CN110306236B - 大尺寸v6o13单晶片及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种大尺寸V6O13单晶片及其制备方法,该方法采用溶液辅助固相热解的方法进行V6O13单晶片的制备,其先后经历V2O5前驱液的配制、滴涂以及热处理三个步骤;该方法克服了气相、固相法难以合成出V6O13、溶液法以及溶剂热解方式制备存在不纯以及结晶性差的问题,其不但制备工艺简单,效率高,而且所制备出的V6O13单晶片具有尺寸大、生长取向好、物相单一等优点;解决了目前实验上难以合成高质量V6O13单晶的困难。更重要的是,本发明提供的V6O13单晶的制备方法能够大批量制备。因此,本发明实施例中提供的大尺寸V6O13单晶片及其制备方法对进一步研究V6O13的相关性能提供了原材料。
Description
技术领域
本发明涉及晶体生长领域,特别涉及一种大尺寸V6O13单晶片及其制备方法。
背景技术
钒氧化物由于其独特的金属-绝缘相变(MIT)特性,引起了人们对钒氧化物的相关特性及应用的强烈研究兴趣。相比广为人知的VO2、V2O5,混合价V6O13是一种研究较少的钒氧化物,但其具有较好的电化学性能。近年来,研究发现, V6O13具有优良的稳定性和充放电循环性能,且具有较高的理论比容量(420mA h/g)及较高的理论比能量(890Wh·kg-1),是最有望成为高性能锂离子电池正极材料的钒系化合物之一。
自从Murphy(1979)首次研究了V6O13的电化学性能以来,人们通过各种方法均能制备出V6O13材料,如固相法、水热合成法、溶剂热法等。但是目前已知的制备工艺中均难以制备出高质量的、物相单一的V6O13晶体,这是主要是因为V6O13是一种混合价态的钒氧化物。气相、固相法难以合成出V6O13,溶液法以及溶剂热解方式虽然能够合成V6O13,但存在不纯以及结晶性差等问题。可以说,由于V6O13合成、制备上挑战,严重制约了V6O13相关性能的研究;因此,人们努力寻求一直可制备出高质量的、物相单一的V6O13单晶,从而进一步研究其相关特性。
发明内容
为克服现有技术的缺点与不足,解决混合价态的V6O13难以合成难的问题,本发明的首要目的在于提供一种大尺寸V6O13单晶片的制备方法及其单晶片,其能够制备出高质量、结晶度好、大尺寸的V6O13单晶。
基于上述目的,本发明至少提供如下技术方案:
大尺寸V6O13单晶片的制备方法,其包括如下步骤:
步骤1、将V2O5粉末溶于去离子水中,得到V2O5前驱溶液;
步骤2、取一定量上述V2O5前驱溶液,将该V2O5前驱溶液滴涂至蓝宝石衬底表面,在所述蓝宝石衬底表面获得V2O5前驱膜;
步骤3、将所述V2O5前驱膜置于管式炉中进行高温热处理,从而使所述V2O5前驱膜分解为V6O13,即可获得大尺寸V6O13单晶片。
进一步的,在将上述V2O5前驱溶液转移至蓝宝石衬底表面之前,将所述蓝宝石衬底置于等离子体清洗机中进行氧等离子处理5-15分钟,以使所述蓝宝石衬底具有亲水表面。
进一步的,所述V2O5粉末的纯度高于99.5%,所述V2O5前驱溶液的浓度为 0.2-0.5mol/mL。
进一步的,所述步骤2中,转移至所述蓝宝石衬底表面的V2O5前驱溶液的量为5-15μL,所述蓝宝石衬底的面积为0.5-1.5cm2。
进一步的,其特征在于,所述步骤2中,将该V2O5前驱溶液转移至衬底表面之后,将该衬底置于热台中,在80℃下烘干,以获得位于所述衬底表面的V2O5前驱膜。
进一步的,所述步骤2中,将该V2O5前驱溶液转移至衬底表面之后,自然晾干,以获得位于所述衬底表面的V2O5前驱膜。
进一步的,所述步骤3中,所述热处理的条件是升温速率为14-20℃/min,温度升至700℃,保温180-500min。
进一步的,所述步骤3中,所述热处理在真空条件下进行,所述真空度为 3-8Pa;或者所述热处理在氩气环境下进行,所述氩气的流量为70-100sccm。
大尺寸V6O13单晶片,所述大尺寸V6O13单晶片的择优生长晶面是(00l),且该V6O13单晶片物相单一、结晶质量高。
大尺寸V6O13单晶片,所述大尺寸V6O13单晶片由上述制备方法制备获得。
与现有技术相比,本发明至少具有如下有益效果:
(1)本发明提供了一种溶液辅助固相热解法制备获得了大尺寸V6O13单晶片,该溶液辅助固相热解法包括V2O5前驱液的配制、滴涂(V2O5前驱膜的制备) 以及热处理三个步骤,该方法克服了气相、固相法难以合成V6O13、溶液法以及溶剂热解方式制备存在不纯以及结晶性差的问题,本发明的制备方法不仅工艺简单、效率高,而且制备出的V6O13单晶片具有尺寸大、表面光滑、生长取向好、结晶性好以及物相单一等优点。
(2)本发明的制备方法中,在将V2O5前驱液转移至衬底表面之前,先对衬底进行氧等离子体处理,去除衬底上的杂质,使衬底具有亲水性,以利于后续V2O5前驱液在衬底上摊开,形成均匀的V2O5前驱膜;另外本发明制备方法中的热处理,V2O5前驱膜受热分解生成V6O13,高温融化晶体重组生长出大尺寸 V6O13单晶片。
附图说明
图1为本发明中制备大尺寸V6O13单晶片的工艺的示意图
图2为本发明实施例1中制备的大尺寸V6O13单晶片实物图。
图3为本发明实施例1中制备的大尺寸V6O13光学图片。
图4为本发明实施例1中,在蓝宝石衬底上得到的大尺寸V6O13单晶片的 XRD图。
具体实施方式
下面结合实施例及附图对本发明作进一步详细的描述,但本发明的实施方式不限于此。对于未特别注明的工艺参数,可参照常规技术进行。
实施例1
图1是本发明制备大尺寸V6O13单晶片的工艺示意图,本发明实施例提供一种大尺寸V6O13单晶片的制备方法,如图1所示,该制备方法包括以下步骤:
步骤1:制备V2O5前驱液:称取0.5g纯度高于99.5%的V2O5粉末,加入 15mL的去离子水,在磁力搅拌机上以1000-1500转/min的速度搅拌24小时,优选的,转速为1500转/min,得到V2O5前驱液。
步骤2:制备V2O5前驱膜:选用面积为0.5-1.5cm2的蓝宝石衬底,该实施例中,优选面积为1cm2的蓝宝石衬底。首先,将蓝宝石衬底置于等离子体清洗机中,通入64sccm的氧气,真空度维持在70Pa附近,以92W的射频功率氧 Plasma处理15分钟,清洗衬底上的杂质,使得衬底具有亲水性,以利于后续 V2O5溶液在衬底上摊开,形成均匀的V2O5前驱膜。
然后,用移液枪吸取5-15μL V2O5前驱液,移液枪的量程为5μL-50μL的大龙移液枪,该实施例中,滴涂的V2O5前驱液的量优选10μL。采用移液枪滴涂前驱液的转移方式相比较于常规的喷涂、旋涂、抽滤等方式,操作更加简单,更容易实现V2O5前驱液的转移。
将该V2O5前驱液滴涂至上述氧Plasma处理后的蓝宝石衬底上,之后,将带有V2O5前驱液的蓝宝石衬底置于80℃的热台上烘干,或者待水分自然蒸发亦可,得到V2O5前驱膜。
步骤3:热处理:将步骤2在蓝宝石衬底上制备的V2O5前驱薄膜放入管式炉中进行热处理,将前驱薄膜放置于管式炉石英管正中心,之后,所述石英管进气端阀门紧闭,所述石英管抽气端连接普通机械泵,对所述石英管进行抽真空;抽真空至3-8Pa,准备开始热处理,在该实施例中,优选的,抽真空至5Pa,然后将管式炉以10-20℃/min的升温速率升温,维持180-500min,优选的,以 15℃/min的速率升温至700℃,维持180min;关闭管式炉,自然降温至室温,即可得到所述大尺寸V6O13单晶片。
如图2所示,上述方法制备的V6O13单晶片,可大量制备,尺寸达厘米级。对上述制备的大尺寸V6O13单晶片进行表征测试,结果如图3-4。采用光学显微镜来分析上述制备的大尺寸V6O13单晶片的形貌,结果如图3所示,从图3可以看出所得V6O13单晶片,尺寸大、表面光滑;采用XRD对上述制备的大尺寸V6O13单晶片进行物相分析,结果如图4所示,可以看出所得的XRD衍射峰均为V6O13的特制峰,且只有(00l)的晶面衍射峰,说明本实施例制备获得了结晶性优异的V6O13单晶,且只沿(00l)面择优生长,生长取向好。
实施例2
本发明实施例2中提供一种大尺寸V6O13单晶片的制备方法,包括以下步骤:
步骤1:制备V2O5前驱液:称取0.5g的V2O5粉末,加入15mL的去离子水,在磁力搅拌机上以1500转/min的速度搅拌24小时,得到V2O5前驱液。
步骤2:制备V2O5前驱膜:首先,将蓝宝石衬底置于等离子体清洗机中,通入64sccm的氧气,真空度维持在70Pa附近,以92W的射频功率氧Plasma 处理15分钟,清洗衬底上的杂质,使得衬底具有亲水性,以利于后续V2O5溶液在衬底上摊开,形成均匀的V2O5前驱膜。然后,用移液枪吸取10μL的V2O5前驱液,滴涂至上述氧Plasma处理的蓝宝石衬底上,之后,置于80℃的热台上烘干,或者待水分自然蒸发亦可,得到V2O5前驱膜。
步骤3:热处理:将步骤2制备的V2O5前驱薄膜放入管式炉进行热处理,将前驱薄膜放置于管式炉石英管正中心,之后,所述石英管进气端通入 70-100sccm的高纯氩气,优选的,通入的氩气流量为100sccm,在大气压下热处理,以15℃/min的速率升温至700℃,维持180min;关闭管式炉,自然降温至室温,即可得到所述的大尺寸V6O13单晶片。
综上所述,本发明提供的大尺寸V6O13单晶片的制备方法是采用一种溶液辅助固相热解的策略进行V6O13单晶片的制备,其先后经历V2O5前驱液的配制、滴涂(V2O5前驱膜的制备)以及热处理三个步骤,其不但制备工艺简单,效率高,而且所制备出的V6O13单晶片具有尺寸大、生长取向好、物相单一等优点;解决了目前实验上难以合成高质量V6O13单晶的困难。更重要的是,本发明提供的V6O13单晶的制备方法能够通过大批量制备。因此,本发明实施例中提供的大尺寸V6O13单晶片及其制备方法对进一步研究V6O13的相关性能提供了必要的原材料。
上述实施例为本发明较佳的实施方式,但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制,其他的任何未背离本发明的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化,均应为等效的置换方式,都包含在本发明的保护范围之内。
Claims (8)
1.大尺寸V6O13单晶片的制备方法,其特征在于,其包括如下步骤:
步骤1、将V2O5粉末溶于去离子水中,得到V2O5前驱溶液;
步骤2、取一定量上述V2O5前驱溶液,将该V2O5前驱溶液滴涂至蓝宝石衬底表面,在所述蓝宝石衬底表面获得V2O5前驱膜;
步骤3、将所述V2O5前驱膜置于管式炉中进行高温热处理,从而使所述V2O5前驱膜分解为V6O13,即可获得大尺寸V6O13单晶片。
2.根据权利要求1的所述制备方法,其特征在于,在将上述V2O5前驱溶液转移至蓝宝石衬底表面之前,将所述蓝宝石衬底置于等离子体清洗机中进行氧等离子处理5-15分钟,以使所述蓝宝石衬底具有亲水表面。
3.根据权利要求1的所述制备方法,其特征在于,所述V2O5粉末的纯度高于99.5%,所述V2O5前驱溶液的浓度为0.2-0.5mol/mL。
4.根据权利要求1-3之一的所述制备方法,其特征在于,所述步骤2中,转移至所述蓝宝石衬底表面的V2O5前驱溶液的量为5-15μL,所述蓝宝石衬底的面积为0.5-1.5cm2。
5.根据权利要求1的所述制备方法,其特征在于,所述步骤2中,将该V2O5前驱溶液转移至衬底表面之后,将该衬底置于热台上,在80℃下烘干,以获得位于所述衬底表面的V2O5前驱膜。
6.根据权利要求1的所述制备方法,其特征在于,所述步骤2中,将该V2O5前驱溶液转移至衬底表面之后,自然晾干,以获得位于所述衬底表面的V2O5前驱膜。
7.根据权利要求1-3、5-6之一的所述制备方法,其特征在于,所述步骤3中,所述热处理的条件是升温的速度为10-20℃/min,温度升至700℃,保温180-500min。
8.根据权利要求7的所述制备方法,其特征在于,所述步骤3中,所述热处理在真空条件下进行,所述真空度为3-8Pa;或者所述热处理在氩气环境下进行,所述氩气的流量为70-100sccm。
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Non-Patent Citations (3)
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CRYSTAL GROWTH AND SOME ELECTRIC PROPERTIES OF V6O13 RYSTAL;K. KAWASHIMA*;《Journal of Crystal Growth》;19740701;第321页第1栏第2段和第2栏第1段及图1 * |
锂离子电池正极材料V6013的合成与电化学性能;邹正光;《人工晶体学报》;20130731;第42卷(第7期);全文 * |
锂离子电池正极材料V6013的研究进展;田成邦;《化工新型材料》;20081231;第36卷(第12期);全文 * |
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