CN110306236B - 大尺寸v6o13单晶片及其制备方法 - Google Patents

大尺寸v6o13单晶片及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN110306236B
CN110306236B CN201910628556.8A CN201910628556A CN110306236B CN 110306236 B CN110306236 B CN 110306236B CN 201910628556 A CN201910628556 A CN 201910628556A CN 110306236 B CN110306236 B CN 110306236B
Authority
CN
China
Prior art keywords
substrate
precursor solution
preparation
precursor
sapphire substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201910628556.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110306236A (zh
Inventor
谢伟广
曾文
陈楠
赖浩杰
刘彭义
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jinan University
Original Assignee
Jinan University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jinan University filed Critical Jinan University
Priority to CN201910628556.8A priority Critical patent/CN110306236B/zh
Publication of CN110306236A publication Critical patent/CN110306236A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110306236B publication Critical patent/CN110306236B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B1/00Single-crystal growth directly from the solid state
    • C30B1/02Single-crystal growth directly from the solid state by thermal treatment, e.g. strain annealing
    • C30B1/023Single-crystal growth directly from the solid state by thermal treatment, e.g. strain annealing from solids with amorphous structure
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B1/00Single-crystal growth directly from the solid state
    • C30B1/10Single-crystal growth directly from the solid state by solid state reactions or multi-phase diffusion
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/16Oxides

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

本发明涉及一种大尺寸V6O13单晶片及其制备方法,该方法采用溶液辅助固相热解的方法进行V6O13单晶片的制备,其先后经历V2O5前驱液的配制、滴涂以及热处理三个步骤;该方法克服了气相、固相法难以合成出V6O13、溶液法以及溶剂热解方式制备存在不纯以及结晶性差的问题,其不但制备工艺简单,效率高,而且所制备出的V6O13单晶片具有尺寸大、生长取向好、物相单一等优点;解决了目前实验上难以合成高质量V6O13单晶的困难。更重要的是,本发明提供的V6O13单晶的制备方法能够大批量制备。因此,本发明实施例中提供的大尺寸V6O13单晶片及其制备方法对进一步研究V6O13的相关性能提供了原材料。

Description

大尺寸V6O13单晶片及其制备方法
技术领域
本发明涉及晶体生长领域,特别涉及一种大尺寸V6O13单晶片及其制备方法。
背景技术
钒氧化物由于其独特的金属-绝缘相变(MIT)特性,引起了人们对钒氧化物的相关特性及应用的强烈研究兴趣。相比广为人知的VO2、V2O5,混合价V6O13是一种研究较少的钒氧化物,但其具有较好的电化学性能。近年来,研究发现, V6O13具有优良的稳定性和充放电循环性能,且具有较高的理论比容量(420mA h/g)及较高的理论比能量(890Wh·kg-1),是最有望成为高性能锂离子电池正极材料的钒系化合物之一。
自从Murphy(1979)首次研究了V6O13的电化学性能以来,人们通过各种方法均能制备出V6O13材料,如固相法、水热合成法、溶剂热法等。但是目前已知的制备工艺中均难以制备出高质量的、物相单一的V6O13晶体,这是主要是因为V6O13是一种混合价态的钒氧化物。气相、固相法难以合成出V6O13,溶液法以及溶剂热解方式虽然能够合成V6O13,但存在不纯以及结晶性差等问题。可以说,由于V6O13合成、制备上挑战,严重制约了V6O13相关性能的研究;因此,人们努力寻求一直可制备出高质量的、物相单一的V6O13单晶,从而进一步研究其相关特性。
发明内容
为克服现有技术的缺点与不足,解决混合价态的V6O13难以合成难的问题,本发明的首要目的在于提供一种大尺寸V6O13单晶片的制备方法及其单晶片,其能够制备出高质量、结晶度好、大尺寸的V6O13单晶。
基于上述目的,本发明至少提供如下技术方案:
大尺寸V6O13单晶片的制备方法,其包括如下步骤:
步骤1、将V2O5粉末溶于去离子水中,得到V2O5前驱溶液;
步骤2、取一定量上述V2O5前驱溶液,将该V2O5前驱溶液滴涂至蓝宝石衬底表面,在所述蓝宝石衬底表面获得V2O5前驱膜;
步骤3、将所述V2O5前驱膜置于管式炉中进行高温热处理,从而使所述V2O5前驱膜分解为V6O13,即可获得大尺寸V6O13单晶片。
进一步的,在将上述V2O5前驱溶液转移至蓝宝石衬底表面之前,将所述蓝宝石衬底置于等离子体清洗机中进行氧等离子处理5-15分钟,以使所述蓝宝石衬底具有亲水表面。
进一步的,所述V2O5粉末的纯度高于99.5%,所述V2O5前驱溶液的浓度为 0.2-0.5mol/mL。
进一步的,所述步骤2中,转移至所述蓝宝石衬底表面的V2O5前驱溶液的量为5-15μL,所述蓝宝石衬底的面积为0.5-1.5cm2
进一步的,其特征在于,所述步骤2中,将该V2O5前驱溶液转移至衬底表面之后,将该衬底置于热台中,在80℃下烘干,以获得位于所述衬底表面的V2O5前驱膜。
进一步的,所述步骤2中,将该V2O5前驱溶液转移至衬底表面之后,自然晾干,以获得位于所述衬底表面的V2O5前驱膜。
进一步的,所述步骤3中,所述热处理的条件是升温速率为14-20℃/min,温度升至700℃,保温180-500min。
进一步的,所述步骤3中,所述热处理在真空条件下进行,所述真空度为 3-8Pa;或者所述热处理在氩气环境下进行,所述氩气的流量为70-100sccm。
大尺寸V6O13单晶片,所述大尺寸V6O13单晶片的择优生长晶面是(00l),且该V6O13单晶片物相单一、结晶质量高。
大尺寸V6O13单晶片,所述大尺寸V6O13单晶片由上述制备方法制备获得。
与现有技术相比,本发明至少具有如下有益效果:
(1)本发明提供了一种溶液辅助固相热解法制备获得了大尺寸V6O13单晶片,该溶液辅助固相热解法包括V2O5前驱液的配制、滴涂(V2O5前驱膜的制备) 以及热处理三个步骤,该方法克服了气相、固相法难以合成V6O13、溶液法以及溶剂热解方式制备存在不纯以及结晶性差的问题,本发明的制备方法不仅工艺简单、效率高,而且制备出的V6O13单晶片具有尺寸大、表面光滑、生长取向好、结晶性好以及物相单一等优点。
(2)本发明的制备方法中,在将V2O5前驱液转移至衬底表面之前,先对衬底进行氧等离子体处理,去除衬底上的杂质,使衬底具有亲水性,以利于后续V2O5前驱液在衬底上摊开,形成均匀的V2O5前驱膜;另外本发明制备方法中的热处理,V2O5前驱膜受热分解生成V6O13,高温融化晶体重组生长出大尺寸 V6O13单晶片。
附图说明
图1为本发明中制备大尺寸V6O13单晶片的工艺的示意图
图2为本发明实施例1中制备的大尺寸V6O13单晶片实物图。
图3为本发明实施例1中制备的大尺寸V6O13光学图片。
图4为本发明实施例1中,在蓝宝石衬底上得到的大尺寸V6O13单晶片的 XRD图。
具体实施方式
下面结合实施例及附图对本发明作进一步详细的描述,但本发明的实施方式不限于此。对于未特别注明的工艺参数,可参照常规技术进行。
实施例1
图1是本发明制备大尺寸V6O13单晶片的工艺示意图,本发明实施例提供一种大尺寸V6O13单晶片的制备方法,如图1所示,该制备方法包括以下步骤:
步骤1:制备V2O5前驱液:称取0.5g纯度高于99.5%的V2O5粉末,加入 15mL的去离子水,在磁力搅拌机上以1000-1500转/min的速度搅拌24小时,优选的,转速为1500转/min,得到V2O5前驱液。
步骤2:制备V2O5前驱膜:选用面积为0.5-1.5cm2的蓝宝石衬底,该实施例中,优选面积为1cm2的蓝宝石衬底。首先,将蓝宝石衬底置于等离子体清洗机中,通入64sccm的氧气,真空度维持在70Pa附近,以92W的射频功率氧 Plasma处理15分钟,清洗衬底上的杂质,使得衬底具有亲水性,以利于后续 V2O5溶液在衬底上摊开,形成均匀的V2O5前驱膜。
然后,用移液枪吸取5-15μL V2O5前驱液,移液枪的量程为5μL-50μL的大龙移液枪,该实施例中,滴涂的V2O5前驱液的量优选10μL。采用移液枪滴涂前驱液的转移方式相比较于常规的喷涂、旋涂、抽滤等方式,操作更加简单,更容易实现V2O5前驱液的转移。
将该V2O5前驱液滴涂至上述氧Plasma处理后的蓝宝石衬底上,之后,将带有V2O5前驱液的蓝宝石衬底置于80℃的热台上烘干,或者待水分自然蒸发亦可,得到V2O5前驱膜。
步骤3:热处理:将步骤2在蓝宝石衬底上制备的V2O5前驱薄膜放入管式炉中进行热处理,将前驱薄膜放置于管式炉石英管正中心,之后,所述石英管进气端阀门紧闭,所述石英管抽气端连接普通机械泵,对所述石英管进行抽真空;抽真空至3-8Pa,准备开始热处理,在该实施例中,优选的,抽真空至5Pa,然后将管式炉以10-20℃/min的升温速率升温,维持180-500min,优选的,以 15℃/min的速率升温至700℃,维持180min;关闭管式炉,自然降温至室温,即可得到所述大尺寸V6O13单晶片。
如图2所示,上述方法制备的V6O13单晶片,可大量制备,尺寸达厘米级。对上述制备的大尺寸V6O13单晶片进行表征测试,结果如图3-4。采用光学显微镜来分析上述制备的大尺寸V6O13单晶片的形貌,结果如图3所示,从图3可以看出所得V6O13单晶片,尺寸大、表面光滑;采用XRD对上述制备的大尺寸V6O13单晶片进行物相分析,结果如图4所示,可以看出所得的XRD衍射峰均为V6O13的特制峰,且只有(00l)的晶面衍射峰,说明本实施例制备获得了结晶性优异的V6O13单晶,且只沿(00l)面择优生长,生长取向好。
实施例2
本发明实施例2中提供一种大尺寸V6O13单晶片的制备方法,包括以下步骤:
步骤1:制备V2O5前驱液:称取0.5g的V2O5粉末,加入15mL的去离子水,在磁力搅拌机上以1500转/min的速度搅拌24小时,得到V2O5前驱液。
步骤2:制备V2O5前驱膜:首先,将蓝宝石衬底置于等离子体清洗机中,通入64sccm的氧气,真空度维持在70Pa附近,以92W的射频功率氧Plasma 处理15分钟,清洗衬底上的杂质,使得衬底具有亲水性,以利于后续V2O5溶液在衬底上摊开,形成均匀的V2O5前驱膜。然后,用移液枪吸取10μL的V2O5前驱液,滴涂至上述氧Plasma处理的蓝宝石衬底上,之后,置于80℃的热台上烘干,或者待水分自然蒸发亦可,得到V2O5前驱膜。
步骤3:热处理:将步骤2制备的V2O5前驱薄膜放入管式炉进行热处理,将前驱薄膜放置于管式炉石英管正中心,之后,所述石英管进气端通入 70-100sccm的高纯氩气,优选的,通入的氩气流量为100sccm,在大气压下热处理,以15℃/min的速率升温至700℃,维持180min;关闭管式炉,自然降温至室温,即可得到所述的大尺寸V6O13单晶片。
综上所述,本发明提供的大尺寸V6O13单晶片的制备方法是采用一种溶液辅助固相热解的策略进行V6O13单晶片的制备,其先后经历V2O5前驱液的配制、滴涂(V2O5前驱膜的制备)以及热处理三个步骤,其不但制备工艺简单,效率高,而且所制备出的V6O13单晶片具有尺寸大、生长取向好、物相单一等优点;解决了目前实验上难以合成高质量V6O13单晶的困难。更重要的是,本发明提供的V6O13单晶的制备方法能够通过大批量制备。因此,本发明实施例中提供的大尺寸V6O13单晶片及其制备方法对进一步研究V6O13的相关性能提供了必要的原材料。
上述实施例为本发明较佳的实施方式,但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制,其他的任何未背离本发明的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化,均应为等效的置换方式,都包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.大尺寸V6O13单晶片的制备方法,其特征在于,其包括如下步骤:
步骤1、将V2O5粉末溶于去离子水中,得到V2O5前驱溶液;
步骤2、取一定量上述V2O5前驱溶液,将该V2O5前驱溶液滴涂至蓝宝石衬底表面,在所述蓝宝石衬底表面获得V2O5前驱膜;
步骤3、将所述V2O5前驱膜置于管式炉中进行高温热处理,从而使所述V2O5前驱膜分解为V6O13,即可获得大尺寸V6O13单晶片。
2.根据权利要求1的所述制备方法,其特征在于,在将上述V2O5前驱溶液转移至蓝宝石衬底表面之前,将所述蓝宝石衬底置于等离子体清洗机中进行氧等离子处理5-15分钟,以使所述蓝宝石衬底具有亲水表面。
3.根据权利要求1的所述制备方法,其特征在于,所述V2O5粉末的纯度高于99.5%,所述V2O5前驱溶液的浓度为0.2-0.5mol/mL。
4.根据权利要求1-3之一的所述制备方法,其特征在于,所述步骤2中,转移至所述蓝宝石衬底表面的V2O5前驱溶液的量为5-15μL,所述蓝宝石衬底的面积为0.5-1.5cm2
5.根据权利要求1的所述制备方法,其特征在于,所述步骤2中,将该V2O5前驱溶液转移至衬底表面之后,将该衬底置于热台上,在80℃下烘干,以获得位于所述衬底表面的V2O5前驱膜。
6.根据权利要求1的所述制备方法,其特征在于,所述步骤2中,将该V2O5前驱溶液转移至衬底表面之后,自然晾干,以获得位于所述衬底表面的V2O5前驱膜。
7.根据权利要求1-3、5-6之一的所述制备方法,其特征在于,所述步骤3中,所述热处理的条件是升温的速度为10-20℃/min,温度升至700℃,保温180-500min。
8.根据权利要求7的所述制备方法,其特征在于,所述步骤3中,所述热处理在真空条件下进行,所述真空度为3-8Pa;或者所述热处理在氩气环境下进行,所述氩气的流量为70-100sccm。
CN201910628556.8A 2019-07-12 2019-07-12 大尺寸v6o13单晶片及其制备方法 Active CN110306236B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910628556.8A CN110306236B (zh) 2019-07-12 2019-07-12 大尺寸v6o13单晶片及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910628556.8A CN110306236B (zh) 2019-07-12 2019-07-12 大尺寸v6o13单晶片及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110306236A CN110306236A (zh) 2019-10-08
CN110306236B true CN110306236B (zh) 2020-09-04

Family

ID=68080096

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910628556.8A Active CN110306236B (zh) 2019-07-12 2019-07-12 大尺寸v6o13单晶片及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110306236B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113264555A (zh) * 2021-04-09 2021-08-17 南京航空航天大学 一种二维v6o13纳米片的制备方法和应用

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104060241A (zh) * 2014-07-09 2014-09-24 安徽建筑大学 一种高取向二氧化钒薄膜的液相制备方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104060241A (zh) * 2014-07-09 2014-09-24 安徽建筑大学 一种高取向二氧化钒薄膜的液相制备方法

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CRYSTAL GROWTH AND SOME ELECTRIC PROPERTIES OF V6O13 RYSTAL;K. KAWASHIMA*;《Journal of Crystal Growth》;19740701;第321页第1栏第2段和第2栏第1段及图1 *
锂离子电池正极材料V6013的合成与电化学性能;邹正光;《人工晶体学报》;20130731;第42卷(第7期);全文 *
锂离子电池正极材料V6013的研究进展;田成邦;《化工新型材料》;20081231;第36卷(第12期);全文 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN110306236A (zh) 2019-10-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110872728B (zh) 一种简单、高效降低SiC单晶中碳包裹物的方法
CN108342716B (zh) 等离子体增强化学气相沉积制备二维材料的系统及方法
CN108246122B (zh) 一种NaA分子筛膜的合成方法
CN106011759B (zh) 一种高c轴取向AlN薄膜及其制备方法与应用
CN110983294A (zh) 一种一步CVD法制备WS2/MoS2异质结的方法
CN110306236B (zh) 大尺寸v6o13单晶片及其制备方法
CN108314019B (zh) 一种层数均匀的大面积高质量石墨烯薄膜的制备方法
CN110950386B (zh) 一种过渡金属硫化物纳米片粉体的制备方法
CN112408411A (zh) 一种基于微波加热合成sapo-34分子筛膜的方法
CN107699955A (zh) 一种利用微波加热去除碳化硅单晶缺陷中及表面有机杂质的方法
CN111961216B (zh) 一种原位生长二维MOFs薄膜的方法
CN101279208B (zh) 一种制备y型分子筛膜的方法
CN105603395B (zh) 一种CaCu3Ti4O12薄膜的制备方法
CN106861460B (zh) 一种用于渗透汽化的氨基酸@ldh/海藻酸钠复合膜制备方法
CN114182231B (zh) 一种基于衬底处理的六方氮化硼薄膜制备方法
CN111893569B (zh) 一种形貌良好、结晶性强的二氧化钒晶体及其制备与应用
CN112062155A (zh) 一种限域生长的超薄二维材料及其制备方法
CN109666913A (zh) 一种氮化镁薄膜及其制备方法
CN115341273A (zh) 一种大尺寸二维热电材料碲化铋单晶的制备
Buckelew et al. Facile Conversion of the Face‐Centered Cubic Prussian‐Blue Material K2 [Mn2 (CN) 6] into the Spinel Oxide Mn3O4 at the Solid/Water Interface
CN110228813A (zh) 一种制备y型分子筛膜的方法
CN113584458A (zh) 一种利用微波等离子体化学气相沉积技术在钽铌酸钾晶体上制备金刚石薄膜的方法
CN100549221C (zh) 一种钛酸锶钡薄膜材料的制备方法
CN116005262B (zh) 一种有机溶液辅助的晶圆级过渡金属硫化物的生长方法
CN115341272B (zh) 一种毫米级二维拓扑材料硒化铋单晶的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant