的透射电镜照片。
具体实施方案
以下通过具体实施例对本发明进行进一步的举例描述,但下述实施例并不构成对本发明的任何限制。在不背离本发明技术解决方案的前提下,对本发明所作的本领域普通技术人员容易实现的任何改动或改变,都将落入本发明的权利要求范围之内。
实施例1
(1)将0.10 g两亲性嵌段共聚物聚环氧乙烷-b-聚苯乙烯(PEO112-b-PS236,Mn=27948 gmol-1)溶解于5 g四氢呋喃中,室温下搅拌0.5 h得到溶液A;将0.10 g氯化钨和0.20 g正丙醇锆溶解于2.0 g乙醇中,室温下搅拌0.5 h得到溶液B;将溶液A与B混合均匀,室温下搅拌2h后最终得到均相混合溶液;
(2)将该均相溶液转移至表面皿中,室温条件下挥发24 h;随后将表面皿转移至40℃烘箱中使溶剂进一步挥发24 h后,再转移至100℃烘箱中固化24 h。最后将该复合膜从表面皿中刮下来进行研磨,得到固体粉末;
(3)将获得的固体粉末置于管式炉中,于氮气气氛下以1℃ /min的升温速率升至350℃煅烧 3 h,再以5℃ /min的升温速率升至500℃煅烧1 h,得到黑色ZrO2/WO3/C 复合材料。之后将所得样品在空气中于500℃焙烧2 h,在除去模板剂残碳的同时使得双金属氧化物的骨架得到进一步晶化,最终得到介孔ZrO2/WO3p-n结半导体材料。得到的介孔ZrO2/WO3复合半导体材料的孔径为14.5 nm,比表面积为112 m2/g,孔容为0.274cm3/g。
实施例2
(1)将0.10 g两亲性嵌段共聚物聚环氧乙烷-b-聚甲基丙烯酸甲酯(PEO123-b-PMMA184,Mn=35729 g mol-1)溶解于5 g四氢呋喃中,室温下搅拌0.5 h得到溶液A;将0.15 g氯化钴和0.3 g正丙醇锆溶解于2.0 g乙醇中,室温下搅拌0.5 h得到溶液B;将溶液A与B混合均匀,室温下搅拌2h后最终得到均相混合溶液;
(2)将该均相溶液通过旋涂的方法涂于石英片上,室温条件下挥发24 h;随后将其转移至40℃烘箱中使溶剂进一步挥发24 h后,再转移至100℃烘箱中固化24 h。最后将该复合膜从石英片上刮下来进行研磨,得到固体粉末;
(3)将获得的固体粉末置于管式炉中,于氮气气氛下以1℃ /min的升温速率升至350℃煅烧 3 h,再以5℃ /min的升温速率升至500℃煅烧1 h,得到黑色Co3O4/ZrO2/C 复合材料。之后将所得样品在空气中于500℃焙烧2 h,在除去模板剂残碳的同时使得双金属氧化物的骨架得到进一步晶化,最终得到介孔Co3O4/ZrO2p-p结半导体材料。得到的介孔WO3/TiO2复合半导体材料的孔径为34.7 nm,比表面积为103 m2/g,孔容为0.442cm3/g。
实施例3
(1)将0.10 g两亲性嵌段共聚物聚-(4-乙烯基吡啶)-b-聚苯乙烯(P4VP84-b-PS113,Mn=19356 g mol-1)溶解于5 g二氯甲烷溶液中,室温下搅拌0.5 h得到溶液A;将0.125 g四氯化锡和0.25 g异丙醇钛溶解于2.0 g乙醇中,室温下搅拌0.5 h得到溶液B;将溶液A与B混合均匀,室温下搅拌2h后最终得到均相混合溶液;
(2)将该均相溶液通过提拉的方法涂于石英片上,室温条件下挥发24 h;随后将其转移至40℃烘箱中使溶剂进一步挥发24 h后,再转移至100℃烘箱中固化24 h。最后将该复合膜从石英片上刮下来进行研磨,得到固体粉末;
(3)将获得的固体粉末样品置于管式炉中,于氮气气氛下以1℃ /min的升温速率升至350℃煅烧 3 h,再以5℃ /min的升温速率升至500℃煅烧1 h,得到黑色SnO2/TiO2/C 复合材料。之后将所得样品在空气中于500℃焙烧2 h,在除去模板剂残碳的同时使得双金属氧化物的骨架得到进一步晶化,最终得到介孔SnO2/TiO2 n-n结半导体材料。得到的介孔WO3/TiO2复合半导体材料的孔径为11.7 nm,比表面积为132 m2/g,孔容为0.196cm3/g。
Claims (4)
1.一种大孔径介孔双金属氧化物半导体气敏材料的合成方法,其特征在于,具体的步骤如下:
(1)将两亲性嵌段共聚物模板剂溶解于极性有机溶剂中,室温搅拌均匀得到溶液A;将两种金属氧化物前驱物金属醇盐和金属氯化物按比例溶解于乙醇中,室温搅拌得到溶液B;将溶液A与溶液B混合均匀,室温搅拌2-4h,到均相混合溶液;在均相混合溶液中,模板剂含量为0.5~3wt.%,金属醇盐的含量为1~8 wt.%,金属氯化物与金属醇盐的摩尔比为1:2~1:5,其余为溶剂;
(2)所得均相混合溶液通过铺膜、旋涂或提拉的方法,使易挥发的极性有机溶剂于室温挥发12~24h,之后置于40~80℃的烘箱中进一步挥发溶剂,最后将样品转移至100~150℃烘箱中烘12~24h,使其固化;
(3)将固化的样品收集后煅烧,煅烧过程分步进行:首先将样品置于惰性气氛中以1~5℃/min的升温速率升至350~400℃煅烧3~5h,得到双金属氧化物/碳复合材料;然后将得到的复合材料转移至空气气氛中,以5~10℃/min的升温速率升至400~600℃,煅烧30~180min,得到介孔双金属氧化物气敏传感材料。
2.根据权利要求1所述的合成方法,其特征在于,步骤(1)中所用的两亲性嵌段共聚物的数均分子量为5000~50000;亲水段为聚环氧乙烷、聚-(4-乙烯基吡啶)、聚-(2-乙烯基吡啶)中的一种,数均分子量为1000~10000;疏水段为聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚异戊二烯、聚环氧丙烷及它们的衍生物具有疏水性质的聚合物,或者两种或两种以上疏水性聚合物的共聚物,数均分子量为4000~40000。
3.根据权利要求1所述的合成方法,其特征在于,步骤(1)中所用溶剂为四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、二氧六环、乙醇中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,得到的双金属氧化物半导体气敏材料
具有球形或蠕虫状的有序介孔孔道结构,孔道结构的空间群为Fmm、p6mm、Imm、Pmn、Pmm、Fdm、P63/mmc、Iad中一种或者几种的混合结构;介孔孔径尺寸为10 nm~35 nm,比表
面积为100~135m2/g,孔容为0.2~0.45cm3/g。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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---|---|
CN110451561A true CN110451561A (zh) | 2019-11-15 |
CN110451561B CN110451561B (zh) | 2022-01-28 |
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Country Status (1)
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CN (1) | CN110451561B (zh) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114225853A (zh) * | 2021-12-27 | 2022-03-25 | 纳法瑞科技研究院(深圳)有限公司 | 一种用于捕获co2的复合纳米气凝胶材料及其制备方法 |
CN114751445A (zh) * | 2022-04-08 | 2022-07-15 | 上海复感科技有限公司 | 一种贵金属敏化的纳米多孔SnO2基气敏材料的制备方法 |
CN115012071A (zh) * | 2022-05-24 | 2022-09-06 | 东华大学 | 一种介孔金属氧化物半导体复合纤维的制备方法 |
CN116735675A (zh) * | 2023-03-14 | 2023-09-12 | 中国石油大学(华东) | 一种二氧化钛量子点修饰二氧化锡的氢敏材料和氢气传感器及其制备方法和应用 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1446750A (zh) * | 2003-01-30 | 2003-10-08 | 复旦大学 | 一类多组分大孔径氧化物介孔材料及其制备方法 |
CN101274766A (zh) * | 2008-05-15 | 2008-10-01 | 复旦大学 | 一种有序介孔氧化钛硅分子筛的合成方法 |
CN106745059A (zh) * | 2016-12-07 | 2017-05-31 | 昆明理工大学 | 一种双金属磷酸盐有序介孔分子筛MZrPO的制备方法 |
CN108217731A (zh) * | 2017-12-16 | 2018-06-29 | 复旦大学 | 高度分散的贵金属负载有序介孔氧化钨气敏材料及其制备方法 |
-
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1446750A (zh) * | 2003-01-30 | 2003-10-08 | 复旦大学 | 一类多组分大孔径氧化物介孔材料及其制备方法 |
CN101274766A (zh) * | 2008-05-15 | 2008-10-01 | 复旦大学 | 一种有序介孔氧化钛硅分子筛的合成方法 |
CN106745059A (zh) * | 2016-12-07 | 2017-05-31 | 昆明理工大学 | 一种双金属磷酸盐有序介孔分子筛MZrPO的制备方法 |
CN108217731A (zh) * | 2017-12-16 | 2018-06-29 | 复旦大学 | 高度分散的贵金属负载有序介孔氧化钨气敏材料及其制备方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
BOZHI TIAN等: "Self-adjusted synthesis of ordered stable mesoporous minerals by acid–base pairs", 《NATURE MATERIALS》 * |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114225853A (zh) * | 2021-12-27 | 2022-03-25 | 纳法瑞科技研究院(深圳)有限公司 | 一种用于捕获co2的复合纳米气凝胶材料及其制备方法 |
CN114225853B (zh) * | 2021-12-27 | 2023-12-22 | 纳法瑞科技研究院(深圳)有限公司 | 一种用于捕获co2的复合纳米气凝胶材料及其制备方法 |
CN114751445A (zh) * | 2022-04-08 | 2022-07-15 | 上海复感科技有限公司 | 一种贵金属敏化的纳米多孔SnO2基气敏材料的制备方法 |
CN114751445B (zh) * | 2022-04-08 | 2024-12-20 | 上海复感科技有限公司 | 一种贵金属敏化的纳米多孔SnO2基气敏材料的制备方法 |
CN115012071A (zh) * | 2022-05-24 | 2022-09-06 | 东华大学 | 一种介孔金属氧化物半导体复合纤维的制备方法 |
CN116735675A (zh) * | 2023-03-14 | 2023-09-12 | 中国石油大学(华东) | 一种二氧化钛量子点修饰二氧化锡的氢敏材料和氢气传感器及其制备方法和应用 |
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