CN110267795A - 具有改进的光学组的立体光刻机 - Google Patents

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Abstract

一种用于制造三维物体(O)的立体光刻机(1)，其包括：用于流体物质(R)的容器(2)；预定辐射(RL，RL1，RL2)的源(3，31，32)；光学组(4)，其被配置成将辐射(RL，RL1，RL2)朝向该流体物质(R)的参考表面(SR)引导；以及控制逻辑单元(5)，其被配置成控制该光学组(4)和/或该辐射源(3，31，32)以使该参考表面(SR)的至少一部分曝光于辐射(RL，RL1，RL2)。立体光刻机提供光学组(4)，其包括第一子光学组(41)和第二子光学组(42)，该第一子光学组(41)被配置成曝光于辐射(RL，RL1，RL2)以便将待固化的第一部分的图像瞬时投射在参考表面(SR)上，该第二子光学组(42)被配置成选择性地将辐射(RL，RL1，RL2)朝向该参考表面(SR)的一点运送并且移动该点以便逐渐曝光该参考表面(SR)的待固化的第二部分。该立体光刻机具有改进的光学组。

Description

具有改进的光学组的立体光刻机
描述
本发明涉及一种适配成用于通过多个并置层来制造三维物体的立体光刻机，其中每个层通过在与待生产物体的体积相对应的区域中选择性固化流体物质来获得。
此外，本发明涉及一种用于通过藉由本发明的立体光刻机执行的立体光刻工艺来制造三维物体的方法。
已知的立体光刻机包括其中布置有流体物质(一般而言，具有液体状态或浆状状态的光敏树脂)的容器。
该立体光刻机还包括一般而言是发光型的源，并且该源发射适配成用于固化该流体物质的辐射。
光学组负责将前述辐射朝向布置在容器内的参考表面进行运送，该参考表面对应于物体的待固化的层的较接近于前述光学组的表面。
成形中的三维物体由造型板支撑，该造型板可相对于容器垂直移动，以便能够将物体的最后经固化的层布置在与前述参考表面毗邻的位置中。
以此方式，在每个层已经被固化之后，移动造型板以使新固化的层毗邻于参考表面；之后，可以重复该过程以用于后续的层。
前述类型的立体光刻机被分为两个主要实施例。
前述实施例中的第一个实施例预见到参考表面毗邻于容器的底部(其对辐射是透明的)来布置。
在该情形中，从下方照射流体物质，并且三维物体形成在造型板之下。
第二实施例预见到参考表面被布置在流体物质的自由表面处。
在该第二情形中，从上方照射流体物质，并且三维物体形成在造型板的顶部上。
已知对于前述两个实施例，用选自不同的已知光学组中的单个光学组来获得对参考表面的不同点中的辐射的运送。
具体而言，第一类型的光学组包括可以被单独控制的反射镜矩阵，以便将物体的层的图像投影到参考表面上。
甚至更具体地，每个反射镜可以占据两个不同的位置——在其处辐射朝向参考表面的对应点反射的有效位置和在其处辐射朝向扩散区域反射的无效位置。
该类型的光学组在术语中被称为“数字光处理”投影仪或即首字母缩略词DLP。
前述反射镜矩阵能够同时照射整个参考表面，从而使得有可能通过单次曝光来获得每个层，因此特别快速。
然而，反射镜矩阵具有有限的清晰度，具有获得具有不规则性的边缘或外表面的物体的缺点。
前述系统的另一限制是它们生成的图像在其整个参考表面上具有均匀的光强度。
因此，出现的缺点是此类系统不允许在参考表面的不同区域中调节光功率。
第二类型的光学组(存在于现有技术的立体光刻机中)作为前述反射镜矩阵的替换，提供了在参考表面的单个点中运送辐射并且移动该点以便能够逐渐照射参考表面的与物体体积相对应的整个部分。
相对于上述类型的光学组，这具有能够在参考表面的任何点中引导光束，从而使其遵循连续的轨迹并因此获得免于不规则性的物体的优点。
此外，这种类型的光学组有利地使得有可能修改参考表面的不同区域中的光强度。
更为详细地，上述第二类型的光学组的已知实施例提供了通过机械设备来在两个垂直轴上移动的激光源。
该实施例具有的缺点在于光束移动非常缓慢，以及此外，机械运动设备可能遭受破坏并且因此需要一定量的维护。
替换地，第二类型的光学组的不同实施例提供使用固定的源(通常是激光源)和彼此串联布置(通常是检流计头(galvo head))的一对反射镜，以引导光束。
每个反射镜被机动化以能够围绕垂直于另一反射镜的轴线的相应的旋转轴线旋转，从而它们的旋转的组合使得有可能在参考表面的任何点中引导光束。
相对于包括较早引用的激光器的运动的系统，刚刚已经被描述的系统具有归因于检流计反射镜的较低惯性而允许光束的高速移动以及归因于机械部件的较低数目而具有较高的可靠性的优点。
尽管具有前述优点，但是该第二类型的光学组(即，提供在参考表面的单个点中运送辐射的光学组)不利地具有延长前述参考表面的属于待制造的物体的体积的各部分的固化时间的缺点这是因为如上所述移动在构成此类部分中的每一者的所有点上逐渐运送的前述点是必要的。
本发明旨在克服属于现有技术的所有前述缺点。
具体而言，本发明的目的是制造使得有可能获得具有高清晰度的物体并且同时允许执行立体光刻工艺以快速制造这样的物体的立体光刻机。
此外，本发明的目的是制造一种通用立体光刻机，即该通用立体光刻机能够基于待制造的三维物体的特性来适配其自身的立体光刻工艺的执行模式，以便在执行速度与所生产的物体的质量之间获得最优折衷。
前述目的通过根据主权利要求制造的立体光刻机来实现。
从属权利要求中给出了本发明的进一步详细特性。
本发明还包括一种用于通过藉由本发明的立体光刻机执行的立体光刻工艺的应用来制造三维物体的方法。
前述目的和优点与将在下文提及的其他目的和优点一起将在本发明藉由非限制性示例且参照所附附图的表格而给出的一些优选实施例的以下描述期间变得明显，其中：
-图1和2分别以侧视图和轴测图示意性地表示本发明的根据第一优选实施例的立体光刻机；
-图3和4分别以侧视图和轴测图示意性地表示本发明的相对于图1和2的第一优选实施例的替换实施例的立体光刻机；
-图5表示能够使用本发明的立体光刻机、通过本发明的方法来制造的三维物体的示例；
-图6以根据在图5中表示的截面平面π的截面视图表示限定图5的三维物体的中心体的层的内部区域和表面区域。
本发明的立体光刻机(用1来在图1和2中整体指示)使得有可能通过提供堆积多个层S的立体光刻工艺来生产三维对象O，该多个层S是通过将流体物质R选择性曝光于适配成用于固化该流体物质R的至少一个预定辐射RL来获得的。
优选地，前述流体物质R是光敏液体树脂并且预定辐射RL是在可见光场或紫外光场中调谐的光辐射。
明显地，在本发明的各变型实施例中，假设流体物质R被适配成在曝光于预定辐射RL时进行固化，该流体物质R就可以是任何种类的液体或浆体。
立体光刻机1还包括：用于前述流体物质R的容器2、以及根据垂直移动轴线Z机动化的用于支撑成形中的物体O的造型板6。
立体光刻机1包括：用于发射前述预定辐射RL的至少一个源3(如将在下文指定的)、以及适配成用于将辐射RL朝向参考表面SR(其对应于与流体物质R的正被固化的层S的这种光学组4的最接近的表面)的任何部分中的一者或多者进行引导的光学组4。
优选地，前述参考表面SR是平坦的并且布置在容器2的底部2a附近，如在图1中可以观察到的。
在该情形中，光学组4被配置成将预定辐射RL从底部朝向顶部引导，以使得该预定辐射RL入射在底部2a上。
此外，底部2a对辐射RL而言是透明的，以使得辐射RL可以自己命中接近于底部布置的流体物质R以使该流体物质R固化。
根据该实施例，三维物体O是在造型板6下方制造的，如图1中可见。
另一方面，本发明的变型实施例(未表示)预见到光学组被配置成在容器2中存在的流体物质R的自由表面上将辐射RL从顶部朝向底部引导。
在该情形中，物体是在造型板6上方制造的。
在前述两个变型实施例中，立体光刻机1包括控制逻辑单元5，其被配置成控制光学组4和/或源3，以便在参考表面SR的一个或多个预定部分处将流体物质R选择性地曝光于辐射RL。
具体地，前述预定部分每次与对应于三维物体O的每个层S的体积部分有关。
根据本发明，光学组4包括第一子光学组41，其被配置成曝光于前述预定辐射RL，以便瞬时且整体地将三维物体O的待固化的第一预定部分的图像投射到参考表面SR上。
根据本发明的优选实施例，具体而言，该第一子光学组41设置有反射镜矩阵411，该反射镜矩阵411被配置成被独立地控制以便在该第一子光学组41曝光于前述辐射RL时确实将待固化的前述第一预定部分的图像瞬时且整体地投射在参考表面SR上。
具体而言，该第一子光学组41包括所谓的数字光处理或即DLP投影仪。
该第一子光学组41(具体地反射镜矩阵411)，如在现有技术的描述中已经陈述的，因此使得有可能同时照射参考表面SR的定义三维物体O的体积的每个第一部分的所有点，从而对于每个层S而言有可能通过单次曝光并且因此特别快速地来执行前述第一部分中的每一者的固化。
根据本发明的一些变型实施例(未在附图中表示)，取代反射镜矩阵411，第一子光学组41可以包括LCD、LCoS、或D-ILA系统，假设还根据这些变型实施例，在任何情形中，第一子光学组41都被配置成曝光于辐射RL，并且假设在任何情形中，第一子光学组41能够反射前述辐射RL以便瞬时且整体地将三维物体O的待固化的第一预定部分的图像投射到参考表面SR上。
此外，本发明的另一变型实施例(未在附图中表示)可以预见到前述第一子光学组41包括在术语中被称为“直接掩模”的系统，其包括在源3与参考表面SR之间放置透明膜，该透明膜在不希望让由相同的源3生成的辐射RL穿过的部分处进行适当地遮蔽。因此，以这种方式，限定了允许辐射RL穿过的掩模，并且因此允许该辐射RL仅在参考表面SR的希望被固化的部分处瞬时且整体地被投射。
此外，再次根据本发明，光学组4还包括第二子光学组42，其被配置成朝向参考表面SR的一点选择性地运送预定辐射并且被配置成移动该点以便逐渐曝光参考表面SR的与前述三维物体O的体积的第二部分相对应的第二部分。
在该情形中，由前述第二子光学组42生成的指向性辐射以及沿前述参考表面SR移动该指向性辐射的可能性使得有可能遵循连续的轨迹，从而获得非常确切且免于不规则性的物体。
根据本发明的优选实施例，第二子光学组42包括彼此串联布置的一对反射镜421，以便将辐射RL朝向参考表面SR的一点运送并且移动该点以便逐渐曝光相同的参考表面SR的第二部分。更为详细地，优选地但不一定这样的，一对反射镜421属于检流计头。
然而，这并不排除以下可能性：根据本发明在附图中未表示的替换实施例，前述一对反射镜421中的每个反射镜是属于相对微光电机械系统(MOEMS)的微镜，该MOEMS设置有支撑结构和接合装置，这两者都与该微镜相关联以限定相同微镜的旋转轴。
换言之，第二子光学组42包括两个微光电机械系统(MOEMS)，该MOEMS中的每一者不但提供微镜、支撑结构和接合装置，还包括适配成使相对微镜围绕该轴移动的致动器装置。
然而，这并不排除以下可能性：根据本发明的进一步变型实施例，该第二子光学组42可以包括与上述那些结构不同的结构，只要该第二子光学组42被配置成将预定辐射RL朝向参考表面SR的一点选择性地运送，并且移动该点以逐渐曝光相同参考表面SR的第二部分。
就根据本发明的控制逻辑单元5而言，其被配置成彼此独立地控制第一子光学组41和第二子光学组42。
这意味着控制逻辑单元5能够针对三维物体O的待固化的每个层S选择是否将第一子光学组41用于将参考表面SR的至少一个第一部分曝光于前述辐射RL，以及是否将第二子光学组42用于将该参考表面SR的至少一个第二部分曝光于相同辐射RL。
在单个层S处的这种第一部分和第二部分可以属于相同的三维物体O，或者还可以形成在造型板6下方的相同参考表面SR上同时实现的两个不同的三维物体O的层。
在该情形中，可以同时执行通过以上提及的两个子光学组41和42的曝光。
替换地，针对每个单个S层，控制逻辑单元5能够选择是排他性地使用第一子光学组41或者另外排他性地使用第二子光学组42来固化参考表面SR的限定前述三维物体O的体积的所有部分。应当指定，控制逻辑单元5被配置成使得该选择在各层彼此独立。在下文中，将根据本发明描述一些标准，以用于针对每个层S区分参考表面SR的待通过第一子光学组41被固化的第一部分以及相同参考表面SR的待通过第二子光学组42被固化的第二部分。
然而，现在很明显，计及以上提及的特定技术优点，这能够用两个子光学组41和42中的任一者获得，本发明的区分逻辑提供了在需要曝光于前述辐射RL并且固化参考表面SR的具有巨大尺寸且不要求其边缘具有高清晰度的一部分时选择使用第一子光学组41，而该逻辑提供了在需要曝光并且固化参考表面SR的不是非常巨大但要求其边缘具有高清晰度的一部分时选择使用第二子光学组42。
就预定辐射RL，以及因此该预定辐射RL的源3而言，本发明的立体光刻机1的优选实施例包括：存在指向第一子光学组41的第一预定辐射RL1的第一源31和存在指向第二子光学组42的第二预定辐射RL2的第二源32。
具体地，就第一源31而言，其被配置成生成具有大尺寸的第一辐射RL1(优选地相对于由前述反射镜矩阵411限定的区域具有较大的尺寸)，以便能够照射前述反射镜中的大量(若不是全部)反射镜。因此，这使得有可能将命中反射镜矩阵411的第一辐射RL1朝向参考表面SR反射，从而有可能利用由相同的反射镜矩阵411限定的整个区域。
另一方面，就第二源32而言，其优选地但不一定是生成指向性光束的激光源321，该指向性光束进而被引导以便按顺序命中属于第二子光学组42的前述一对反射镜421。
优选地但不是必须地，选择和管理激光源321以使得在前述参考表面SR的入射点处，所生成的激光束的光斑尺寸在1mm与1,5mm之间。
根据本发明的该优选实施例，控制逻辑单元5被配置成控制第一子光学组41和/或相对第一辐射源31，以将参考表面SR的至少一个预定第一部分曝光于第一辐射RL1，以及同时或替换地，针对每个层S，控制第二子光学组42和/或第二源32，以便将参考表面SR的至少一个第二部分曝光于第二辐射RL2。
如先前所提及的，在该情形中，控制单元5可以被配置成将属于第一三维物体O的第一预定部分曝光于第一光辐射RL1，并且同时将限定在相同的层S上且属于不同于第一物体O的第二三维物体O的第二预定部分曝光于前述第二光辐射RL2。
然而，根据本发明在图3和4中所表示的替换实施例，不排除立体光刻机1提供预定辐射RL的单个源3，该预定辐射RL被配置成显然交替地照射第一子光学组41和第二子光学组42。
在前述两个图3和4中，源3在这两种替换情况中被形象化地布置。
根据该替换实施例，因此，控制逻辑单元5被配置成控制源3以便将预定辐射RL朝向第一子光学组41和朝向第二子光学组42交替地引导。
然而，在本发明的这一最后替换实施例中，控制逻辑单元5还被配置成改变由前述源3发射的辐射RL的大小，因为明显地在使用第一光学子系统41的情形中照射属于前述反射镜矩阵411的大量反射镜是必要的，而在使用第二子光学组42的情形中，光束光斑必须明显属于指向性类型(从1mm到1.5mm)。
具体而言，本发明的该替换实施例预见到前述单个源3，优选地但不一定是可以基于其必须照射两个子光学组41和42中的哪个子光学组来改变其发射光束尺寸的激光源。
本发明的另一方面涉及一种通过藉由本发明的立体光刻机1执行的立体光刻工艺来制造三维物体O的方法，该立体光刻机1具有之前描述的特征(包括变型实施例)。
在当前上下文中，术语三维对象O旨在指示元件全部，其包括：三维对象O的实际主体CP(即实际希望被生产的元件)、执行立体光刻工艺所需要的支撑基底BS、以及适配成用于将支撑基底BS连接到相同主体CP的多个支撑元件ES。
根据当前上下文，为了更好地理解构成三维对象O的元件是什么，图5示出了其中主体CP由通过前述多个支撑元件ES(具体而言包括多个支撑柱)连接到支撑基底BS的球来表示的示例。
回到通过立体光刻工艺和本发明的立体光刻机1来制造三维物体O的方法，如已知的，其必须提供在容器2内铺放流体物质R的层S，以便限定参考表面SR以及将前述参考表面SR的至少一部分曝光于预定辐射RL。
明显地，前述参考表面SR的待曝光于预定辐射RL的部分表示待制造的三维物体O的特定层S中的体积部分。
因此，该方法提供对限定三维物体O的所有连贯层S重复进行这样的铺放和这样的曝光。
根据本发明，该方法提供了针对每个层S，通过使用(优选地排他性地使用)属于立体光刻机1的第一子光学组41，将参考表面SR与三维物体O的支撑基底BS有关的部分曝光于前述辐射RL。
确实，有利地，由于限定支撑基底BS的各个层S的各个部分具有大尺寸并且同时不要求高清晰度，所以使用第一子光学组41使得有可能相对于第二子光学组42的潜在使用而大幅度地减少制造前述支撑基底BS的时间。
优选地但不是必须地，本发明的方法提供了针对每个层S，还将参考表面SR与相同三维物体O的支撑元件ES有关的部分通过所述第一子光学组41来曝光于辐射RL。
然而，在该情形中，相对于使用第二子光学组42而言使用第一子光学组41来执行立体光刻工艺以制造支撑元件ES的较快速度的优点不像在支撑基底BS的情形中那么明显，因为每个单个部分的尺寸相对于支撑元件ES而言不是非常大。
在相同支撑元件ES的数目较高的时刻，使用第一子光学组41而不是第二子光学组42来制造支撑元件ES所获得的优点是明显的。确实，针对考虑支撑元件ES的每个单层S，使用第一子光学组41有可能同时固化相对于相同支撑元件ES的多个部分，而在使用第二子光学组42的情形中，固化前述部分中的每一者必须在时间上不同的时刻处发生。
明显地，由于支撑元件ES以及支撑基底BS，在立体光刻工艺结束时与主体CP分离，已经完成了它们的功能，同样在该情形中，它们已经以其被制造的清晰度水平不是至关重要的。
然而，这并不排除以下可能性：根据本发明的方法的不同实施例，可以使用第二子光学组42来制造支撑元件ES。
此外，根据本发明方法的优选实施例，可以预见到对于参考表面SR相对于三维物体O的主体CP的待固化的部分中的每一者，将前述部分的表面区域ZS与前述部分的内部区域ZI进行区分，如在图6中示意性地表示的。
一旦已经作出该区分，则该方法提供：通过使用所述第一子光学组41来进行前述内部区域ZI的曝光以及通过使用所述第二的子光学组42来进行表面区域ZS的曝光。
该规程符合较早描述的一般性逻辑。确实，由于主体CP的每个部分的内部区域ZI可以具有大尺寸，但是在内部不要求高清晰度，所以使用第一子光学组41来固化它们是有利的，而对于表面或边缘区域ZS而言，至少在宽度上具有基本上有限的延伸但要求高清晰度，因为它们确实表示希望被生产的实际物体O的可见表面，所以较适合于使用第二子光学组42。
同样在该情形中，不存在排除以下可能性的事物：根据本发明方法的变型实施例，每个层S的参考表面SR与主体CP有关的各部分可以通过排他性地使用第一子光学组41或通过排他性地使用第二子光学组42来制造。
此外，不存在排除以下可能性的事物：根据本发明方法的变型实施例，对与主体CP有关的前述部分的表面区域ZS和内部区域ZI进行区分以及随后使用第一子光学组41或第二子光学组42来分别使得第一者和第二者可以独立于用于制造与支撑基底BS和/或与支撑元件ES有关的每个层S的参考表面SR的各部分的方法被预见。
此外，如较早所陈述的，在本发明的立体光刻机1包括两个不同的辐射源31和32(分别与第一子光学组41和与第二子光学组42相关联)并且其旨在同时在相同参考表面SR上制造两个不同的三维物体O的情形中，本发明的方法可以提供：排他性地激活第一子光学组41以用于曝光前述参考表面SR的属于第一三维物体O的第一部分，并且同时排他性地激活第二子光学组42以用于曝光前述参考表面SR的属于第二三维物体O的第二部分。该办法有利地使得可以加速用于通过本发明的立体光刻机1来制造三维物体的过程。
此外，在旨在使用设置有反射镜矩阵411的第一子光学组41以用于针对一系列连贯层S选择性固化三维物体O的一部分的情形中，本发明的方法可以提供：不在所有前述连贯层S处激活该第一子光学组41，但是针对此类层S中的一些层不排他性地激活该第一子光学组41，从而仍然获得该物体的前述部分的固化。
通过利用电磁辐射的“聚合深度”确实有利地实现了这样的结果，该电磁辐射的“聚合深度”确实使得有可能不仅可以获得单个层的固化以使得已经激活了第一子光学组41，但是还可以用于各紧邻的层。明显地，第一子光学组41未被激活以用于所有前述连贯层S的事实决定了经固化部分的质量的降低。然而，在旨在用该技术来限定支撑基座BS和/或支撑元件ES的情形中，由于上面已经陈述的内容，这种质量的降低对最终结果没有影响，另一方面，允许通过本发明的立体光刻机1的生产工艺被进一步加速。
因此，基于已经陈述的内容，本发明的立体光刻机1和用于制造本发明的三维物体的方法达成了所有预定目的。
具体而言，达成了制造使得有可能获得具有高清晰度的物体的立体光刻机并且同时使得有可能执行该立体光刻工艺以快速制造这样的物体的目的。
此外，实现了制造一种通用立体光刻机的目的，即该通用立体光刻机能够基于待制造的三维物体的特性来适配其立体光刻工艺的致动模式，以便在执行速度与所生产的物体的质量之间获得最优折衷。

Claims (11)

1.一种用于制造三维物体(O)的立体光刻机(1)，其属于包括以下各项的类型：
-用于流体物质(R)的容器(2)，所述流体物质(R)适配成用于通过曝光于至少一个预定辐射(RL，RL1，RL2)而在各层(S)中被固化；
-所述至少一个预定辐射(RL，RL1，RL2)的至少一个源(3，31，32)；
-光学组(4)，其被配置成将所述至少一个辐射(RL，RL1，RL2)朝向布置在所述容器(2)内的所述流体物质(R)的参考表面(SR)引导；
-控制逻辑单元(5)，其被配置成控制所述光学组(4)和/或所述至少一个辐射源(3，31，32)，以便将所述参考表面(SR)的至少一部分曝光于所述辐射(RL，RL1，RL2)；
其特征在于：
-所述光学组(4)包括：
-第一子光学组(41)，其被配置成待曝光于所述至少一个辐射(RL，RL1，RL2)，以便将与所述三维物体(O)的体积的一部分相对应的待固化的第一部分的图像瞬时投射到所述参考表面(SR)上；
-第二子光学组(42)，其被配置成朝向所述参考表面(SR)的一点选择性地运送所述至少一个辐射(RL，RL1，RL2)并移动所述点以便逐渐曝光所述参考表面(SR)的与所述三维物体(O)的体积的一部分相对应的待固化的第二部分；
-所述控制逻辑单元(5)被配置成彼此独立地控制所述第一子光学组(41)和所述第二子光学组(42)。
2.如权利要求1所述的立体光刻机(1)，其特征在于，所述第二子光学组(42)包括彼此串联布置的一对反射镜(421)，以便将所述至少一个辐射(RL，RL1，RL2)朝向所述参考表面(SR)的一点运送并且移动所述点以便逐渐曝光所述参考表面(SR)的所述第二部分。
3.如权利要求2所述的立体光刻机(1)，其特征在于，所述一对反射镜(421)属于检流计头。
4.如权利要求2所述的立体光刻机(1)，其特征在于，所述一对反射镜(421)中的每个反射镜是通过接合装置与支撑结构相关联的微镜，所述接合装置被配置成限定所述微镜的旋转轴，所述微镜和所述支撑结构属于微光电机械系统(MOEMS)，所述两个微光电机械系统(MOEMS)中的每一者还包括适配成使所述微镜围绕所述轴(X1，X2)移动的致动器装置。
5.如前述权利要求中的任一项所述的立体光刻机(1)，其特征在于，所述第一子光学组(41)设置有反射镜矩阵(411)，所述反射镜矩阵(411)被配置成被独立地控制以便将待固化的所述第一部分的所述图像瞬时投影到所述参考表面(SR)上。
6.如前述权利要求中的任一项所述的立体光刻机(1)，其特征在于，
-所述至少一个预定辐射(RL，RL1，RL2)的所述至少一个源(3，31，32)是所述辐射(RL)的单个源(31)；
-所述控制逻辑单元(5)被配置成控制所述源(3)，以便将所述辐射(RL)朝向所述第一子光学组(41)或朝向所述第二子光学组(42)交替地引导。
7.如权利要求1-5中的任一项所述的立体光刻机(1)，其特征在于，所述立体光刻机(1)包括指向所述第一子光学组(41)的第一预定辐射(RL1)的第一源(31)和指向所述第二子光学组(42)的第二预定辐射(RL2)的第二源(32)，所述控制单元(5)被配置成控制所述第一子光学组(41)和/或所述第一源(31)以便将所述参考表面(SR)的所述第一部分曝光于所述第一辐射(RL1)并且同时或交替地控制所述第二子光学组(42)和/或所述第二源(32)以便将所述参考表面(SR)的所述第二部分曝光于所述第二辐射(RL2)。
8.一种用于通过根据前述权利要求中的任一项所述类型的立体光刻机(1)通过立体光刻工艺来制造三维物体(O)的方法，所述三维物体(O)包括主体(CP)、支撑基座(BS)、以及限定在所述支撑基座(BS)与所述主体(CP)之间的支撑元件(ES)，所述方法包括以下步骤：
-在所述容器(2)中铺放所述流体物质(R)的层(S)以限定参考表面(SR)；
-将所述参考表面(SR)的至少一部分曝光于所述至少一个辐射(RL，RL1，RL2)；
-针对所述三维物体(O)的每个后续层(S)重复所述铺放和所述曝光；
其特征在于，针对每层(S)，所述方法提供通过所述第一子光学组(41)来将所述参考表面(SR)的至少与所述三维物体(O)的所述支撑基底(BS)有关的待固化部分曝光于所述辐射(RL，RL1)。
9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法提供通过所述第一子光学组(41)来将所述参考表面(SR)的还与所述三维物体(O)的所述支撑元件(ES)有关的待固化部分曝光于所述辐射(RL，RL1)。
10.如权利要求8或9中的任一项所述的方法，其特征在于，针对所述参考表面(SR)的与所述三维物体(O)的所述主体(CP)有关的待固化部分中的每一者，所述方法提供：
-将所述主体(CP)的所述部分中的每一者的表面区域(ZS)与内部区域(ZI)进行区分；
-通过使用所述第一子光学组(41)来进行所述主体(CP)的所述部分的所述内部区域(ZI)的曝光；
-通过使用所述第二子光学组(42)来进行所述主体(CP)的所述部分的所述表面区域(ZS)的曝光。
11.一种用于通过根据权利要求7所述类型的立体光刻机(1)通过立体光刻工艺来在相同参考表面(SR)上同时制造至少两个三维物体(O)的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
-在所述容器(2)中铺放所述流体物质(R)的层(S)以限定参考表面(SR)；
-标识所述参考表面(SR)的属于所述至少两个三维物体(O)中的第一者的至少一个第一部分，并且标识所述参考表面(SR)的属于所述至少两个三维物体(O)中的第二者的至少一个第二部分；
-通过所述第一子光学组(41)来将所述参考表面(SR)的至少所述第一部分曝光于所述至少一个第一辐射(RL1)，并且同时通过所述第二子光学组(41)来将所述参考表面(SR)的至少所述第二部分曝光于所述至少一个第二辐射(RL2)；
-针对所述至少两个三维物体(O)的每个后续层(S)重复所述铺放和所述曝光。
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