CN115430251A - 电子工业废气处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种电子工业废气处理装置。根据本发明一实施例的电子工业废气处理装置包括：反应腔室，其形成有流入口和排放口，形成有用于净化废气的内部空间；第一分区板，其从与流入口对置的反应腔室的内壁朝着流入口方向延伸，将内部空间划分为用于捕获废气中粉尘的预处理区域和其余净化区域；第二分区板，其从反应腔室的棚顶朝着垂直下方延伸，将净化区域划分为用于加热废气进行热解的热解区域和后处理区域；加热器，其设置在反应腔室的棚顶，以位于热解区域，对于流入到热解区域的废气进行加热，热解全氟化合物；以及干式洗涤塔机组，其包含一种以上催化剂，以便于捕获流入到后处理区域的废气之中的粉尘、氟化合物、氧化亚氮(N2O)中至少一种。

Description

电子工业废气处理装置
技术领域
本发明涉及一种电子工业废气处理装置，更具体地，涉及一种净化污染物并排放的电子工业废气处理装置，该污染物包含于制造显示器、半导体等的电子工业领域中产生的废气中。
背景技术
通常，制造LED、LCD等的电子工业领域在基板上反复实施扩散、蚀刻、蒸镀等多种工艺，这种工艺向大部分密闭的工艺腔室内部输送工艺气体，使其在晶圆上进行反应，不同工艺采用多种不同类型的工艺气体。
此时，主要使用毒性、可燃性、腐蚀性等特性强的工艺气体，使用的工艺气体中，只有一部分参加反应，其余的工艺气体则以未反应状态排出。
以未反应状态排出的工艺气体由于其特性，如果未经过特殊的净化过程排放到空气中，不仅会引发外围设备的损坏及操作人员的安全事故，还会引起严重的环境污染，因此，排放线路上设置热解反应器、催化剂反应器、洗涤塔等各种净化装置来净化电子工业产生的废气并排放。
上述净化装置中，洗涤塔可以分为干式、湿式或混合式，湿式洗涤塔用水清洗和冷却废气，结构较简单，制造容易，易于实现大容量化，还有益于处理水溶性全氟化合物，因此，主要用于净化含有大量电子工业产生的全氟化合物的废气。
但是，由于难以保证足量的净化处理用水等问题，最近，半导体等电子工业关于废气干式处理技术的需求逐渐增多。
并且，如POU(Point of Use)洗涤塔等，设置在生产线(INSIDE OF FABRICATIONLINE；FAB)上时，由于设置面积上制约多，关于以一体型配备热解反应器、催化剂反应器、洗涤塔等多种处理装置的废气处理装置的需求逐渐增多，以便于实现废气处理装置小型化的同时，同时处理多种污染物。
上述背景技术描述的内容仅用于更进一步理解本发明的背景，不应该认为，其相当于本技术领域的通常技术人员公知的传统技术。
【先行技术文献】
【专利文献】
KR 10-1720086 B1(2017.03.21.)
发明内容
为了解决上述弊端，本发明提供一种以一体型整合热解反应器、催化剂反应器、洗涤塔等，以实现体积最小化的电子工业废气处理装置。
并且，提供一种可以干式净化电子工业废气中污染物并排放的电子工业废气处理装置。
并且，提供一种可以同时处理全氟化合物、粉尘和氮氧化物(NOx)的电子工业废气处理装置。
本发明要解决的技术问题不受上述技术问题的限定，本技术领域的通常技术人员可以从发明的描述明确地理解未提及的又另一技术问题。
本发明一实施例的电子工业废气处理装置包括：反应腔室，其形成有流入口和排放口，形成有用于净化废气的内部空间；第一分区板，其从与所述流入口对置的所述反应腔室的内壁朝着所述流入口方向延伸，将所述内部空间划分为用于捕获废气中粉尘的预处理区域和其余净化区域；第二分区板，其从所述反应腔室的棚顶朝着垂直下方延伸，将所述净化区域划分为用于加热废气进行热解的热解区域和后处理区域；加热器，其设置在所述反应腔室的棚顶，以位于所述热解区域，对于流入到所述热解区域的废气进行加热，热解氟化合物；以及干式洗涤塔机组，其包含一种以上催化剂，以便于捕获流入到所述后处理区域的废气之中的粉尘、氟化合物、氧化亚氮(N2O)中至少一种。
所述第一分区板从所述反应腔室内壁朝着所述流入口方向向上倾斜，优选地，其平面和底面沿着纵向及横向隔开形成有多个第一捕获凸起。
本发明中，所述第一分区板还可以包括：粉尘排除门，其与所述反应腔室相邻，将捕获到其平面的粉尘排放到所述预处理区域。
更优选地，本发明一实施例的电子工业废气处理装置还可以包括：第三分区板，其从所述第一分区板的端部向上方延伸，以防止粉尘流入到所述热解区域以及发生热损失。
优选地，本发明一实施例的所述流入口朝下倾斜弯曲，以便于向所述内部空间的底部输送废气。
所述反应腔室还可以包括：沿着纵向和横向隔开的多个第二捕获凸起，该第二捕获凸起呈四角锥状，截面积从形成有所述流入口的所述反应腔室的一侧向另一侧方向越来越增大，以便于防止堆积到所述内部空间底部的粉尘逆流。
所述干式洗涤塔机组可以包括：第一催化剂部，其吸附经过所述加热器加热的废气中氟化合物进行处理；以及热交换部，其沿着废气流向设置在所述第一催化剂部的后端，回收经过所述加热器加热的废气的废热。
更优选地，所述干式洗涤塔机组还可以包括：第二催化剂部，其设置在所述第一催化剂部和热交换部之间，直接分解经过所述加热器加热的废气中氧化亚氮(N2O)并清除。
并且，所述干式洗涤塔机组还可以包括：第三催化剂部，其设置在所述热交换部的前端，吸附废气中粉尘并清除。
本发明的实施例在单个反应腔室内完成吸尘、热解、洗涤塔功能，以同时处理粉尘、全氟化合物、氧化亚氮等包含于电子工业废气中的多种污染物，从而实现了其体积的最小化，减少了设置上的制约。
并且，干式净化污染物，不另外需要工程水，将设置制约减至最少，不产生废水等二次污染物，可以提高处理效率，降低处理费用。
附图说明
图1是本发明一实施例的电子工业废气处理装置的侧截面图。
图2是本发明一实施例的捕获凸起的形状及配置斜视图。
附图标记说明
100：反应腔室 101：流入口 102：排放口
110：内部空间 111：预处理区域 112：净化区域
112a：热解区域 112b：后处理区域 120：第二捕获凸起
200：第一分区板 210：第一捕获凸起 220：粉尘排除门
300：第二分区板 400：加热器 500：干式洗涤塔机组
510：第一催化剂部 520：热交换部 530：第二催化剂部
540：第三催化剂部 600：第三分区板
具体实施方式
以下，参考附图详细说明本发明的优选实施例，但，本发明不受实施例的限制或限定。仅供参考，本说明书中，相同的符号实际上在指相同的要素，在这种规则下，可以引用其他附图中记载的内容进行描述，可以省略本领域技术人员认为显而易见的或反复的内容。
本发明涉及一种电子工业废气处理装置，该装置以一体型配备吸尘器、热解反应器、催化剂反应器和洗涤塔，同时处理多种有害物质的同时，实现了体积的最小化。
并且，干式清除污染物，不另外需要工程水，进一步，将废水等二次污染物的产生减至最少。
图1是本发明一实施例的电子工业废气处理装置的侧截面图。
如图1所示，本发明一实施例的电子工业废气处理装置包括：反应腔室100，其形成有内部空间110，该内部空间110用于处理包含于废气中的有害物质；第一分区板200，其将内部空间110分为预处理区域111和净化区域112；第二分区板300，其将净化区域112划分为热解区域112a和后处理区域112b；加热器400，其设置在热解区域112a，净化全氟化合物；以及干式洗涤塔机组500，其设置在后处理区域112b，用于处理氟化合物或氧化亚氮(N2O)中至少一种。
反应腔室100的一侧侧面形成有用于流入废气的流入口101，其另一侧上部形成有用于排放已处理废气的排放口102，并构成配有内部空间110的盒体状，该内部空间110用于净化通过流入口101流入的废气中污染物。
本发明中，反应腔室100的内部空间110根据要处理的污染物的种类，大体上分为预处理区域111和净化区域112。
预处理区域111第一次清除通过流入口101流入反应腔室100内部的废气中粉尘，净化区域112由热解区域112a和后处理区域112b组成，该热解区域112a用于加热电子工业中产生的大量全氟化合物并进行热解，该后处理区域112b用于处理热解过程中产生的粉尘、氧化亚氮等。
本发明的一实施例中，反应腔室100可以由多种材料制作而成，但，由于预处理区域111、热解区域112a和后处理区域112b的温度不相同，可以根据各区域的工艺温度，采用不相同的材料制作。
例如，与预处理区域111和后处理区域112b相比，热解区域112a需要保持高温，因此，优选地，热解区域112a的反应腔室100内壁、第一分区板200和第二分区板300采用耐热性优异的材料制作，根据使用温度等，可以采用陶瓷等来形成耐热性优异的涂层后使用。
由此，可以防止因热解区域112a的高温损坏预处理区域111或后处理区域112b，还可以将热损失降低至最少，从而节省废气处理费用。
优选地，第一分区板200从反应腔室100的另一侧内壁朝着流入口101方向向上倾斜延伸，以便于将内部空间110划分为第一次捕获废气中粉尘的预处理区域111和其余净化区域112。
因此，可以增多废气的接触机会及时间，提高粉尘捕获效率，还可以对于废气的流动进行导流，将压力损失降至最低，使流动顺畅，提高处理效率。
此时，优选地，本发明一实施例的流入口101朝着反应腔室100的另一侧内壁方向，向下倾斜弯曲。
其理由在于：导流废气的流动，以使废气首先接触反应腔室100的底面之后，沿着第一分区板200的底面输送到配置于后端的净化区域112，从而使废气的流动顺畅的同时，可以增多接触机会及时间，提高处理效果。
更优选地，本发明一实施例的第一分区板200还包括粉尘排除门220，其与反应腔室100的另一侧内壁相邻，以便于将堆积于上部的粉尘及异物向下方排放。
因此，堆积于第一分区板200平面的粉尘沿着第一分区板200的倾斜，朝着粉尘排除门220方向移动，并根据预设时间或堆积的粉尘量等，操作粉尘排除门220的开合，使堆积于第一分区板200上部的粉尘朝着下方的预处理区域111排放，从而保证了维护方便，延长了维护周期，提高了工作效率。
并且，优选地，本发明一实施例的第一分区板200的平面和底面沿着纵向及横向隔开形成有多个第一捕获凸起210，优选地，反应腔室100的底面也以与第一捕获凸起210相同的形状和排序，突出形成有多个第二捕获凸起120。
图2是本发明一实施例的第一及第二捕获凸起的形状及配置斜视图。
如图2所示，优选地，本发明一实施例的第一捕获凸起210和第二捕获凸起120呈四角锥状，截面积沿着废气的流向朝着后方越来越增大。
因此，第一捕获凸起210和第二捕获凸起120增大与废气之间的接触面积，从而提高捕获效率，还可以防止捕获的粉尘被第一捕获凸起210和第二捕获凸起120的背面堵住，导致废气的流动反向逆流。
并且，本发明中，优选地，第一捕获凸起210和第二捕获凸起120沿着废气的流向，交替地，即，以国际象棋棋盘图案突出形成在前列和后列。
因此，即使粉尘逆流到n+1列的第一捕获凸起210和第二捕获凸起120之间，也可以防止被n列的第一捕获凸起210和第二捕获凸起120的背面堵住而逆流。
并且，粉尘沿着废气流向移动时，可以沿着第一捕获凸起210和第二捕获凸起120的侧面或倾斜自然地向后方移动。
据本发明记载，第一捕获凸起210和第二捕获凸起120呈四角锥状，也可以呈沿着废气的流向，顺利地正向移动粉尘的同时，防止反向逆流的“〈”或
Figure BDA0003157885260000061
状等多种形态。
并且，本发明一实施例的电子工业废气处理装置还可以包括粉尘移送手段130，如振动子，其设置在反应腔室100外壁，以便于沿着粉尘排除门220方向移动堆积于第一分区板200平面的粉尘。
因此，利用粉尘移送手段130，沿着粉尘排除门220方向移送堆积于第一分区板200平面的粉尘，从而使粉尘排放变顺利，维护变方便。
更优选地，本发明一实施例的电子工业废气处理装置还包括从第一分区板200的端部向上方延伸的第三分区板600。
因此，第三分区板600防止热解区域112a的热传达到预处理区域111，从而改善热效率，防止预处理区域111因高温损坏，进一步，防止预处理区域111的粉尘流入到热解区域112a。
第二分区板300从与排放口102相邻的反应腔室100棚顶朝着垂直下方延伸，以便于将净化区域112划分为热解处理全氟化合物的热解区域112a和其余后处理区域112b。
本发明中，如上所述，第一至第三分区板200、300、600是设置在热解区域的构成，优选地，采用耐热性优异的材料制作而成，并且，根据需要，可以在与热解区域112a面对着面的面上涂布耐热涂层。
如上所述，第一至第三分区板200、300、600将内部空间划分为：预处理区域111，其第一次捕获废气中粉尘；热解区域112a，其加热废气中全氟化合物进行热解，第二次捕获热解过程中产生的粉尘；以及后处理区域112b，其清除已处理全氟化合物的废气中氟化合物或氧化亚氮中至少一种，以便于整合成一体型，在单个反应腔室100同时处理粉尘、全氟化合物、氧化亚氮等多种污染物，从而实现体积的最小化，提高处理效率。
加热器400设置在反应腔室100的棚顶，以使其位于热解区域112a，并以高温加热流入到热解区域112a的废气，从而通过热反应处理废气中全氟化合物。
本发明中，加热器400可以选择性地适用可以加热废气并热解全氟化合物的多种加热器，如，电加热器、等离子加热器等，更优选地，使用电热器，因为电加热器处理温度较低，可以防止具备于后端干式洗涤塔机组的催化剂等受损。
此时，本发明一实施例的电子工业废气处理装置还可以包括一个以上温度传感器，该温度传感器设置在热解区域112a而检测热解区域112a的温度。
因此，依据利用温度传感器实时检测的热解区域112a温度，控制加热器400的运行，从而提高热解效率，防止因过热引起的处理费用升高及受损。
本发明一实施例的干式洗涤塔机组500在形成于第二分区板300和反应腔室100另一侧内壁之间的废气流动路径上依次配置有一种以上催化剂，以便于捕获到经热解处理的废气中氟化合物和氧化亚氮中至少一种。
更具体地，本发明一实施例的干式洗涤塔机组500能够使用的催化剂可以是吸附因分解全氟化合物产生的氟化合物并清除的吸附催化剂、直接分解氧化亚氮的氧化亚氮分解催化剂等，优选地，采用对于氟具有优异耐蚀性的催化剂。
本发明一实施例的另一干式洗涤塔机组500可以依次配置上述催化剂，从而最大限度提高污染物的清除效率，降低排放气体的温度。
更具体地，根据本发明一实施例构成的干式洗涤塔机组500是一种沿着废气流向包括：第一催化剂部510，其包含氟化合物吸附催化剂，以使经加热器400热分解的全氟化合物的次生物第二次处理氟化合物；第二催化剂部530，其包含氧化亚氮分解催化剂，设置在第一催化剂部510的后端，直接分解废气中氧化亚氮并清除；热交换部540，其配置在第二催化剂部530的后端。
本发明中，首先配置第一催化剂部510的原因在于：使第一催化剂部510吸附腐蚀性高的氟化合物并清除，从而将配置其后的第二催化剂部530和热交换部520的损坏降到最低。
并且，优选地，用于清除粉尘的第三催化剂部540配置在热交换部540的前端，其原因在于：防止热交换部540的表面粘住粉尘而降低热交换效率，从而抑制废气升温，提高热效率。
本发明使通过热交换部520回收的废热经流入口101流入到内部空间110，预热废气。
上述内容参考本发明的优选实施例说明了本发明，但，应当理解，只要是本技术领域的通常技术人员，就可以在不脱离以下所附权利要求书记载的本发明的思想与领域范围内，可以对本发明进行多种修改和变更。

Claims (9)

1.一种电子工业废气处理装置，其包括：
反应腔室，其形成有流入口和排放口，形成有用于净化废气的内部空间；
第一分区板，其从与所述流入口对置的所述反应腔室的内壁朝着所述流入口方向延伸，将所述内部空间划分为用于捕获废气中粉尘的预处理区域和其余净化区域；
第二分区板，其从所述反应腔室的棚顶朝着垂直下方延伸，将所述净化区域划分为用于加热废气进行热解的热解区域和后处理区域；
加热器，其设置在所述反应腔室的棚顶，以位于所述热解区域，对于流入到所述热解区域的废气进行加热，热解全氟化合物；以及
干式洗涤塔机组，其包含一种以上催化剂，以便于捕获流入到所述后处理区域的废气之中的粉尘、氟化合物、氧化亚氮中至少一种。
2.根据权利要求1所述的电子工业废气处理装置，其特征在于，
所述第一分区板从所述反应腔室内壁朝着所述流入口方向向上倾斜，其平面和底面沿着纵向及横向隔开形成有多个第一捕获凸起。
3.根据权利要求2所述的电子工业废气处理装置，其特征在于，
所述第一分区板还可以包括：粉尘排除门，其与所述反应腔室相邻，将捕获到其平面的粉尘排放到所述预处理区域。
4.根据权利要求2所述的电子工业废气处理装置，其特征在于，还包括：
第三分区板，其从所述第一分区板的端部向上方延伸，以防止粉尘流入到所述热解区域以及发生热损失。
5.根据权利要求1所述的电子工业废气处理装置，其特征在于，
所述流入口朝下倾斜弯曲，以便于向所述内部空间的底部输送废气。
6.根据权利要求5所述的电子工业废气处理装置，其特征在于，
所述反应腔室还包括：沿着纵向和横向隔开的多个第二捕获凸起，该第二捕获凸起呈四角锥状，截面积从形成有所述流入口的所述反应腔室的一侧向另一侧方向越来越增大，以便于防止堆积到所述内部空间底部的粉尘逆流。
7.根据权利要求1所述的电子工业废气处理装置，其特征在于，
所述干式洗涤塔机组可以包括：第一催化剂部，其吸附经过所述加热器加热的废气中氟化合物进行处理；以及热交换部，其沿着废气流向设置在所述第一催化剂部的后端，回收经过所述加热器加热的废气的废热。
8.根据权利要求7所述的电子工业废气处理装置，其特征在于，
所述干式洗涤塔机组还包括：第二催化剂部，其设置在所述第一催化剂部和热交换部之间，直接分解经过所述加热器加热的废气中氧化亚氮并清除。
9.根据权利要求7所述的电子工业废气处理装置，其特征在于，
所述干式洗涤塔机组还包括：第三催化剂部，其设置在所述热交换部的前端，吸附废气中粉尘并清除。
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Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101007237A (zh) * 2006-01-26 2007-08-01 高化环保技术有限公司 半导体制造工序中产生的废气的处理装置及处理方法
CN101417205A (zh) * 2001-12-04 2009-04-29 株式会社荏原制作所 处理废气的方法和装置
KR20120133292A (ko) * 2011-05-31 2012-12-10 주식회사 코캣 집결식 불소화합물 가스 분리 및 촉매분해 처리장치
CN106492598A (zh) * 2015-09-04 2017-03-15 全球标准技术有限公司 用于净化集成半导体废气的装置
CN109045896A (zh) * 2018-07-17 2018-12-21 天津市远卓环境工程股份有限公司 二氧化钛光催化恶臭气体处理装置及其处理方法
CN110404382A (zh) * 2018-04-27 2019-11-05 (株)因努彼亚 废气等离子体处理设备和包括其的废气等离子体处理系统
CN211043304U (zh) * 2019-10-10 2020-07-17 安徽天晟环保科技有限公司 一种自动烟尘烟气测试仪
CN112275139A (zh) * 2020-10-21 2021-01-29 清华大学 废气处理方法及其装置

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AR212098A1 (es) * 1976-12-21 1978-05-15 Joselevich E Unidad publicitaria y decorativa para la representacion de imagenes en pequena escala
US5320052A (en) * 1993-03-01 1994-06-14 Wahlco Environmental Systems, Inc. Catalytic sulfur trioxide flue gas conditioning
US5407647A (en) * 1994-05-27 1995-04-18 Florida Scientific Laboratories Inc. Gas-scrubber apparatus for the chemical conversion of toxic gaseous compounds into non-hazardous inert solids
US5582802A (en) * 1994-07-05 1996-12-10 Spokoyny; Felix E. Catalytic sulfur trioxide flue gas conditioning
US5538539A (en) * 1995-01-20 1996-07-23 Wahlco, Inc. Catalytic sulfur trioxide flue gas conditioning
JPH116418A (ja) * 1997-04-25 1999-01-12 Ngk Insulators Ltd 粒子状物質捕集装置及びこれを用いたディーゼルエンジン用排ガス浄化装置
US7261868B2 (en) * 2001-09-13 2007-08-28 Hitachi, Ltd. Process and apparatus for the decomposition of fluorine compounds
KR100473166B1 (ko) * 2001-12-07 2005-03-08 진인수 음식물쓰레기 처리기의 유해/악취가스처리장치
US6694900B2 (en) * 2001-12-14 2004-02-24 General Electric Company Integration of direct combustion with gasification for reduction of NOx emissions
KR100765118B1 (ko) * 2001-12-21 2007-10-08 주식회사 포스코 저온산화촉매를 이용한 일산화탄소 제거장치
US7168947B2 (en) * 2004-07-06 2007-01-30 General Electric Company Methods and systems for operating combustion systems
KR100604425B1 (ko) * 2006-01-23 2006-07-25 운해이엔씨(주) 비방전식 산업용 공기정화 장치
TWI355964B (en) * 2007-12-05 2012-01-11 Ind Tech Res Inst Method for catalytic treating perfluorocompound ga
US10471384B2 (en) * 2009-04-22 2019-11-12 The Babcock & Wilcox Company System and method for reducing halogen levels necessary for mercury control, increasing the service life and/or catalytic activity of an SCR catalyst and/or control of multiple emissions
WO2011055762A1 (ja) * 2009-11-04 2011-05-12 Nozaki Atsuo 清浄フィルタ及びこれを用いた空気清浄装置並びに空気清浄維持システム
KR101245198B1 (ko) 2012-12-26 2013-03-25 한국에너지기술연구원 융합형 미세먼지 및 질소산화물 제거 장치
US9192890B2 (en) * 2013-11-15 2015-11-24 The Babcock & Wilcox Company Integrated sorbent injection and flue gas desulfurization system
KR102133870B1 (ko) * 2018-08-20 2020-07-14 엠에이티플러스 주식회사 폐가스 처리 장치
KR101946355B1 (ko) * 2018-10-16 2019-02-11 주식회사 지엔티엔에스 산화촉매를 이용하는 무화염 방식의 대기정화장치 및 이를 포함하는 방폭형 대기정화시스템
KR102023950B1 (ko) * 2018-10-23 2019-09-23 엠에이티플러스 주식회사 폐가스 처리 장치

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101417205A (zh) * 2001-12-04 2009-04-29 株式会社荏原制作所 处理废气的方法和装置
CN101007237A (zh) * 2006-01-26 2007-08-01 高化环保技术有限公司 半导体制造工序中产生的废气的处理装置及处理方法
KR20120133292A (ko) * 2011-05-31 2012-12-10 주식회사 코캣 집결식 불소화합물 가스 분리 및 촉매분해 처리장치
CN106492598A (zh) * 2015-09-04 2017-03-15 全球标准技术有限公司 用于净化集成半导体废气的装置
CN110404382A (zh) * 2018-04-27 2019-11-05 (株)因努彼亚 废气等离子体处理设备和包括其的废气等离子体处理系统
CN109045896A (zh) * 2018-07-17 2018-12-21 天津市远卓环境工程股份有限公司 二氧化钛光催化恶臭气体处理装置及其处理方法
CN211043304U (zh) * 2019-10-10 2020-07-17 安徽天晟环保科技有限公司 一种自动烟尘烟气测试仪
CN112275139A (zh) * 2020-10-21 2021-01-29 清华大学 废气处理方法及其装置

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