CN110404382A - 废气等离子体处理设备和包括其的废气等离子体处理系统 - Google Patents

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Abstract

公开了使用焰炬等离子体的废气等离子体处理设备和系统。该设备采用工作气体供应管与腔室的壁之间以及工作气体供应管与废气进气管之间的热交换构造，以利用在等离子体腔室中产生的热来预热工作气体、废气和废气进气管。此外，围绕腔室的壁的外壳在它们之间提供废气混合空间，以使废气混合并将混合后的气体置于腔室的处理空间中。设备可作为小型化的POU设备连接到半导体制造设施的每个处理单元，并且湿式洗涤器可布置在其下游位置中以有效地处理包括温室气体的废气。

Description

废气等离子体处理设备和包括其的废气等离子体处理系统
技术领域
本发明涉及一种温室气体处理系统，更具体地，涉及一种能够有效地处理从半导体制造工艺中产生的废气的废气等离子体处理设备和系统。
背景技术
由于工业的发展，工业领域中产生的污染物质增多，并且大气环境迅速恶化。由于经济发展的快速工业扩张政策，宽松的监管不可避免，但近年来，正在付出诸如粉尘和全球变暖的严重代价。
作为减轻环境污染的措施，近年来，IT产业制造商已经采用了规范污染物排放总量的排放总量规程，并且已经大大强化了公差标准。因此，每个制造商已经设定了气体和颗粒污染物接近零排放的目标，并且正在努力开发和建造新的废气处理设备和系统。例如，除了努力改善现有污染物的处理效率之外，还针对作为新的监管项目增加的新的污染物引入了新的设备或系统。
确实，用于处理污染物的工艺和设备正变得越来越重要，但是在工业领域中，存在废气处理仍然是生产工艺中附带的问题的限制。此外，在已经安装并运行的工业现场的设施布局中，难以对用于处理污染物的设备或设施进行改造或者引入用于处理污染物的设备或设施。特别地，由于传统的废气处理系统将污染物收集到一个地方并同时采用大型设施对它们所有进行一次性处理，因此，为了改造这样的设备和系统或者添加新的设备和系统，在空间方面存在限制，这需要花费大量的成本。
因此，需要新的设备和系统，该新的设备和系统使占用面积最小化同时增大处理效率，并且进一步减少由于处理而引起的能耗。
【现有技术文件】
韩国专利公开文本10-2007-0075770
发明内容
【所要解决的技术问题】
本发明是针对现有技术的上述问题而进行的，并且提供了一种对目标气体具有高处理效率以及低能耗的废气等离子体处理设备。
本发明还提供了一种废气等离子体处理设备，该废气等离子体处理设备一体地包含真空泵和等离子体处理元件，从而以POU(用户点)型设备连接到每个半导体制造工艺设施。
本发明提供了一种废气等离子体处理系统，该废气等离子体处理系统包括多个上述废气等离子体处理设备和一个用于处理从废气等离子体处理设备传送的废气的湿式洗涤器。
【解决技术问题的手段】
本发明提供了一种废气等离子体处理设备，所述废气等离子体处理设备包括：腔室，具有由壁形成的废气的处理空间；焰炬，被安装为产生用于处理腔室的处理空间中的废气的火焰；以及工作气体供应单元，具有工作气体供应管以将工作气体供应到焰炬，其中，工作气体供应管被安装为围绕腔室的壁至少一次，从而与腔室的壁进行热交换。
工作气体可以为N2。
所述设备还可以包括用于输送将在腔室的处理空间中被处理的废气的废气进气管，其中，工作气体供应管被安装为在与腔室的壁进行热交换之后与废气进气管执行热交换。
所述设备还可以包括用于在废气进气管的周向表面上提供封闭空间的换热套，其中，工作气体供应管被安装为使得工作气体的路径穿过换热套的封闭空间的内部。
所述设备还可以包括在与腔室的壁分离的状态下围绕腔室的壁的外壳，外壳提供位于腔室的壁与外壳之间的混合空间，其中，腔室的壁的高度低于外壳的壁的高度，使得腔室的处理空间在腔室的壁的上端上方与混合空间连通。
废气进气管可以被安装为将废气供应到混合空间中，并且引入到混合空间中的废气溢出腔室的壁的上端并流入腔室的处理空间中。
腔室的壁和外壳的壁可以是圆柱形的。
废气进气管将废气引入到混合空间中，使得废气的路径被引导到腔室的壁的侧面，从而使废气在混合空间中执行气旋旋转。
废气进气管可以以这样的方式将废气引入到混合空间中：废气的路径相对于腔室的壁沿倾斜方向被引导。
腔室的壁可以由陶瓷基材料制成。
本发明还可以提供一种集成的废气等离子体处理设备，所述集成的废气等离子体处理设备包括：真空泵，连接到废气产生源；以及壳体，容纳包括焰炬的离子体处理元件、真空泵和腔室的壁。
本发明还提供了一种基于半导体制造工艺的废气等离子体处理系统，所述系统包括：根据前述设备中的任一设备的废气等离子体处理设备；以及单个湿式洗涤器，用于接收和处理来自废气等离子体处理设备的废气。
湿式洗涤器可以包括静电除尘器元件。
【发明的效果】
根据本发明，提供了一种焰炬等离子体废气处理设备和包括该焰炬等离子体废气处理设备的系统。通过利用等离子体腔室中产生的热对等离子体工作气体进行加热，并且进一步通过加热的工作气体对废气进气管进行加热，从而实现低能耗废气处理。通过将小型化集成等离子体设备连接到每个生产设施，能够将小型化集成等离子体设备安装为POU设备，从而可额外安装该小型化集成等离子体设备而不需要改变现有生产设施。
附图说明
图1至图3是示意性地示出根据本发明的废气等离子体处理设备的主体部分的视图。
图4是根据本发明的基于半导体制造工艺的废气等离子体处理系统的示意图。
具体实施方式
在下文中，将参照附图详细地描述本发明的实施例。在下面对本发明的实施例进行的描述中，当对在此包含的已知功能和构造的详细描述可能使本发明的主题相当不清楚时，将省略对在此包含的已知功能和构造的详细描述。
本发明提供了一种废气等离子体处理设备和包括该废气等离子体处理设备的系统。这样的设备和系统可以有利地应用于处理从半导体生产设施产生的废气。本发明的废气等离子体处理设备可以被安装为连接到半导体生产设施的每个生产设施的POU(pointof user，用户点)设备，以处理从每个生产设施排出的含有污染物的废气。
与最后通过大型设备集中处理全部废气的传统处理系统相比，安装为POU设备的废气等离子体处理设备可以通过使用等离子体有效地处理目标气体。并且在不显着改变生产设备的布局的情况下，可以对安装为POU设备的废气等离子体处理设备进行额外安装同时占用小的占地面积。特别地，采用使用等离子体的废气处理设备的系统可处理在半导体生产工艺中产生的大约90％或更多的不可降解气体，例如CF4、SF6和NF3。
本发明中使用的废气等离子体处理设备通过与等离子体腔室进行热交换来对等离子体焰炬的工作气体(诸如N2)进行加热，而无需额外加热。为此，工作气体供应管被安装为围绕腔室的壁，并通过与腔室的壁的热交换来加热工作气体。此外，工作气体供应管被安装为能够与用于将废气输入到等离子体设备中的废气进气管执行热交换。因此，可通过经与腔室的壁执行热交换而加热的工作气体(诸如N2)对废气进气管进行加热。因此，能够防止流过废气进气管的废气中的重金属(诸如Ti或W)沉积或积聚在管的内壁上。
此外，本发明的废气等离子体处理设备还包括能够在将废气引入到腔室的处理空间中之前使废气混合并对废气进行预热的构造。这可通过提供围绕腔室的壁的外壳以在外壳与腔室的壁之间提供混合空间来实现。腔室的壁的高度低于外壳的壁的高度，使得在腔室的壁的上端中提供有间隙，并且在混合空间中混合的废气溢出腔室的壁并通过间隙流入腔室的处理空间中。优选地，腔室的壁和外壳的壁形成为圆柱形形状，使得当废气进气管被安装为使得废气的路径在腔室的壁的横向方向上时，从而进一步增强混合效果。
优选地，本发明的废气等离子体处理设备包括用于使废气从生产设施排出的真空泵和用于容纳等离子体处理元件的壳体。当废气等离子体处理设备被构造为真空泵集成型时，能够连接废气等离子体处理设备而无需改变现有的生产设施。
根据本发明的用于半导体制造工艺的废气处理系统以如下构造来实现：上述废气等离子体处理设备作为POU设备连接到相应的处理设备，并且一个湿式洗涤器设置在废气等离子体处理设备的下游。这样的系统可改善含有难降解气体(refractory gas)以及灰尘或颗粒的废气的处理效率。因此，本发明的设备可非常有利地用于处理作为温室气体且难降解的CF4、SF6、NF3，本发明的设备毫无困难地安装在现有的半导体制造设施中。
图1至图3是示意性地示出根据本发明的废气等离子体处理设备的主体部分的视图。图1至图3示出了下面将顺序地进行描述的本发明的废气等离子体处理设备10的实施例1至实施例3。
参照附图，根据本发明的第一实施例的废气等离子体处理设备10包括腔室111、焰炬(torch)113、具有工作气体供应管115的工作气体供应单元(未示出)。在附图中，附图标记11大体被指定为焰炬等离子体单元。
腔室111包括壁1111，壁1111提供处理从废气进气管17充入的废气的处理空间1113。壁1111可以是具有敞开的顶部的圆柱形。排出处理后的气体的排气口1114设置在壁1111的下部处。
焰炬113被布置为向腔室111的处理空间1113中产生等离子体火焰。
工作气体供应单元的工作气体供应管115将工作气体供应到焰炬113。根据第一实施例的废气等离子体处理设备10被构造为使得工作气体供应管115在腔室111的壁1111的周围缠绕至少一次，以与腔室111的壁1111执行热交换。优选地，腔室111的壁1111可以由诸如Al2O3的陶瓷材料制成。
工作气体可以优选地包含N2作为用于产生初始电弧的气体。在例如大约10℃至大约30℃(优选为大约25℃)的温度下引入工作气体，并在与腔室111的壁1111进行热交换的同时工作气体被加热到大约100℃至大约200℃(优选为大约150℃)，然后将工作气体供应到焰炬113。
因此，根据第一实施例的废气等离子体处理设备10可节省用于加热工作气体(诸如N2)的能量。
除了上述第一实施例的设备之外，根据第二实施例的废气等离子体处理设备10还可以包括外壳1115。外壳1115可以优选地是圆柱形的，并且被布置为在与腔室111的壁1111分离的状态下围绕腔室111的壁1111，以在外壳1115与腔室111的壁1111之间提供混合空间1119。凸缘元件1116设置在外壳1115的上端处以支撑焰炬113的焰炬壳1117。焰炬113的焰炬壳1117在下端处也具有凸缘元件1118，使得如图1中所示，外壳1115和焰炬壳1117通过凸缘元件1116和凸缘元件1118连接。此时，开口设置在凸缘元件1116和凸缘元件1118中，并且焰炬113设置在焰炬壳1117的凸缘元件1118中，从而在外壳1115中的腔室111的处理空间1113中产生等离子体火焰。
腔室111的壁1111可以比外壳1115的壁低，使得混合空间1119通过腔室111的壁1111的上端上的间隙与腔室111的处理空间1113连通。
废气进气管17优选地被布置为将待处理的废气喷射到混合空间1119中。引入到混合空间1119中的废气可在混合空间1119中充分地混合，然后被引入到腔室111的处理空间1113中。特别地，由于腔室111的壁1111和外壳1115的壁都具有圆柱形形状，所以引入到混合空间1119中的废气在气旋旋转时通过腔室111的壁1111的上端上方的间隙流入处理空间1113中。更优选地，废气进气管17可以被引导到腔室111的壁1111的侧面或稍微向下引导，以引起更有效的气旋旋转。
根据第二实施例的废气等离子体处理设备10还包括在工作气体供应管115与废气进气管17之间的热交换构造。为此，根据第二实施例的废气等离子体处理设备10包括设置在废气进气管17周围(例如，设置在废气进气管17的周向表面上)的换热套13，以提供封闭的热交换空间。与腔室111的壁1111交换的工作气体供应管115使工作气体通过换热套13的热交换空间。因此，通过与腔室111的壁1111的热交换而加热的工作气体对换热套13中的热交换空间中的废气进气管17进行加热。因此，能够防止包含在废气中的重金属或颗粒物质沉积在废气进气管17的内壁上。
如图2和图3中所示，除了上述第一实施例和第二实施例的元件之外，根据第三实施例的废气等离子体处理设备10还包括真空泵12以及用于容纳真空泵12和等离子体器件元件的壳体19，从而将其实现为集成设备。真空泵12可以在其一端处连接到每个处理设备(或称为“废气产生源”)以从每个处理设备排出废气，并且在其另一端处连接到废气进气管17。壳体19容纳上述废气处理设备10的元件并将其实现为集成设备。
这样的集成的废气等离子体处理设备可以适合地用作POU设备。例如，如下面将在本发明的废气等离子体处理系统的描述中提到的，可增强废气处理而不显著改变现有半导体制造设施的布局。由于焰炬等离子体设备的整体尺寸不大，所以本发明的一体化实现的废气等离子体处理设备可安装在现有设施中并在现有设施中运行而不受任何空间限制。此外，由于本发明的废气等离子体处理设备10包括真空泵12，所以它可连接到制造设施而无需诸如将额外的真空泵附着到制造设施的大的改变。
图4是示出本发明的用于半导体制造工艺的废气等离子体处理系统的实施例的示意图。
在根据本发明的用于半导体制造工艺的废气等离子体处理系统的实施例中，上述废气等离子体处理设备10连接到每个制造设施，并且湿式洗涤器20设置在下游位置处。因此，能够完全地处理废气中的粉尘或残余污染物。优选地，可以提供四个废气等离子体处理设备10(10a、10b、10c和10d)和单个湿式洗涤器20的组合。
优选地，湿式洗涤器20可以包括静电除尘器，并且可以通过诸如电荷收集清洁(charge-collecting-cleaning)的工艺对在废气等离子体处理设备10中未处理的灰尘或颗粒物质或者其它污染物进行处理。
上述的本发明的废气等离子体处理设备10和系统可有效地处理从每个半导体制造设施排出的包含温室气体的废气。特别地，由于可额外安装其中真空泵和焰炬等离子体元件一体地结合的废气等离子体处理设备而在运行中不受布局的任何限制，因此可经济地处理废气。期望的是，焰炬等离子体设备可被小型化且适用于诸如CF4、NF3、SF6等的温室气体的处理，并且可对近期监管项目的增加和强化趋势非常有益。本发明的焰炬废气等离子体处理设备使用在其自身的腔室中产生的热来加热工作气体，并且还在通过热交换加热的工作气体与废气之间执行热交换。这不仅节省了能源，而且有效地缓解了包含在废气中的大量粉末沉积到管的内壁上的问题。此外，焰炬等离子体废气处理设备和具有电集尘元件的湿式洗涤器的组合呈现出对在半导体制造工艺中产生的包括温室气体的废气的接近90％的处理效率。
虽然已经参照本发明的示例性实施例具体地示出并描述了本发明，但是将理解的是，发明不限于所公开的示例性实施例。
【附图标记描述】
11：焰炬等离子体单元，12：真空泵，13：换热套，17：废气进气管，19：壳体，20：湿式洗涤器，111：腔室，113：焰炬，115：工作气体供应管，1113：处理空间，1114：排气口，1115：外壳，1116：凸缘元件，1117：焰炬壳，1118：凸缘元件，1119：混合空间

Claims (13)

1.一种废气等离子体处理设备，所述废气等离子体处理设备包括：
腔室，具有由壁形成的废气的处理空间；
焰炬，被安装为产生用于处理腔室的处理空间中的废气的火焰；以及
工作气体供应单元，具有工作气体供应管以将工作气体供应到焰炬，
其中，工作气体供应管被安装为围绕腔室的壁至少一次，从而与腔室的壁进行热交换。
2.根据权利要求1所述的废气等离子体处理设备，其中，工作气体为N2。
3.根据权利要求1所述的废气等离子体处理设备，所述废气等离子体处理设备还包括用于输送将在腔室的处理空间中被处理的废气的废气进气管，其中，工作气体供应管被安装为在与腔室的壁进行热交换之后与废气进气管执行热交换。
4.根据权利要求3所述的废气等离子体处理设备，所述废气等离子体处理设备还包括用于在废气进气管的周向表面上提供封闭空间的换热套，其中，工作气体供应管被安装为使得工作气体的路径穿过换热套的封闭空间的内部。
5.根据权利要求1所述的废气等离子体处理设备，所述废气等离子体处理设备还包括在与腔室的壁分离的状态下围绕腔室的壁的外壳，外壳提供位于腔室的壁与外壳之间的混合空间，其中，腔室的壁的高度低于外壳的壁的高度，使得腔室的处理空间在腔室的壁的上端上方与混合空间连通。
6.根据权利要求5所述的废气等离子体处理设备，其中，所述废气进气管被安装为将废气供应到混合空间中，并且引入到混合空间中的废气溢出腔室的壁的上端并流入腔室的处理空间中。
7.根据权利要求5所述的废气等离子体处理设备，其中，腔室的壁和外壳的壁是圆柱形的。
8.根据权利要求7所述的废气等离子体处理设备，其中，废气进气管以这样的方式将废气引入到混合空间中：废气的路径被引导到腔室的壁的侧面，从而使废气在混合空间中执行气旋旋转。
9.根据权利要求8所述的废气等离子体处理设备，其中，废气进气管以这样的方式将废气引入到混合空间中：废气的路径相对于腔室的壁沿倾斜方向被引导。
10.根据权利要求1所述的废气等离子体处理设备，其中，腔室的壁由陶瓷基材料制成。
11.根据权利要求1至10中的任一项所述的废气等离子体处理设备，所述废气等离子体处理设备还包括：
真空泵，连接到废气产生源；以及
壳体，容纳包括焰炬的等离子体处理元件、真空泵和腔室的壁。
12.一种基于半导体制造工艺的废气等离子体处理系统，所述废气等离子体处理系统包括：
根据权利要求1至10中任一项所述的废气等离子体处理设备；以及
单个湿式洗涤器，用于接收和处理来自废气等离子体处理设备的废气。
13.根据权利要求12所述的废气等离子体处理系统，其中，湿式洗涤器包括静电除尘器元件。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115430251A (zh) * 2021-06-04 2022-12-06 玛特普拉斯有限公司 电子工业废气处理装置
CN115430269A (zh) * 2022-08-09 2022-12-06 上海翰逸环保科技有限公司 一种高压交流电弧等离子处理废气设备

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102059553B1 (ko) 2019-05-13 2019-12-26 정재억 육불화인산리튬 제조공정용 배기가스 처리설비

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004200364A (ja) * 2002-12-18 2004-07-15 Seiko Epson Corp 排ガス処理装置および排ガス処理方法
KR20090061834A (ko) * 2007-12-12 2009-06-17 주식회사 케이피씨 보조 열처리부가 구비된 폐가스 처리장치
KR20110117753A (ko) * 2010-04-22 2011-10-28 주식회사 뉴프로테크 폐가스 처리 장치
KR20120021651A (ko) * 2010-08-12 2012-03-09 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 ＰＦＣｓ 가스 분해 장치 및 방법
CN103372368A (zh) * 2012-04-23 2013-10-30 丰映科技股份有限公司 用于PFCs废气处理的涡流等离子体反应器
CN104437029A (zh) * 2013-09-23 2015-03-25 Gnbs工程有限公司 用于处理工艺废气的洗涤器
KR101520174B1 (ko) * 2013-07-18 2015-05-13 주식회사 에코에너젠 가스 스크러버
CN105209156A (zh) * 2013-03-14 2015-12-30 Mks仪器股份有限公司 环形等离子体减少设备和方法
CN105376920A (zh) * 2011-04-14 2016-03-02 爱德华兹有限公司 等离子体焰炬
KR20160028672A (ko) * 2014-09-04 2016-03-14 주식회사 지앤비에스엔지니어링 공정 폐 가스 처리장치
CN105879600A (zh) * 2015-02-17 2016-08-24 易克易呢根股份有限公司 节能型介质阻挡放电等离子体氮氧化物减排装置
CN106165062A (zh) * 2014-04-16 2016-11-23 清洁要素技术有限公司 处理制程设备发生的废气的等离子体反应器
KR101776235B1 (ko) * 2016-06-17 2017-09-11 (주)클린팩터스 공정설비에서 발생되는 배기가스 처리 플라즈마 반응기
CN107249753A (zh) * 2015-02-23 2017-10-13 爱德华兹有限公司 用于处理气体的设备

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004200364A (ja) * 2002-12-18 2004-07-15 Seiko Epson Corp 排ガス処理装置および排ガス処理方法
KR20090061834A (ko) * 2007-12-12 2009-06-17 주식회사 케이피씨 보조 열처리부가 구비된 폐가스 처리장치
KR20110117753A (ko) * 2010-04-22 2011-10-28 주식회사 뉴프로테크 폐가스 처리 장치
KR20120021651A (ko) * 2010-08-12 2012-03-09 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 ＰＦＣｓ 가스 분해 장치 및 방법
CN105376920A (zh) * 2011-04-14 2016-03-02 爱德华兹有限公司 等离子体焰炬
CN103372368A (zh) * 2012-04-23 2013-10-30 丰映科技股份有限公司 用于PFCs废气处理的涡流等离子体反应器
CN105209156A (zh) * 2013-03-14 2015-12-30 Mks仪器股份有限公司 环形等离子体减少设备和方法
KR101520174B1 (ko) * 2013-07-18 2015-05-13 주식회사 에코에너젠 가스 스크러버
CN104437029A (zh) * 2013-09-23 2015-03-25 Gnbs工程有限公司 用于处理工艺废气的洗涤器
CN106165062A (zh) * 2014-04-16 2016-11-23 清洁要素技术有限公司 处理制程设备发生的废气的等离子体反应器
KR20160028672A (ko) * 2014-09-04 2016-03-14 주식회사 지앤비에스엔지니어링 공정 폐 가스 처리장치
CN105879600A (zh) * 2015-02-17 2016-08-24 易克易呢根股份有限公司 节能型介质阻挡放电等离子体氮氧化物减排装置
CN107249753A (zh) * 2015-02-23 2017-10-13 爱德华兹有限公司 用于处理气体的设备
KR101776235B1 (ko) * 2016-06-17 2017-09-11 (주)클린팩터스 공정설비에서 발생되는 배기가스 처리 플라즈마 반응기

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115430251A (zh) * 2021-06-04 2022-12-06 玛特普拉斯有限公司 电子工业废气处理装置
CN115430269A (zh) * 2022-08-09 2022-12-06 上海翰逸环保科技有限公司 一种高压交流电弧等离子处理废气设备
CN115430269B (zh) * 2022-08-09 2024-05-03 上海翰逸环保科技有限公司 一种高压交流电弧等离子处理废气设备

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