CN110391155A - 附着基板的方法和用于附着基板的设备 - Google Patents

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Abstract

本公开涉及一种附着基板的方法和用于附着基板的设备，所述方法包括：将附着有离型膜的基板置于梭台上；从所述基板剥离所述离型膜；由传送单元从所述梭台抬起所述基板；由气体供应器朝向所述基板喷射气体使得所述基板在远离所述气体供应器的方向上凸出地弯曲；由所述传送单元将所述基板传送到室中；将所述基板置于所述室中的主台上；以及将所述基板附着到粘附体。

Description

附着基板的方法和用于附着基板的设备
相关申请的交叉引用
本申请要求于2018年4月19日提交的第10-2018-0045501号韩国专利申请的优先权和权益，出于如同在文中充分阐述的所有目的，通过引用特此包含该韩国专利申请。
技术领域
本发明的示例性实施例一般性地涉及附着基板的方法，并且更具体地涉及用于附着基板的设备。
背景技术
显示装置基于其发光机制可分类为液晶显示(“LCD”)装置、有机发光二极管(“OLED”)显示装置、等离子体显示面板(“PDP”)装置和电泳显示装置等。
一般来说，显示装置包括窗、显示面板和多个功能膜，所述多个功能膜中的每个可附着到相邻组件。离型膜可附着到有待附着的至少两个对象中的一个的表面，使得在去除离型膜之后可进行附着工艺。然而，在离型膜的去除期间可产生诸如灰尘和碎屑的杂质，并且杂质可降低附着工艺的精度。
如果附着工艺的精度被降低，则有待附着的对象之间的附着力可被降低，因此显示装置的可靠性和显示质量可被降低。因此，需要一种稳定地和精确地附着基板的方法和一种用于稳定地和精确地附着基板的设备。
在该背景技术部分中公开的以上信息仅用于发明构思的背景的理解，因此，以上信息可包含不构成现有技术的信息。
发明内容
本发明的示例性实施例提供一种稳定地和精确地附着基板的方法和一种用于稳定地和精确地附着基板的设备以提高显示装置的可靠性和显示质量。
本发明构思的附加特征将在后面的描述中阐述，并且所述附加特征将从所述描述中部分地显现，或者可通过本发明构思的实践习得。
本发明的示例性实施例公开了一种附着基板的方法，所述方法包括：将附着有离型膜的基板置于梭台上；从所述基板剥离所述离型膜；由传送单元从所述梭台抬起所述基板；由气体供应器朝向所述基板喷射气体使得所述基板在远离所述气体供应器的方向上凸出地弯曲；由所述传送单元将所述基板传送到室中；将所述基板置于所述室中的主台上；以及将所述基板附着到粘附体。
所述基板可包括基体层和粘合剂层，并且所述传送单元可不接触所述粘合剂层的上表面。
在由所述传送单元将所述基板传送到所述室中的过程中，可在弯曲状态下传送所述基板。
在将所述基板置于所述室中的所述主台上的过程中，所述基板可从所述基板的中央部至所述基板的边缘部依次接触所述主台。
在将所述基板置于所述室中的所述主台上的过程中，所述气体供应器可朝向所述基板喷射气体。
在将所述基板置于所述室中的所述主台上的过程中，可通过在所述主台中限定的至少一个孔将所述基板真空吸附到所述主台。
所述主台可包括中央部和介于所述中央部和边缘之间的外围部，并且所述主台可具有位于所述中央部处的多个第一孔和位于所述外围部处的多个第二孔。
在将所述基板置于所述室中的所述主台上的过程中，可通过所述多个第一孔真空吸附所述基板，然后可通过所述多个第二孔真空吸附所述基板。
在将所述基板置于所述室中的所述主台上的过程中，可由位于所述第一孔处的吸附垫固定所述基板，然后可通过所述多个第二孔真空吸附所述基板。
所述传送单元可包括设置为彼此分离的两个传送构件，所述基板插入所述两个传送构件之间。
在所述气体供应器朝向所述基板喷射气体使得所述基板在远离所述气体供应器的所述方向上凸出地弯曲的过程中，所述两个传送构件可在彼此接近的方向上移动。
在将所述基板置于所述室中的所述主台上的过程中，所述两个传送构件可在彼此远离的方向上移动。
在由所述传送单元将所述基板传送到所述室中的过程中，可通过在所述传送构件中限定的至少一个孔将所述基板真空吸附到所述传送构件。
所述传送单元还可包括连接到所述两个传送构件的支撑框架，并且所述两个传送构件中的每个可具有与所述支撑框架相对的倾斜表面。
所述方法还可包括在从所述基板剥离所述离型膜之后以及在所述传送单元从所述梭台抬起所述基板之前对所述基板执行等离子体工艺。
所述方法还可包括在从所述基板剥离所述离型膜之前清洗所述离型膜所附着到的所述基板。
本发明的示例性实施例还提供一种用于附着基板的设备，所述设备包括：梭台，所述梭台被配置为支撑和传送基板；主台，所述主台位于室中；传送单元，所述传送单元被配置为将所述基板从所述梭台传送到所述主台；以及气体供应器，所述气体供应器设置为与所述梭台分离，所述基板插入所述气体供应器和所述梭台之间，所述气体供应器朝向所述基板喷射气体。
所述基板可包括基体层和粘合剂层，并且所述传送单元可不接触所述粘合剂层的上表面。
所述传送单元可包括支撑框架和两个传送构件，所述两个传送构件连接到所述支撑框架并且彼此相对，并且所述两个传送构件中的每个可具有与所述支撑框架相对的倾斜表面。
所述两个传送构件中的每个可具有多个孔。
所述气体供应器和所述传送单元可整体形成为一体结构。
所述气体供应器可设置为与所述主台分离，所述基板插入所述气体供应器和所述主台之间，并且所述气体供应器可朝向所述基板喷射气体。
所述主台可具有多个孔。
所述设备还可包括位于所述多个孔中的至少一个孔处的吸附垫。
将理解的是，前述一般性描述和以下详细描述均是示例性和解释性的，并且旨在提供对所要求保护的本发明的进一步解释。
附图说明
包括附图以提供对本发明的进一步理解，将附图并入本说明书中并构成本说明书的一部分，附图示出了本发明的示例性实施例，并与描述一起用于解释本发明构思。
图1是示出根据本发明的示例性实施例的用于附着基板的设备的剖视图。
图2是示出根据本发明的示例性实施例的附着基板的方法的流程图。
图3A、图3B、图3C、图3D、图3E和图3F是示出根据本发明的示例性实施例的附着基板的方法的剖视图。
图4是示出根据本发明的示例性实施例的第一主台的平面图。
图5是示出根据本发明的另一示例性实施例的第一主台、吸附垫和基板的剖视图。
图6是示出根据本发明的又一示例性实施例的传送单元的剖视图。
图7是示出根据本发明的又一示例性实施例的传送单元的剖视图。
具体实施方式
在下面的描述中，出于解释的目的，阐述了许多具体细节以提供对发明的各种示例性实施例的全面的理解。如文中所使用的“实施例”是采用文中公开的一个或多个发明构思的装置或方法的非限制性示例。然而，明显的是，在不具有这些具体细节或者具有一个或多个等同布置的情况下，可以实现各种示例性实施例。在其它情况下，以框图形式示出了公知的结构和装置，以避免使各种示例性实施例不必要地模糊。此外，各种示例性实施例可以是不同的，但不必是排他的。例如，在不脱离发明构思的情况下，示例性实施例中的具体形状、配置和特性可以在另一示例性实施例中使用或实施。
除非另有说明，否则示出的示例性实施例将被理解为提供其中发明构思可在实践中实施的一些方式的不同细节的示例性特征。因此，除非另有说明，否则在不脱离发明构思的情况下，各种实施例的特征、组件、模块、层、膜、面板、区域和/或方面等(在下文中，单独地或共同地称为“元件”)可以以其它方式组合、分离、互换和/或重新布置。
交叉影线和/或阴影在附图中的使用通常被提供为使相邻元件之间的边界清楚。如此，除非说明，否则交叉影线或阴影的存在与否都不传达或表明对元件的具体材料、材料性质、尺寸、比例、示出的元件之间的共性和/或元件的任何其它特性、属性或性能等的任何偏好或要求。此外，在附图中，为了清楚和/或描述的目的，可以放大元件的尺寸和相对尺寸。当可以不同地实施示例性实施例时，可以与描述的顺序不同地执行具体的工艺顺序。例如，可以基本上同时执行或者以与描述的顺序相反的顺序执行两个连续描述的工艺。此外，同样的附图标记表示同样的元件。
当元件或层被描述为“在”另一元件或另一层“上”、“连接到”另一元件或另一层或“耦接到”另一元件或另一层时，该元件或层可以直接在该另一元件或另一层上、直接连接到该另一元件或另一层或直接耦接到该另一元件或另一层，或者可以存在中间元件或中间层。然而，当元件或层被描述为“直接在”另一元件或另一层“上”、“直接连接到”另一元件或另一层或“直接耦接到”另一元件或另一层时，不存在中间元件或中间层。为此目的，术语“连接”可指的是具有或不具有中间元件的物理连接、电连接和/或流体连接。此外，D1轴、D2轴和D3轴不限于诸如x轴、y轴和z轴的直角坐标系的三个轴，并且可以以更广泛的含义解释。例如，D1轴、D2轴和D3轴可彼此垂直，或者可代表彼此不垂直的不同方向。出于本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一个”和“从由X、Y和Z构成的组中选择的至少一个”可以被解释为仅X、仅Y、仅Z、或者诸如以XYZ、XYY、YZ和ZZ为例的X、Y和Z中的两个或更多个的任何组合。如文中所使用的，术语“和/或”包括所列相关项中的一个或多个的任何组合和所有组合。
尽管文中可以使用术语“第一”和“第二”等来描述各种类型的元件，但是这些元件不应受这些术语的限制。这些术语用于将一个元件与另一元件区分开。因此，在不脱离本公开的教导的情况下，下面讨论的第一元件可以被称为第二元件。
为了描述的目的，在文中可以使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“在……下面”、“下”、“在……上方”、“上”、“在……之上”、“较高的、”或“侧”(例如，如在“侧壁”中)等的空间相对术语，从而描述如图中所示的一个(一些)元件与另一(另一些)元件的关系。除了图中描绘的方位之外，空间相对术语还意图包含设备在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如，如果图中的设备被翻转，则被描述为“在”其它元件或其它特征“下方”或“之下”的元件将随后被定位为“在”所述其它元件或其它特征“上方”。因此，示例性术语“在……下方”可以包含上方和下方两种方位。此外，设备可以被另外定位(例如，旋转90度或者在其它方位处)，如此，相应地解释文中使用的空间相对描述语。
文中使用的术语是为了描述具体实施例的目的，而非意图是限制性的。如文中所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式“一个”、“一种”和“所述”也意图包括复数形式。而且，当在本说明书中使用术语“包括”时，所述术语说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组，但不排除存在或添加一个或多个其它特征、其它整体、其它步骤、其它操作、其它元件、其它组件和/或它们的组。还注意的是，如文中所使用的，术语“基本上”、“约”和其它类似术语用作近似术语而非程度术语，如此，术语“基本上”、“约”和其它类似术语用于解释本领域普通技术人员会认识到的测量值、计算值和/或提供值的固有偏差。
文中参照作为理想化的示例性实施例和/或中间结构的示意图的剖视图和/或分解图描述了各种示例性实施例。如此，将预期由于例如制造技术和/或公差导致的图示的形状的变化。因此，文中公开的示例性实施例应不必被解释为限于区域的具体示出的形状，而是将包括由例如制造导致的形状偏差。以这种方式，图中示出的区域本质上可以是示意性的，并且这些区域的形状可以不反映装置的区域的实际形状，如此，不必需意图是限制性的。
除非另外限定，否则文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开作为其一部分的领域中的普通技术人员所通常理解的含义相同的含义。术语(诸如在通用字典中定义的术语)应当被解释为具有与它们在相关领域的背景中的含义一致的含义，而不应当以理想化或者过于形式化的含义来解释它们，除非文中明确地如此定义。
下文中，将参照图1描述根据本发明的实施例的用于附着基板的设备。
图1是示出根据本发明的示例性实施例的用于附着基板的设备的剖视图。
参照图1，根据本发明的实施例的用于附着基板的设备包括梭台(shuttle stage)110、传送单元120、气体供应器130、第一主台(main stage)210、第二主台220以及室250。
梭台110可具有平面板形状。梭台110可支撑和传送有待处理的对象，所述处理例如是制造或检查等。根据本发明的示例性实施例的梭台110可支撑和传送用于附着工艺的基板10。在这种情况下，基板10可以是构成显示装置的窗、显示面板和功能膜中的任何一种。梭台110可在预定方向上传送置于梭台110上的基板10。例如，梭台110可将基板10传送到其中执行用于基板10的清洗工艺、剥离工艺或等离子体工艺等的每个步骤的位置。
传送单元120可抬起置于梭台110上的基板10或者将基板10安装在梭台110上，并且可抬起置于梭台110上的基板10并且将所述基板10传送到用于下一工艺的位置。类似地，传送单元120可抬起置于待后面描述的第一主台210或第二主台220上的基板10，或者将基板10安装在第一主台210或第二主台220上，并且可抬起置于第一主台210或第二主台220上的基板10并且将所述基板10传送到用于下一工艺的位置。
传送单元120包括支撑框架121和位于支撑框架121的相对端部处的两个传送构件125。此外，虽然未示出，但是传送单元120还可包括驱动器。驱动器可传送支撑框架121和传送构件125，并且调节两个传送构件125之间的间隔。
支撑框架121支撑传送构件125。支撑框架121可具有平面板形状并且可设置为基本上平行于梭台110。然而，本发明构思不限于此，并且支撑框架121可包括彼此平行布置的多个支撑杆。
两个传送构件125彼此相对地设置在支撑框架121的相对端部处。如图1中所示，传送构件125中的每个可在剖视图中具有“L”形状。详细地，传送构件125中的每个包括垂直于支撑框架121的竖直杆125a和从竖直杆125a弯曲和延伸并且与支撑框架121相对的水平杆125b。基板10可安装在传送构件125的水平杆125b上并且被传送。
传送构件125可在平行于支撑框架121的方向上线性地移动。换言之，两个传送构件125可沿着彼此相对的方向线性地移动。此外，根据本发明的实施例的传送单元120可旋转使得两个传送构件125位于支撑框架121上方。因此，由传送单元120传送的基板10可不仅位于待下面描述的第一主台210的上表面上，而且还可位于待下面描述的第二主台220的下表面上。
气体供应器130可朝向梭台110、第一主台210或者第二主台220喷射气体。具体来说，气体供应器130可朝向位于梭台110、第一主台210或者第二主台220上方的基板10喷射气体。所述气体可以是空气或氮气，但是示例性实施例不限于此。
当气体供应器130朝向位于梭台110上方的基板10喷射气体时，可确定其中使基板10弯曲的方向。此外，当气体供应器130朝向位于第一主台210或第二主台220上方的基板10喷射气体时，基板10可与第一主台210或第二主台220紧密接触地置于第一主台210或第二主台220上，这将在后面详细描述。
根据本发明的示例性实施例的气体供应器130可与传送单元120的支撑框架121集成，从而与传送单元120整体地形成为一体结构。然而，本发明构思不限于此，并且气体供应器130可单独形成而不与传送单元120集成。
第一主台210和第二主台220可支撑并固定有待在室250中处理的对象，所述处理诸如是制造工艺和检查工艺。例如，第一主台210可支撑并固定用于附着工艺的基板10，并且第二主台220可支撑并固定基板10有待附着到的粘附体。另一方面，第二主台220可支撑并固定用于附着工艺的基板10，并且第一主台210可支撑并固定基板10有待附着到的粘附体。在这种情况下，基板10和粘附体中的每个可以是构成显示装置的窗、显示面板和功能膜中的任何一个。
第一主台210可具有平面板形状。然而，本发明构思不限于此，并且第一主台210可具有朝向第二主台220的凸形形状。
第一主台210可将基板10或粘附体固定在第一主台210的上表面上。第一主台210可具有用于真空吸附基板10或粘附体的多个孔211。所述多个孔211可连接到诸如真空泵的真空单元，并且基板10或粘附体可通过连接到真空单元的多个孔211被真空吸附在第一主台210的上表面上。
第一主台210可上下移动。此外，虽然未示出，但是根据本发明的示例性实施例的用于附着基板的设备还可包括用于按压基板10和粘附体的压垫或弹性片等。
第二主台220设置为与第一主台210相对。第二主台220的相对端部可具有弯曲形状。具体来说，第二主台220可具有朝向第一主台210的凹形形状。然而，本发明构思不限于此，并且第二主台220可具有与第一主台210类似的平面板形状。
第二主台220可将基板10或粘附体固定在第二主台220的与第一主台210相对的下表面上。第二主台220可具有用于真空吸附基板10或粘附体的多个孔221。多个孔221可连接到诸如真空泵的真空单元，并且基板10或粘附体可通过连接到真空单元的多个孔221被真空吸附在第二主台220的下表面上。
第二主台220可上下移动。此外，虽然根据本发明的示例性实施例的第二主台220被描述为以真空吸附方法固定基板10或粘附体，但是本发明构思不限于此，可以以各种方式固定基板10或粘附体。
室250限定特定空间并且容纳第一主台210和第二主台220。根据本发明的示例性实施例的室250包括第一室250a和第二室250b。第一室250a提供其中设有第一主台210的空间，并且第二室250b提供其中设有第二主台220的空间。
第一室250a和第二室250b可彼此间隔开并且可紧贴地彼此耦接。当第一室250a和第二室250b彼此间隔开时，诸如窗、显示面板或功能膜的基板10可被移入或移出第一室250a和第二室250b之间的空间。另一方面，当第一室250a和第二室250b紧贴地彼此耦接时，可密封由第一室250a和第二室250b限定的空间。然而，本发明构思不限于此，并且室250可具有具备入口的单个结构。此外，虽然未示出，但是根据本发明的示例性实施例的用于附着基板的设备还可包括连接到室250的真空泵以调节由室250限定的空间的压力或者设置真空状态。
下文中，将参照图2至图4描述根据本发明的示例性实施例的附着基板的方法。
图2是示出根据本发明的示例性实施例的附着基板的方法的流程图，图3A至图3F是示出根据本发明的示例性实施例的附着基板的方法的剖视图，并且图4是示出根据本发明的示例性实施例的第一主台的平面图。
参照图2和图3A，将离型膜13所附着到的基板10设置在梭台110上(S11)。在这种情况下，基板10包括基体层11和设置在基体层11的一个表面上的粘合剂层12。基板10可具有柔性特性。基板10可以是构成显示装置的窗、显示面板和功能膜中的任何一个。具体来说，基板10的基体层11可以是窗、显示面板和功能膜中的任何一个。
根据本发明的示例性实施例的梭台110可具有比基板10的宽度小的宽度。例如，如图3A中所示，当将梭台110的宽度限定为第一宽度W1并且将基板10的宽度限定为第二宽度W2时，第一宽度W1可小于第二宽度W2。在随后的工艺中由传送单元120抬起梭台110上的基板10。由于基板10的相对端部设置的比梭台110的相对端部更靠外，因此，梭台110上的基板10可易于由传送单元120抬起。
粘合剂层12可预先附着到基体层11的一个表面或涂覆在基体层11的一个表面上，使得基板10附着到粘附体。粘合剂层12可以是已知的粘合剂中的至少一种，所述粘合剂诸如是丙烯酸粘合剂、硅酮粘合剂和包含无酸型羟基的粘合剂。
粘合剂层12的厚度未被具体限制，并且可考虑基板的种类或使用目的等被适当地选择。例如，根据本发明的示例性实施例的粘合剂层12可具有在从约0.5μm至约50μm的范围内、优选地在从约5μm至约40μm的范围内的厚度。当粘合剂层12的厚度小于约0.5μm时，难以获得具有均匀厚度的粘合剂层12或者粘附力会相对低。当粘合剂层12的厚度超过约50μm时，会增加基板10的总体厚度。
离型膜13保护基板10免受灰尘、碎屑、湿气及其他污染物影响，直到在工艺期间使用基板10为止。一般来说，将离型膜13附着到基板10的粘合剂层12，并且在使用前立即与粘合剂层12分离。
例如，聚乙烯膜、聚丙烯膜、乙烯醋酸乙烯酯共聚物膜、聚氯乙烯膜、聚偏二氯乙烯膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜、聚酰胺膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚乙烯醇膜、聚亚安酯膜、聚四氟乙烯膜或丙烯酸膜等或者它们中的两种或更多种的混合膜或层叠膜可用作离型膜13，但是本发明构思不限于此。此外，离型膜13可通过醇酸型硅粉、硅酮型硅粉、氟型硅粉、不饱和酯型硅粉、聚烯烃型硅粉或蜡型硅粉等被释放处理。
离型膜13的厚度未被具体限制，并且可考虑基板的种类或使用目的等被适当地选择。例如，根据本发明的示例性实施例的离型膜13可具有在从约10μm至约400μm的范围内、优选地在从约10μm至约150μm的范围内的厚度。
接下来，参照图2和图3B，将离型膜13从基板10剥离(S12)。例如，可使用剥离带将离型膜13从基板10剥离。此外，可通过使用包括剥离辊的剥离单元、夹具或吸附机将离型膜13从基板10剥离。此外，可由用户将离型膜13直接从基板10剥离。
可在从基板10剥离离型膜13期间产生诸如灰尘和碎屑的杂质。当在将具有离型膜13的基板10传送到室250中之后执行剥离工艺时，杂质可在室250中漂浮，或者杂质可附着到容纳在室250中的组件。室250中的杂质可减小基板10和粘附体之间的粘附力，因此可降低显示装置的可靠性和显示质量。另一方面，根据本发明的示例性实施例，通过在将基板10传送到室250中之前执行剥离工艺，可基本上防止杂质在室250中漂浮或者附着到容纳在室250中的组件。因此，可提高显示装置的可靠性和显示质量。
此外，根据本发明的示例性实施例，在将离型膜13从基板10剥离之前，可执行清洗工艺。如上所述，当在清洗离型膜13所附着到的基板10之后执行剥离工艺时，在将离型膜13从基板10剥离期间可基本上使得诸如灰尘和碎屑的杂质的产生最小化。
此外，根据本发明的示例性实施例，在将离型膜13从基板10剥离之后，可执行等离子体工艺。如上所述，当对已经剥离了离型膜13的基板10执行等离子体工艺时，可提高粘合剂层12的粘附力。
接下来，参照图2和图3C，传送单元120将基板10从梭台110抬起(S13)。在这种情况下，传送单元120的支撑框架121可上下移动，并且两个传送构件125可在彼此相对的方向上线性地移动。如上所述，由于梭台110具有比基板10的宽度小的宽度，并且基板10的相对端部设置为比梭台110的相对端部更靠外，因此可易于通过传送单元120抬起梭台110上的基板10。
传送单元120不接触基板10的上表面。具体来说，传送单元120的传送构件125仅直接接触基板10的下表面和侧表面，并且不接触基板10的其上设置有粘合剂层12的上表面。已经去除离型膜13的基板10的粘合剂层12暴露到外部。根据本发明的示例性实施例的传送单元120不接触粘合剂层12的上表面，以便基本上防止粘合剂层12由于传送单元120和暴露到外部的粘合剂层12之间的接触而被污染。
接下来，参照图2和图3D，两个传送构件125在彼此接近的方向上线性地移动，并且气体供应器130朝向基板10喷射气体(S14)。因此，具有柔性特性的基板10在远离气体供应器130的方向上凸出地弯曲。气体可以是空气或氮气，但是本发明构思不限于此。
具体来说，两个传送构件125在彼此接近的方向上线性地移动，从而引起基板10的翘曲。具体来说，当两个传送构件125的竖直部125a之间的距离变得小于基板10的宽度时，基板10可在远离气体供应器130的方向上凸出地或凹入地弯曲。在这种情况下，根据本发明的示例性实施例的气体供应器130通过朝向基板10喷射气体导致基板10在远离气体供应器130的方向上凸出地弯曲。
接下来，如图2和图3E中所示，通过传送单元120将弯曲的基板10传送到室250中(S15)，并且将传送到室250中的基板10置于第一主台210上(S16)。在这种情况下，第一室250a和第二室250b彼此间隔开，使得传送单元120、气体供应器250a和基板10可进入第一室250a和第二室250b之间的空间。
当将传送到室250中的基板10置于第一主台210上时，基板10从基板10的中央部至基板10的端部依次接触第一主台210。详细地，当传送单元120的支撑框架121移动为接近于第一主台210时，在弯曲状态下传送的基板10从基板10的中央部接触第一主台210的上表面。然后，两个传送构件125在彼此远离的方向上线性地移动。因此，基板10可从基板10的中央部至基板10的端部依次置于第一主台210上。
在这种情况下，气体供应器130可朝向基板10喷射气体。这可基本上防止在第一主台210和基板10之间形成气泡，并且可改善第一主台210和基板10之间的接触。气体可以是空气或氮气，但是本发明构思不限于此。
当将传送到室250中的基板10置于第一主台210上时，基板10可从基板10的中央部至基板10的端部依次真空吸附到第一主台210的上表面上。根据本发明的示例性实施例的第一主台210具有用于真空吸附基板10的多个孔211，并且所述多个孔211可连接到诸如真空泵的真空单元。基板10可首先由第一主台210的多个孔211之中的与基板10的中央部对应的孔211真空吸附，然后由多个孔211之中的与在基板10的中央部和基板10的边缘部之间的区域对应的孔211真空吸附。
具体来说，参照图4，第一主台210可包括中央部P1和介于中央部P1和边缘之间的外围部P2。中央部P1可被限定为穿过第一主台210的中心的线形区域。外围部P2可限定为除了中央部P1以外的区域，并且可限定为彼此分离的两个区域，并且中央部介于所述两个区域之间。然而，本发明构思不限于此，并且中央部P1和外围部P2可布置为以各种其他方式布置的多个区域。
第一主台210的多个孔211包括位于中央部P1处的多个第一孔211a和位于外围部P2处的多个第二孔211b。虽然将多个孔211描述为在竖直方向上或者在水平方向上彼此平行地定位，但是本发明构思不限于此。多个孔211可在竖直方向上或者在水平方向上与孔211中的每个相邻的孔211交替地定位，或者可以以之字形式定位。
参照图3E和图4，当传送单元120的支撑框架121移动为接近于第一主台210时，在弯曲状态下传送的基板10从基板10的中央部接触第一主台210的上表面。具体来说，基板10的中央部可接触位于第一主台210的中央部P1处的多个第一孔211a。在这种情况下，连接到多个第一孔211a的真空单元工作，使得基板10的中央部可被真空吸附到第一主台210上。
接下来，两个传送构件125在彼此远离的方向上线性地移动。此时，连接到多个第二孔211b的真空单元工作，并且基板10可从基板10的中央部至基板10的边缘部依次真空吸附到第一主台210上。这可基本上防止在第一主台210和基板10之间形成气泡，并且可改善第一主台210和基板10之间的接触。
接下来，如图3F中所示，将基板10有待附着到的粘附体20置于第二主台220的下表面上。粘附体20可以是构成显示装置的窗、显示面板和功能膜中的任何一个。粘附体20可具有柔性特性，但是实施例不限于此。粘附体20可通过与其中固定基板10的工艺相同的工艺紧固到第二主台220，或者可通过不同的工艺紧固到第二主台220。根据本发明的示例性实施例，虽然描述了将基板10设置在第一主台210的上表面上并且将粘附体20设置在第二主台220的下表面上，但是实施例不限于此。基板10可设置在第二主台220的下表面上，并且粘附体20可设置在第一主台210的上表面上。
接下来，参照图1、图2和图3F，传送单元120和气体供应器130通过第一室250a和第二室250b之间的空间移出到室250的外部，并且第一室250a和第二室250b彼此紧贴地耦接。当密封由第一室250a和第二室250b限定的空间时，执行将基板10附着到粘附体20的附着工艺(S17)。
例如，第一主台210和第二主台220中的至少一个上下移动，并且基板10和粘附体20可彼此接触。在这种情况下，可将压力施加到基板10和粘附体20使得基板10和粘附体20可彼此附着。虽然未示出，但是根据本发明的实施例的用于附着基板的设备还可包括用于按压基板10和粘附体20的压垫或弹性片等。然而，本发明构思不限于此，并且基板10可以以各种方式附着到粘附体20。
在根据本发明的示例性实施例的附着基板的方法中，在室250中不执行基板10的清洗工艺、剥离工艺或等离子体工艺等，而是将完成了清洗工艺、剥离工艺和等离子体工艺的基板10传送到室250中以对基板10执行附着工艺，因此，可减小包括室250的工艺设备的尺寸。
此外，可省略将用于执行清洗工艺、剥离工艺和等离子体工艺的设备移入室250中的工艺，因此可减小工艺时间。
此外，通过在将基板10传送到室250中之前执行离型膜13的剥离工艺，可基本上防止杂质在室250中漂浮或者附着到容纳在室250中的组件。因此，可提高显示装置的可靠性和显示质量。
下文中，将参照图5描述本发明的另一示例性实施例。为便于解释，将省略与本发明的先前示例性实施例的配置相同的配置的描述。
图5是示出根据本发明的另一示例性实施例的第一主台、吸附垫和基板的剖视图。
参照图5，根据本发明的另一示例性实施例的用于附着基板的设备还包括吸附垫215，所述吸附垫215位于第一主台210的多个第一孔211a中的至少一个第一孔211a处。吸附垫215可位于多个第一孔211a中的每个第一孔211a中，或者可位于多个第一孔211a中的至少部分第一孔211a中。
吸附垫215可在第一孔211a中上下移动。吸附垫215可吸附基板10的中央部以首先固定基板10的中央部。即，在将基板10完全置于第一主台210上之前，吸附垫215可吸附和固定基板10的中央部。
在首先固定基板10的中央部之后，连接到多个第二孔211b的真空单元如同在本发明的示例性实施例中那样地工作，并且基板10可从基板10的中央部至基板10的端部依次真空吸附到第一主台210上。这可基本上防止在第一主台210和基板10之间形成气泡，并且可改善第一主台210和基板10之间的接触。气体可以是空气或氮气，但是本发明构思不限于此。
下文中，将参照图6描述本发明的又一示例性实施例。为便于解释，将省略与本发明的先前示例性实施例的配置相同的配置的描述。
图6是示出根据本发明的又一示例性实施例的传送单元的剖视图。
参照图6，根据本发明的又一示例性实施例的传送单元120'包括支撑框架121和可相对于支撑框架121以预定的角度旋转的两个传送构件126。换言之，不同于根据本发明的示例性实施例的在彼此相对的方向上线性地移动的两个传送构件126，根据本发明的又一示例性实施例的两个传送构件126可相对于与支撑框架121的接触点以预定的角度旋转。
传送构件126中的每个在剖视图上可具有“L”形状。类似于本发明的前述示例性实施例，传送构件126中的每个包括竖直杆126a和水平杆126b。基板10可置于传送构件126的水平杆126b上并且被传送。
例如，两个传送构件126的水平杆126b可在彼此接近的方向上旋转，从而导致基板10抬起或者翘曲。另一方面，两个传送构件126的水平杆126b可在彼此远离的方向上旋转，使得基板10可安装在梭台110、第一主台210或第二主台220上。
下文中，将参照图7描述本发明的又一示例性实施例。为便于解释，将省略与本发明的先前示例性实施例的配置相同的配置的描述。
图7是示出根据本发明的又一示例性实施例的传送单元的剖视图。
参照图7，根据本发明的又一示例性实施例的传送单元120”包括支撑框架121和两个传送构件127，并且两个传送构件127中的每个包括竖直杆127a和具有倾斜表面128的水平杆127b。
详细地，传送构件127中的每个包括垂直于支撑框架121的竖直杆127a以及从竖直杆127a弯曲和延伸并具有与支撑框架121相对的倾斜表面128的水平杆127b。在这种实施例中，水平杆127b的倾斜表面128可以是平面表面或弯曲表面。
基板10被安装在传送构件127的水平杆127b上并且被传送。根据本发明的又一示例性实施例，由于水平杆127b的与支撑框架121相对的上表面倾斜，因此基板10可更稳定地安装在水平杆127b上并且被传送。
此外，根据本发明的又一示例性实施例的传送构件127的水平杆127b可具有用于真空吸附基板10的多个孔129。所述多个孔129可连接到诸如真空泵的真空单元，并且可通过连接到真空单元的多个孔129将基板10真空吸附到水平杆127b的上表面上。因此，基板10可更稳定地安装在水平杆127b上并且被传送。
如上文中所阐述的，根据本发明的一个或多个示例性实施例，附着基板的方法和用于附着基板的设备可实现稳定和精确的附着，因此，可提高显示装置的可靠性和显示质量。
尽管文中已经描述了某些示例性实施例，但是从该描述中，其他实施例和修改将是明显的。因此，本发明构思不限于这些实施例，而是限于如对于本领域普通技术人员而言明显的各种明显修改及等同布置的更宽的范围。

Claims (24)

1.一种附着基板的方法，其中，所述方法包括：
将附着有离型膜的基板置于梭台上；
从所述基板剥离所述离型膜；
由传送单元从所述梭台抬起所述基板；
由气体供应器朝向所述基板喷射气体使得所述基板在远离所述气体供应器的方向上凸出地弯曲；
由所述传送单元将所述基板传送到室中；
将所述基板置于所述室中的主台上；以及
将所述基板附着到粘附体。
2.根据权利要求1所述的方法，其中：
所述基板包括基体层和粘合剂层；并且
所述传送单元不接触所述粘合剂层的上表面。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，在由所述传送单元将所述基板传送到所述室中的过程中，在弯曲状态下传送所述基板。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，在将所述基板置于所述室中的所述主台上的过程中，所述基板从所述基板的中央部至所述基板的边缘部依次接触所述主台。
5.根据权利要求1所述的方法，其中，在将所述基板置于所述室中的所述主台上的过程中，所述气体供应器朝向所述基板喷射气体。
6.根据权利要求1所述的方法，其中，在将所述基板置于所述室中的所述主台上的过程中，通过在所述主台中限定的至少一个孔将所述基板真空吸附到所述主台。
7.根据权利要求1所述的方法，其中：
所述主台包括中央部和介于所述中央部和边缘之间的外围部；并且
所述主台具有位于所述中央部处的多个第一孔和位于所述外围部处的多个第二孔。
8.根据权利要求7所述的方法，其中，在将所述基板置于所述室中的所述主台上的过程中，通过所述多个第一孔真空吸附所述基板，然后通过所述多个第二孔真空吸附所述基板。
9.根据权利要求7所述的方法，其中，在将所述基板置于所述室中的所述主台上的过程中，由位于所述第一孔处的吸附垫固定所述基板，然后通过所述多个第二孔真空吸附所述基板。
10.根据权利要求1所述的方法，其中，所述传送单元包括设置为彼此分离的两个传送构件，所述基板插入所述两个传送构件之间。
11.根据权利要求10所述的方法，其中，在朝向所述基板喷射气体使得所述基板在远离所述气体供应器的所述方向上凸出地弯曲的过程中，所述两个传送构件在彼此接近的方向上移动。
12.根据权利要求10所述的方法，其中，在将所述基板置于所述室中的所述主台上的过程中，所述两个传送构件在彼此远离的方向上移动。
13.根据权利要求10所述的方法，其中，在由所述传送单元将所述基板传送到所述室中的过程中，通过在所述传送构件中限定的至少一个孔将所述基板真空吸附到所述传送构件。
14.根据权利要求10所述的方法，其中：
所述传送单元还包括连接到所述两个传送构件的支撑框架；并且
所述两个传送构件中的每个具有与所述支撑框架相对的倾斜表面。
15.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法还包括在从所述基板剥离所述离型膜之后以及在所述传送单元从所述梭台抬起所述基板之前对所述基板执行等离子体工艺。
16.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法还包括在从所述基板剥离所述离型膜之前清洗所述离型膜所附着到的所述基板。
17.一种用于附着基板的设备，其中，所述设备包括：
梭台，所述梭台被配置为支撑和传送基板；
主台，所述主台位于室中；
传送单元，所述传送单元被配置为将所述基板从所述梭台传送到所述主台；以及
气体供应器，所述气体供应器设置为与所述梭台分离，所述基板插入所述气体供应器和所述梭台之间，所述气体供应器被配置为朝向所述基板喷射气体。
18.根据权利要求17所述的设备，其中：
所述基板包括基体层和粘合剂层；并且
所述传送单元不接触所述粘合剂层的上表面。
19.根据权利要求17所述的设备，其中：
所述传送单元包括支撑框架和两个传送构件，所述两个传送构件连接到所述支撑框架并且彼此相对；并且
所述两个传送构件中的每个具有与所述支撑框架相对的倾斜表面。
20.根据权利要求19所述的设备，其中，所述两个传送构件中的每个具有多个孔。
21.根据权利要求17所述的设备，其中，所述气体供应器和所述传送单元整体形成为一体结构。
22.根据权利要求17所述的设备，其中，所述气体供应器设置为与所述主台分离，所述基板插入所述气体供应器和所述主台之间，并且所述气体供应器被配置为朝向所述基板喷射气体。
23.根据权利要求17所述的设备，其中，所述主台具有多个孔。
24.根据权利要求23所述的设备，其中，所述设备还包括位于所述多个孔中的至少一个孔处的吸附垫。
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