CN110273142B - 硅片的对位装置和对位方法 - Google Patents

硅片的对位装置和对位方法 Download PDF

Info

Publication number
CN110273142B
CN110273142B CN201910698365.9A CN201910698365A CN110273142B CN 110273142 B CN110273142 B CN 110273142B CN 201910698365 A CN201910698365 A CN 201910698365A CN 110273142 B CN110273142 B CN 110273142B
Authority
CN
China
Prior art keywords
structural unit
silicon
silicon wafer
aligning
silicon wafers
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201910698365.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110273142A (zh
Inventor
陈其成
高江
陈颖
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Changzhou Shichuang Energy Co Ltd
Original Assignee
Changzhou Shichuang Energy Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Changzhou Shichuang Energy Co Ltd filed Critical Changzhou Shichuang Energy Co Ltd
Priority to CN201910698365.9A priority Critical patent/CN110273142B/zh
Publication of CN110273142A publication Critical patent/CN110273142A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110273142B publication Critical patent/CN110273142B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/458Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
    • C23C16/4581Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber characterised by material of construction or surface finish of the means for supporting the substrate

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

本发明公开了一种硅片的对位装置和对位方法,采用倾斜方式对硅片进行对位,可确保同一结构单元中各硅片的对位边对齐,可提高对位精准度;若硅片承载装置设有两个或两个以上的结构单元,则本发明可同步完成各个结构单元的对位动作,可提高对位效率;本发明可一次完成单个结构单元的上料动作,可提高上料效率;若硅片承载装置设有两个或两个以上的结构单元,则本发明可一次完成至少两个结构单元的上料动作,可进一步提高上料效率;本发明可一次完成单个结构单元的下料动作,可确保同一结构单元中的各个硅片被同步取走;若硅片承载装置设有两个或两个以上的结构单元,则本发明可一次完成至少两个结构单元的下料动作,可提高下料效率。

Description

硅片的对位装置和对位方法
技术领域
本发明涉及太阳能电池领域,具体涉及硅片的对位装置和对位方法。
背景技术
太阳能电池片由硅片制备而成,太阳能电池片的生产过程中,需要对硅片进行PECVD镀膜,一般将硅片插放在石墨舟中进行PECVD镀膜。
为了提高生产效率,需要将多个硅片同步插放至石墨舟中,且插放硅片之前,需要对该多个硅片进行对位,使各硅片相互平行,且使各硅片的一边(即对位边)对齐(使各硅片的对位边处于同一平面)。
发明内容
本发明的目的在于提供可采用倾斜方式对硅片进行对位的装置及方法。
为实现上述目的,本发明提供一种硅片的对位装置,所述对位装置包括硅片承载装置和倾斜驱动机构;
所述硅片承载装置包括结构单元;所述结构单元包括:竖置定位板,以及与定位板一侧表面连接、且竖向依次设置的多个平置支承板;所述支承板用于平放硅片;所述定位板用于对硅片的对位边进行定位;
所述倾斜驱动机构可驱动硅片承载装置向定位板的另一侧倾斜。
优选的,所述硅片承载装置包括至少两个结构单元,各结构单元的定位板相互平行,且各定位板另一侧表面的朝向相同。
优选的,所述结构单元中的各个支承板竖向等间隔依次设置。
优选的,所述对位装置还配有上料机械手。
优选的,所述上料机械手可一次完成单个结构单元的上料动作。
优选的,所述对位装置还配有上料机械手;所述上料机械手可一次完成至少两个结构单元的上料动作。
优选的,所述对位装置还配有下料机械手;所述下料机械手可一次完成单个结构单元的下料动作。
优选的,所述对位装置还配有下料机械手;所述下料机械手可一次完成至少两个结构单元的下料动作。
本发明还提供一种硅片的对位方法,采用对位装置对硅片进行对位,使结构单元中各硅片相互平行,且使结构单元中各硅片的对位边对齐(使结构单元中各硅片的对位边处于同一平面);
所述对位装置包括硅片承载装置和倾斜驱动机构;所述硅片承载装置包括结构单元;所述结构单元包括:竖置定位板,以及与定位板一侧表面连接、且竖向依次设置的多个平置支承板;所述支承板用于平放硅片;所述定位板用于对硅片的对位边进行定位;所述倾斜驱动机构可驱动硅片承载装置向定位板的另一侧倾斜;
所述对位方法包括如下步骤:
1)上料:在结构单元的支承板上平放硅片,使结构单元承载多个硅片,且使结构单元中各硅片的对位边都朝向定位板;
2)对位:倾斜驱动机构驱动硅片承载装置向定位板的另一侧倾斜,使结构单元中各硅片的对位边都(下滑至)与定位板抵靠,此时结构单元中各硅片相互平行,结构单元中各硅片的对位边对齐(结构单元中各硅片的对位边处于同一平面);
3)下料:将结构单元中的各个硅片同步取走。
优选的,所述结构单元中的各个支承板竖向等间隔依次设置。
优选的,所述对位装置还配有上料机械手;通过上料机械手完成上料步骤。
优选的,所述上料机械手一次完成单个结构单元的上料动作。
优选的,所述对位装置还配有下料机械手;通过下料机械手完成下料步骤;所述下料机械手一次完成单个结构单元的下料动作。
优选的,所述步骤1)中的硅片为直角硅片、圆角硅片或分片;所述分片为直角硅片或圆角硅片的二等分分片、三等分分片、四等分分片、五等分分片或六等分分片。
本发明还提供另一种硅片的对位方法,采用对位装置对硅片进行对位,使同一结构单元中各硅片相互平行,且使同一结构单元中各硅片的对位边对齐(使同一结构单元中各硅片的对位边处于同一平面),且同步完成各个结构单元的对位动作;
所述对位装置包括硅片承载装置和倾斜驱动机构;所述硅片承载装置包括至少两个结构单元;所述结构单元包括:竖置定位板,以及与定位板一侧表面连接、且竖向依次设置的多个平置支承板;所述支承板用于平放硅片;所述定位板用于对硅片的对位边进行定位;各结构单元的定位板相互平行,且各定位板另一侧表面的朝向相同;所述倾斜驱动机构可驱动硅片承载装置向(某一结构单元的)定位板的另一侧倾斜;
所述对位方法包括如下步骤:
1)上料:在各结构单元的支承板上平放硅片,使各结构单元分别承载多个硅片,且使同一结构单元中各硅片的对位边都朝向该结构单元的定位板;
2)对位:倾斜驱动机构驱动硅片承载装置向(某一结构单元的)定位板的另一侧倾斜,使同一结构单元中各硅片的对位边都(下滑至)与该结构单元的定位板抵靠,此时同一结构单元中各硅片相互平行,同一结构单元中各硅片的对位边对齐(同一结构单元中各硅片的对位边处于同一平面),且同步完成各个结构单元的对位动作;
3)下料:将各个结构单元中的硅片取走,且同一结构单元中的各个硅片同步取走。
优选的,所述结构单元中的各个支承板竖向等间隔依次设置。
优选的,所述对位装置还配有上料机械手;通过上料机械手完成上料步骤。
优选的,所述上料机械手一次完成单个结构单元的上料动作。
优选的,所述上料机械手一次完成至少两个结构单元的上料动作。
优选的,所述对位装置还配有下料机械手;通过下料机械手完成下料步骤;所述下料机械手一次完成单个结构单元的下料动作。
优选的,所述对位装置还配有下料机械手;通过下料机械手完成下料步骤;所述下料机械手一次完成至少两个结构单元的下料动作。
优选的,所述步骤1)中的硅片为直角硅片、圆角硅片或分片;所述分片为直角硅片或圆角硅片的二等分分片、三等分分片、四等分分片、五等分分片或六等分分片。
本发明的优点和有益效果在于:
1)本发明采用倾斜方式对硅片进行对位,可确保同一结构单元中各硅片的对位边对齐(确保同一结构单元中各硅片的对位边处于同一平面),可提高对位精准度。
2)若硅片承载装置设有两个或两个以上的结构单元,则本发明可同步完成各个结构单元的对位动作,可提高对位效率。
3)本发明可一次完成单个结构单元的上料动作,可提高上料效率;进一步地,若硅片承载装置设有两个或两个以上的结构单元,则本发明可一次完成至少两个结构单元的上料动作,可进一步提高上料效率。
4)本发明可一次完成单个结构单元的下料动作,可确保同一结构单元中的各个硅片被同步取走;进一步地,若硅片承载装置设有两个或两个以上的结构单元,则本发明可一次完成至少两个结构单元的下料动作,可提高下料效率。
附图说明
图1是实施例1中硅片承载装置倾斜前的示意图;
图2是实施例1中硅片承载装置倾斜后的示意图;
图3是实施例2中硅片承载装置倾斜前的示意图;
图4是实施例2中硅片承载装置倾斜后的示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案,而不能以此来限制本发明的保护范围。
实施例1
如图1和图2所示,本发明提供一种硅片的对位方法,采用对位装置对硅片2进行对位,使结构单元10中各硅片2相互平行,且使结构单元10中各硅片2的对位边21对齐(使结构单元10中各硅片2的对位边21处于同一平面);
如图1所示,所述对位装置包括硅片承载装置1和倾斜驱动机构;所述硅片承载装置1包括结构单元10;所述结构单元10包括:竖置定位板11,以及与定位板11一侧表面连接、且竖向依次设置的多个平置支承板12;所述支承板12用于平放硅片2;所述定位板11用于对硅片2的对位边21进行定位;所述倾斜驱动机构可驱动硅片承载装置1向定位板11的另一侧倾斜;
所述对位方法包括如下步骤:
1)上料:在结构单元10的支承板12上平放硅片2,使结构单元10承载多个硅片2,且使结构单元10中各硅片2的对位边21都朝向定位板11,如图1所示;硅片2为直角硅片、圆角硅片或分片;所述分片为直角硅片或圆角硅片的二等分分片、三等分分片、四等分分片、五等分分片或六等分分片;
2)对位:倾斜驱动机构驱动硅片承载装置1向定位板11的另一侧倾斜,使结构单元10中各硅片2的对位边21都(下滑至)与定位板11抵靠,此时结构单元10中各硅片2相互平行,结构单元10中各硅片2的对位边21对齐(结构单元10中各硅片2的对位边21处于同一平面),如图2所示;
3)下料:将结构单元10中的各个硅片2同步取走。
优选的,所述结构单元10中的各个支承板12竖向等间隔依次设置。
优选的,所述对位装置还配有上料机械手;通过上料机械手完成上料步骤。
优选的,所述上料机械手一次完成单个结构单元10的上料动作。
优选的,所述对位装置还配有下料机械手;通过下料机械手完成下料步骤;所述下料机械手一次完成单个结构单元10的下料动作。
实施例2
如图3和图4所示,本发明还提供另一种硅片的对位方法,采用对位装置对硅片2进行对位,使同一结构单元10中各硅片2相互平行,且使同一结构单元10中各硅片2的对位边21对齐(使同一结构单元10中各硅片2的对位边21处于同一平面),且同步完成各个结构单元10的对位动作;
如图3所示,所述对位装置包括硅片承载装置1和倾斜驱动机构;所述硅片承载装置1包括至少两个结构单元10;所述结构单元10包括:竖置定位板11,以及与定位板11一侧表面连接、且竖向依次设置的多个平置支承板12;所述支承板12用于平放硅片2;所述定位板11用于对硅片2的对位边21进行定位;各结构单元10的定位板11相互平行,且各定位板11另一侧表面的朝向相同;所述倾斜驱动机构可驱动硅片承载装置1向(某一结构单元10的)定位板11的另一侧倾斜;
所述对位方法包括如下步骤:
1)上料:在各结构单元10的支承板12上平放硅片2,使各结构单元10分别承载多个硅片2,且使同一结构单元10中各硅片2的对位边21都朝向该结构单元10的定位板11,如图3所示;硅片2为直角硅片、圆角硅片或分片;所述分片为直角硅片或圆角硅片的二等分分片、三等分分片、四等分分片、五等分分片或六等分分片;
2)对位:倾斜驱动机构驱动硅片承载装置1向(某一结构单元10的)定位板11的另一侧倾斜,使同一结构单元10中各硅片2的对位边21都(下滑至)与该结构单元10的定位板11抵靠,此时同一结构单元10中各硅片2相互平行,同一结构单元10中各硅片2的对位边21对齐(同一结构单元10中各硅片2的对位边21处于同一平面),且同步完成各个结构单元10的对位动作,如图4所示;
3)下料:将各个结构单元10中的硅片2取走,且同一结构单元10中的各个硅片2同步取走。
优选的,所述结构单元10中的各个支承板12竖向等间隔依次设置。
优选的,所述对位装置还配有上料机械手;通过上料机械手完成上料步骤。
优选的,所述上料机械手一次完成单个结构单元10的上料动作。
优选的,所述上料机械手一次完成至少两个结构单元10的上料动作。
优选的,所述对位装置还配有下料机械手;通过下料机械手完成下料步骤;所述下料机械手一次完成单个结构单元10的下料动作。
优选的,所述对位装置还配有下料机械手;通过下料机械手完成下料步骤;所述下料机械手一次完成至少两个结构单元10的下料动作。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (22)

1.硅片的对位装置,其特征在于,所述对位装置包括硅片承载装置和倾斜驱动机构;
所述硅片承载装置包括结构单元;所述结构单元包括:竖置定位板,以及与定位板一侧表面连接、且竖向依次设置的多个平置支承板;
所述倾斜驱动机构可驱动硅片承载装置向定位板的另一侧倾斜。
2.根据权利要求1所述的硅片的对位装置,其特征在于,所述硅片承载装置包括至少两个结构单元,各结构单元的定位板相互平行,且各定位板另一侧表面的朝向相同。
3.根据权利要求1或2所述的硅片的对位装置,其特征在于,所述结构单元中的各个支承板竖向等间隔依次设置。
4.根据权利要求1或2所述的硅片的对位装置,其特征在于,所述对位装置还配有上料机械手。
5.根据权利要求4所述的硅片的对位装置,其特征在于,所述上料机械手可一次完成单个结构单元的上料动作。
6.根据权利要求2所述的硅片的对位装置,其特征在于,所述对位装置还配有上料机械手;所述上料机械手可一次完成至少两个结构单元的上料动作。
7.根据权利要求1或2所述的硅片的对位装置,其特征在于,所述对位装置还配有下料机械手;所述下料机械手可一次完成单个结构单元的下料动作。
8.根据权利要求2所述的硅片的对位装置,其特征在于,所述对位装置还配有下料机械手;所述下料机械手可一次完成至少两个结构单元的下料动作。
9.硅片的对位方法,其特征在于,采用对位装置对硅片进行对位,使结构单元中各硅片相互平行,且使结构单元中各硅片的对位边对齐;
所述对位装置包括硅片承载装置和倾斜驱动机构;所述硅片承载装置包括结构单元;所述结构单元包括:竖置定位板,以及与定位板一侧表面连接、且竖向依次设置的多个平置支承板;所述倾斜驱动机构可驱动硅片承载装置向定位板的另一侧倾斜;
所述对位方法包括如下步骤:
1)上料:在结构单元的支承板上平放硅片,使结构单元承载多个硅片,且使结构单元中各硅片的对位边都朝向定位板;
2)对位:倾斜驱动机构驱动硅片承载装置向定位板的另一侧倾斜,使结构单元中各硅片的对位边都与定位板抵靠,此时结构单元中各硅片相互平行,结构单元中各硅片的对位边对齐;
3)下料:将结构单元中的各个硅片同步取走。
10.根据权利要求9所述的硅片的对位方法,其特征在于,所述结构单元中的各个支承板竖向等间隔依次设置。
11.根据权利要求9所述的硅片的对位方法,其特征在于,所述对位装置还配有上料机械手;通过上料机械手完成上料步骤。
12.根据权利要求11所述的硅片的对位方法,其特征在于,所述上料机械手一次完成单个结构单元的上料动作。
13.根据权利要求9所述的硅片的对位方法,其特征在于,所述对位装置还配有下料机械手;通过下料机械手完成下料步骤;所述下料机械手一次完成单个结构单元的下料动作。
14.根据权利要求9至13中任一项所述的硅片的对位方法,其特征在于,所述步骤1)中的硅片为直角硅片、圆角硅片或分片;所述分片为直角硅片或圆角硅片的二等分分片、三等分分片、四等分分片、五等分分片或六等分分片。
15.硅片的对位方法,其特征在于,采用对位装置对硅片进行对位,使同一结构单元中各硅片相互平行,且使同一结构单元中各硅片的对位边对齐,且同步完成各个结构单元的对位动作;
所述对位装置包括硅片承载装置和倾斜驱动机构;所述硅片承载装置包括至少两个结构单元;所述结构单元包括:竖置定位板,以及与定位板一侧表面连接、且竖向依次设置的多个平置支承板;各结构单元的定位板相互平行,且各定位板另一侧表面的朝向相同;所述倾斜驱动机构可驱动硅片承载装置向定位板的另一侧倾斜;
所述对位方法包括如下步骤:
1)上料:在各结构单元的支承板上平放硅片,使各结构单元分别承载多个硅片,且使同一结构单元中各硅片的对位边都朝向该结构单元的定位板;
2)对位:倾斜驱动机构驱动硅片承载装置向定位板的另一侧倾斜,使同一结构单元中各硅片的对位边都与该结构单元的定位板抵靠,此时同一结构单元中各硅片相互平行,同一结构单元中各硅片的对位边对齐,且同步完成各个结构单元的对位动作;
3)下料:将各个结构单元中的硅片取走,且同一结构单元中的各个硅片同步取走。
16.根据权利要求15所述的硅片的对位方法,其特征在于,所述结构单元中的各个支承板竖向等间隔依次设置。
17.根据权利要求15所述的硅片的对位方法,其特征在于,所述对位装置还配有上料机械手;通过上料机械手完成上料步骤。
18.根据权利要求17所述的硅片的对位方法,其特征在于,所述上料机械手一次完成单个结构单元的上料动作。
19.根据权利要求17所述的硅片的对位方法,其特征在于,所述上料机械手一次完成至少两个结构单元的上料动作。
20.根据权利要求15所述的硅片的对位方法,其特征在于,所述对位装置还配有下料机械手;通过下料机械手完成下料步骤;所述下料机械手一次完成单个结构单元的下料动作。
21.根据权利要求15所述的硅片的对位方法,其特征在于,所述对位装置还配有下料机械手;通过下料机械手完成下料步骤;所述下料机械手一次完成至少两个结构单元的下料动作。
22.根据权利要求15至20中任一项所述的硅片的对位方法,其特征在于,所述步骤1)中的硅片为直角硅片、圆角硅片或分片;所述分片为直角硅片或圆角硅片的二等分分片、三等分分片、四等分分片、五等分分片或六等分分片。
CN201910698365.9A 2019-07-31 2019-07-31 硅片的对位装置和对位方法 Active CN110273142B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910698365.9A CN110273142B (zh) 2019-07-31 2019-07-31 硅片的对位装置和对位方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910698365.9A CN110273142B (zh) 2019-07-31 2019-07-31 硅片的对位装置和对位方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110273142A CN110273142A (zh) 2019-09-24
CN110273142B true CN110273142B (zh) 2021-06-04

Family

ID=67965837

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910698365.9A Active CN110273142B (zh) 2019-07-31 2019-07-31 硅片的对位装置和对位方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110273142B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114396420A (zh) * 2022-01-18 2022-04-26 常州时创能源股份有限公司 一种硅块拼接方法

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1084033A (ja) * 1996-09-06 1998-03-31 Kokusai Electric Co Ltd オリフラ合せ機構およびオリフラ合せ方法
JPH1092909A (ja) * 1996-09-13 1998-04-10 Hitoshi Kawaguchi 半導体ウェーハの整列方法と装置
JPH10107127A (ja) * 1996-09-27 1998-04-24 Kokusai Electric Co Ltd 半導体製造装置
US5857827A (en) * 1996-08-14 1999-01-12 Tokyo Electron Limited Cassette chamber
US6099242A (en) * 1997-12-08 2000-08-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Wafer aligning apparatus for semiconductor device fabrication
KR20060039134A (ko) * 2004-11-02 2006-05-08 삼성전자주식회사 웨이퍼 카세트 어라인 장치
JP2008016735A (ja) * 2006-07-07 2008-01-24 Nec Electronics Corp 検査補助装置
CN201336302Y (zh) * 2008-12-19 2009-10-28 无锡市南亚科技有限公司 硅片自动装片机
CN202363506U (zh) * 2011-10-31 2012-08-01 晶澳(扬州)太阳能科技有限公司 一种石英舟
CN207233715U (zh) * 2017-08-07 2018-04-13 上海客辉自动化设备有限公司 一种硅片双载板自动上下料机构

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030072639A1 (en) * 2001-10-17 2003-04-17 Applied Materials, Inc. Substrate support
CN104681475A (zh) * 2014-12-31 2015-06-03 上海新阳半导体材料股份有限公司 晶圆位置校准装置

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5857827A (en) * 1996-08-14 1999-01-12 Tokyo Electron Limited Cassette chamber
JPH1084033A (ja) * 1996-09-06 1998-03-31 Kokusai Electric Co Ltd オリフラ合せ機構およびオリフラ合せ方法
JPH1092909A (ja) * 1996-09-13 1998-04-10 Hitoshi Kawaguchi 半導体ウェーハの整列方法と装置
JPH10107127A (ja) * 1996-09-27 1998-04-24 Kokusai Electric Co Ltd 半導体製造装置
US6099242A (en) * 1997-12-08 2000-08-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Wafer aligning apparatus for semiconductor device fabrication
KR20060039134A (ko) * 2004-11-02 2006-05-08 삼성전자주식회사 웨이퍼 카세트 어라인 장치
JP2008016735A (ja) * 2006-07-07 2008-01-24 Nec Electronics Corp 検査補助装置
CN201336302Y (zh) * 2008-12-19 2009-10-28 无锡市南亚科技有限公司 硅片自动装片机
CN202363506U (zh) * 2011-10-31 2012-08-01 晶澳(扬州)太阳能科技有限公司 一种石英舟
CN207233715U (zh) * 2017-08-07 2018-04-13 上海客辉自动化设备有限公司 一种硅片双载板自动上下料机构

Also Published As

Publication number Publication date
CN110273142A (zh) 2019-09-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10087544B2 (en) Microelectronic substrate electro processing system
US20140150981A1 (en) Peeling apparatus, peeling system and peeling method
CN110444627B (zh) 太阳能电池组件的制备方法
CN103988290A (zh) 工件处理系统以及工件处理方法
TW200707621A (en) Cartesian robot cluster tool architecture
KR20120039695A (ko) 기판 처리 시스템
US9190307B2 (en) Apparatus for transferring a solar wafer or solar cell during its fabrication
US10395961B2 (en) Posture changing device
CN110273142B (zh) 硅片的对位装置和对位方法
JP3405411B2 (ja) 角形基板の製造方法
CN109333844B (zh) 一种硅片裂片装置及硅片划片加工系统
JPH1044141A (ja) マルチワイヤーソー及びこれを用いた太陽電池用ウエハの製造方法
CN110444621B (zh) 太阳能电池组件的制备方法
CN201816147U (zh) 半导体晶片的裂片工具
CN104934504A (zh) 一种硅片倒片机构
EP3227928A1 (en) Apparatus for printing on a substrate for the production of a solar cell, and method for transporting a substrate for the production of a solar cell
CN211891508U (zh) 一种晶片斜边加工夹具
KR102144638B1 (ko) 기판 배열 장치 및 기판 배열 방법
KR101781893B1 (ko) 웨이퍼 로딩장치
CN220767161U (zh) 一种石墨盘治具
KR20120111712A (ko) 대면적 기재용 패터닝 장치 및 패터닝 방법
CN217991314U (zh) 电池片用加工装置以及电池片用生产线
CN210557855U (zh) 撷取垂立式薄板至水平输送台面的载运装置
CN213782033U (zh) 一种载板定位装置
CN111180393B (zh) 电池片处理方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
CB02 Change of applicant information
CB02 Change of applicant information

Address after: Liyang City, Jiangsu province 213300 Li Cheng Zhen Wu Changzhou city Tandu Road No. 8

Applicant after: Changzhou Shichuang Energy Co., Ltd

Address before: Liyang City, Jiangsu province 213300 Li Cheng Zhen Wu Changzhou city Tandu Road No. 8

Applicant before: CHANGZHOU SHICHUANG ENERGY TECHNOLOGY Co.,Ltd.

GR01 Patent grant
GR01 Patent grant