CN110257687A - 一种含有稀土元素的合金靶材及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种含有稀土元素的合金靶材，其成分包括铝30‑80at％，钛1‑30％，铬1‑30％，硅1‑20at％，稀土0.1‑10at％。本发明提供的含有稀土元素的合金靶材的制备方法是先将铬粉、铝粉、钛粉、硅粉及稀土粉末混合均匀，进行冷等静压预压制成型，然后装套、脱气、热等静压烧结，最后将所得锭坯机加工，得到所需的合金靶材。本发明提供的含有稀土元素的合金靶材，具有致密度高，无气孔、无疏松及偏析，晶粒细小、组织均匀，适用于各种工模具所需的硬质涂层溅射使用。

Description

一种含有稀土元素的合金靶材及其制备方法
技术领域
本发明涉及合金靶材技术领域，特别涉及一种含有稀土元素的合金靶材及其制备方法。
背景技术
硬质涂层技术是材料表面改性的一个重要手段，涂层技术可以在不改变基体材料的成分，不削弱基体材料的力学性能基础上，采用某些物理或化学手段在基体表面涂覆一层具有特定要求性能的薄膜，从而可以大幅度提高材料的耐热、耐蚀、抗氧化、耐磨损等性能，同时基体仍然保持其原来的良好机械性能。
80年代，氮化钛几乎是唯一的商业化的硬质材料，尽管TiN薄膜具有较高的硬度和耐磨性等优点，但是随着应用的深入，其某些性能表现出不足之处，如膜和基体的结合力差、使用温度不能超过500℃等。90年代以来，TiAlN和CrAlN硬质薄膜的报道逐渐增多，这些硬质膜的硬度、耐磨性、耐腐蚀性和高温抗氧化性能比TiN有了不同程度的改善，从而很快得到了应用，迅速占据了大半个PVD硬质膜镀层市场。膜层的使用温度也提高到了800℃，硬度也得到了提高。21世纪初，又出现了AlTiSiN，AlCrSiN等多元硬质涂层，刀具使用温度提高到了1000℃。
随着数控机床和机械加工的飞速发展，切削速度越来越快，加工精度要求逐渐提高，这就要求涂层工模具和刀具表面要具有更高的抗磨损能力和耐热性能。膜/基结合强度和高温抗氧化性是影响涂层工模具和刀具表面耐磨性和耐热性的关键因素，要进一步提高涂层工模具和刀具的使用效果和使用寿命，必须提高涂层工模具和刀具的高温稳定性和高温抗磨损性能。
电弧离子镀沉积多元系薄膜过程中，添加适量的稀土元素，可以提高薄膜的致密性，改善其耐磨性。稀土元素表面活性较强，与氧元素亲和力较大，在薄膜表面或界面处优先形成结构致密的氧化物阻碍氧元素向内扩散，可以降低整个薄膜的氧化速度，同时，稀土元素固溶在Al2O3中，可以提高氧化膜的粘附性，有利于降低氧化膜的生长应力，从而增强氧化膜的抗剥落性，提高膜层的高温抗氧化性能。
目前生产含有稀土元素的合金靶材的方法主要有真空熔炼浇铸和热压等工艺方法。采用真空熔炼浇铸方法制造含有稀土元素的合金靶材时，浇铸过程中容易产生缩孔、疏松和宏观偏析，同时合金中成分与组织的均匀性难以保证。而采用热压法制造含有稀土元素的合金靶材时，靶材生产难以实现大尺寸化，同时热压靶材内部密度分布不均匀，中部与边缘密度差别达5％，难以获得高质量高密度的靶材。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种致密性好，无气孔、无疏松和偏析，成分均匀，晶粒细小，规格尺寸大的含稀土元素的合金靶材及其制备方法。
为解决上述技术问题，本发明提供了一种含有稀土元素的合金靶材，以原子百分比计，包括铝30-80at％，钛1-30％，铬1-30％，硅1-20at％，及稀土0.1-10at％。
进一步地，所述稀土为稀土金属和/或稀土金属氧化物。
进一步地，所述稀土金属为La、Ce、Y和Sc中的一种或几种，所述稀土金属氧化物为La2O3、Ce2O3、Y2O3或Sc2O3。
本发明还提供了一种含有稀土元素的合金靶材的制备方法，包括如下步骤：
以原子百分比计，将30-80at％的铝粉，1-30％的钛粉，130％的铬粉，1-20at％的硅粉，及0.1-10at％的稀土粉末混合；
将混合后的粉末在冷等静压模具中冷等静压预压制得冷等静压压坯；
将冷等静压压坯放入纯铝包套中，置于脱气炉中脱气处理；
将脱气处理的包套封焊后放入热等静压设备中压制烧结得锭坯；
对锭坯机加工与清洗得到所需要的成品靶材。
进一步地，所述铝粉、钛粉、铬粉、硅粉、及稀土粉末的纯度在99.5％以上，所述铝粉的粒径在60-70um、钛粉的粒径在45-106u m、铬粉的粒径在45-106um、硅粉的粒径在45-75um、稀土粉末的粒径在35-45um。
进一步地，所述铝粉、钛粉、铬粉、硅粉及稀土粉末的混合是在真空或氩气保护条件下在V型混料机或三维混料机中混合3-5h。
进一步地，所述稀土为稀土金属和/或稀土金属氧化物，所述稀土金属为La、Ce、Y和Sc中的一种或几种，所述稀土金属氧化物为La2O3、Ce2O3、Y2O3或Sc2O3。
进一步地，所述混合后的粉末冷等静压预压制是在20-100MPa压力下进行，保压时间10-30min。
进一步地，所述脱气处理的脱气温度为300-500℃，脱气时间为4h-10h。
进一步地，所述包套在热等静压设备中压制烧结的保温温度为350-600℃，时间2-5h，压力120-150MPa。
本发明提供的一种含稀土元素的合金靶材及其制备方法，先将铬粉、铝粉、钛粉、硅粉及稀土粉末混合均匀，进行冷等静压预压制成型，然后装套、脱气、热等静压烧结，最后将所制得的锭坯机加工，得到所需的合金靶材，制得的合金靶材具有致密度高、无气孔和偏析，组织均匀，晶粒细小，规格尺寸多等优点，其相对密度可大于99％，平均孔隙率低于1％，且成分均匀，靶材平均晶粒尺寸小于100um，单片最大长度达1800mm，具有优异的使用性能，有着广阔的应用前景。并且本发明提供的含稀土元素的合金靶材的制备方法，生产流程相对简单，生产工艺比较稳定，非常适合大规模的工业生产与应用。
附图说明
图1为本发明实施例提供的含稀土元素的合金靶材制备方法的流程图。
具体实施方式
本发明实施例提供的一种含有稀土元素的合金靶材，以原子百分比计，包括铝30-80at％，钛1-30％，铬1-30％，硅1-20at％，及稀土0.1-10at％。
其中，所述稀土为稀土金属和/或稀土金属氧化物。
其中，所述稀土金属为La、Ce、Y和Sc中的一种或几种，所述稀土金属氧化物为La2O3、Ce2O3、Y2O3或Sc2O3。
参见图1，本发明提供的一种含有稀土元素的合金靶材的制备方法，包括如下步骤：
S100：以原子百分比计，将30-80at％的铝粉，1-30％的钛粉，1-30％的铬粉，1-20at％的硅粉，及0.1-10at％的稀土粉末混合；
S200：将混合后的粉末在冷等静压模具中冷等静压预压制得冷等静压压坯；
S300：将冷等静压压坯放入纯铝包套中，置于脱气炉中脱气处理；
S400：将脱气处理的包套封焊后放入热等静压设备中压制烧结得锭坯；
S500：对锭坯机加工与清洗得到所需要的成品靶材。
其中，所述铝粉、钛粉、铬粉、硅粉、及稀土粉末的纯度在99.5％以上，所述铝粉的粒径在60-70um、钛粉的粒径在45-106u m、铬粉的粒径在45-106um、硅粉的粒径在45-75um、稀土粉末的粒径在35-45um。
其中，所述铝粉、钛粉、铬粉、硅粉及稀土粉末的混合是在真空或氩气保护条件下在V型混料机或三维混料机中混合3-5h。
其中，所述稀土为稀土金属和/或稀土金属氧化物，所述稀土金属为La、Ce、Y和Sc中的一种或几种，所述稀土金属氧化物为La2O3、Ce2O3、Y2O3或Sc2O3。
其中，所述混合后的粉末冷等静压预压制是在20-100MPa压力下进行，保压时间10-30min。
其中，所述脱气处理的脱气温度为300-500℃，脱气时间为4h-10h。
其中，所述包套在热等静压设备中压制烧结的保温温度为350-600℃，时间2-5h，压力120-150MPa。
下面通过具体实例对本发明提供的一种含有稀土元素的合金靶材的制备方法做具体说明。
实例一
本发明的铝铬钛硅钇合金靶材由以下原子百分比的原料制成：铝75％，钛10％，铬9％，硅5.5％，氧化钇0.5％；本实例合金靶材的制备方法，包括以下步骤：
(1)称取纯度为99.5％，平均粒径在75μm的铬粉和钛粉、平均粒径在63um铝粉、平均粒径45um的硅粉，平均粒径在40um的氧化钇粉，在三维混料机中混合3小时，混合过程中充入高纯氩气进行保护；
(2)将混合好的粉末装入冷等静压成型模具中进行冷等静压预压制成型，冷等静压压制的压力100MPa，保压10分钟；
(3)将预压制成型的压坯经过整形后，装入纯铝包套中，将包套放置在脱气炉中进行脱气处理，脱气处理的加热温度350℃，真空度2x10-2pa，保温时间8h；
(4)将脱气完毕的包套封焊后放入热等静压设备中进行压制烧结，保温温度为350℃，时间3h，压力127MPa；最终得到含有稀土元素的合金锭坯。
(5)最后对锭坯进行机加工与清洗，可以得到所需要的各种成品靶材。
通过检测，本实例得到的靶材的相对密度可达到99％，平均晶粒尺寸为75μm。
实例二
本发明的铝铬钛硅铈合金靶材由以下原子百分比的原料制成：铝65％钛15％，铬10％，硅5％，铈5％；本实例合金靶材的制备方法，包括以下步骤：
(1)称取纯度为99.5％，平均粒径在80μm的铬粉和钛粉、平均粒径在65um铝粉、平均粒径45um的硅粉、平均粒径在45um的铈粉，在三维混料机中混合3小时，混合过程中充入高纯氩气进行保护；
(2)将混合好的粉末装入冷等静压成型模具中进行冷等静压预压制成型，冷等静压预压制的压力80MPa，保压10分钟；
(3)将冷等静压预压制成型的压坯经过整形后，装入纯铝包套中，将包套放置在脱气炉中进行脱气处理，脱气处理时的加热温度400℃，真空度2x10-2pa，保温时间4h；
(4)将脱气完毕的包套封焊后放入热等静压设备中进行压制烧结，保温温度为400℃，时间3h，压力135MPa；最终得到含有稀土元素的合金锭坯。
(5)最后对锭坯进行机加工与清洗，可以得到所需要的各种成品靶材。
通过检测，本实例得到的靶材的相对密度可达到99.2％，平均晶粒尺寸为90μm。
实例三：
本发明的铝铬钛硅钇合金靶材由以下原子百分比的原料制成：铝56％，钛15％，铬15％，硅8％，钇6％；本实例合金靶材的制备方法，包括以下步骤：
(1)称取纯度为99.5％，平均粒径在75μm的铬粉和钛粉、平均粒径在70um铝粉、平均粒径45um的硅粉、平均粒径在45um的钇粉，在三维混料机中混合6小时，混合过程中充入高纯氩气进行保护；
(2)将混合好的粉末装入冷等静压成型模具中进行冷等静压预压制成型，冷等静压预压制的压力80MPa，保压10分钟；
(3)将冷等静压预压制成型的压坯经过整形后，装入纯铝包套中，将包套放置在脱气炉中脱气处理，脱气处理的加热温度450℃，真空度2x10-2pa，保温时间10h；
(4)将脱气完毕的包套封焊后放入热等静压设备中进行压制烧结，保温温度为550℃，时间3h，压力140MPa；最终得到含有稀土元素的合金锭坯。
(5)最后对锭坯进行机加工与清洗，可以得到所需要的各种成品靶材。
通过检测，本实例得到的靶材的相对密度可达到99.5％，平均晶粒尺寸为100μm。
实例四
本发明的铝铬钛硅镧合金靶材由以下原子百分比的原料制成：铝80％，钛5％，铬5％，硅5％，镧5％；本实例合金靶材的制备方法，包括以下步骤：
(1)称取纯度为99.8％，平均粒径在45μm的铬粉和钛粉、平均粒径在60um铝粉、平均粒径45um的硅粉、平均粒径在35um的镧粉，在三维混料机中混合3小时，混合过程中充入高纯氩气进行保护；
(2)将混合好的粉末装入冷等静压成型模具中进行冷等静压预压制成型，冷等静压预压制的压力20MPa，保压30分钟；
(3)将冷等静压预压制成型的压坯经过整形后，装入纯铝包套中，将包套放置在脱气炉中进行脱气处理，脱气处理时的加热温度300℃，真空度2x10-2pa，保温时间10h；
(4)将脱气完毕的包套封焊后放入热等静压设备中进行压制烧结，保温温度为350℃，时间5h，压力150MPa；最终得到含有稀土元素的合金锭坯。
(5)最后对锭坯进行机加工与清洗，可以得到所需要的各种成品靶材。
通过检测，本实例得到的靶材的相对密度可达到99.2％，平均晶粒尺寸为95μm。
实例五
本发明的铝铬钛硅钪合金靶材由以下原子百分比的原料制成：铝30％，钛30％，铬30％，硅5％，钪5％；本实例合金靶材的制备方法，包括以下步骤：
(1)称取纯度为99.6％，平均粒径在106μm的铬粉和钛粉、平均粒径在70um铝粉、平均粒径75um的硅粉、平均粒径在45um的钪粉，在三维混料机中混合5小时，混合过程中在真空条件下进行保护；
(2)将混合好的粉末装入冷等静压成型模具中进行冷等静压预压制成型，冷等静压预压制的压力100MPa，保压10分钟；
(3)将冷等静压预压制成型的压坯经过整形后，装入纯铝包套中，将包套放置在脱气炉中进行脱气处理，脱气处理时的加热温度500℃，真空度2x10-2pa，保温时间4h；
(4)将脱气完毕的包套封焊后放入热等静压设备中进行压制烧结，保温温度为600℃，时间2h，压力120MPa；最终得到含有稀土元素的合金锭坯。
(5)最后对锭坯进行机加工与清洗，可以得到所需要的各种成品靶材。
通过检测，本实例得到的靶材的相对密度可达到99.7％，平均晶粒尺寸为98μm。
实例六
本发明的铝铬钛硅铈合金靶材由以下原子百分比的原料制成：铝56％，钛15％，铬15％，硅8％，氧化铈6％；本实例合金靶材的制备方法，包括以下步骤：
(1)称取纯度为99.5％，平均粒径在75μm的铬粉和钛粉、平均粒径在70um铝粉、平均粒径45um的硅粉、平均粒径在45um的氧化铈粉，在三维混料机中混合6小时，混合过程中充入高纯氩气进行保护；
(2)将混合好的粉末装入冷等静压成型模具中进行冷等静压预压制成型，冷等静压预压制的压力80MPa，保压10分钟；
(3)将冷等静压预压制成型的压坯经过整形后，装入纯铝包套中，将包套放置在脱气炉中脱气处理，脱气处理的加热温度450℃，真空度2x10-2pa，保温时间10h；
(4)将脱气完毕的包套封焊后放入热等静压设备中进行压制烧结，保温温度为550℃，时间3h，压力140MPa；最终得到含有稀土元素的合金锭坯。
(5)最后对锭坯进行机加工与清洗，可以得到所需要的各种成品靶材。
通过检测，本实例得到的靶材的相对密度可达到99.5％，平均晶粒尺寸为100μm。
实例七
与实施例六不同的是，本发明实施例的铝铬钛硅铈钪合金靶材由以下原子百分比的原料制成：铝65％钛15％，铬10％，硅5％，铈3％，钪2％。
通过检测，本实例得到的靶材的相对密度可达到99.5％，平均晶粒尺寸为95μm。
实例八
与实施例六不同的是，本发明实施例的铝铬钛硅铈钪合金靶材由以下原子百分比的原料制成：铝65％钛15％，铬10％，硅5％，铈2％，氧化钪3％。
通过检测，本实例得到的靶材的相对密度可达到99.3％，平均晶粒尺寸为97μm。
实例九
与实施例六不同的是，本发明实施例的铝铬钛硅镧钇合金靶材由以下原子百分比的原料制成：铝75％，钛10％，铬9％，硅5％，镧0.5％，氧化钇0.5％；。
通过检测，本实例得到的靶材的相对密度可达到99.5％，平均晶粒尺寸为96μm。
实例十
与实施例六不同的是，本发明实施例的铝铬钛硅镧钇合金靶材由以下原子百分比的原料制成：铝65％，钛15％，铬10％，硅5％，镧2％，钇3％。
通过检测，本实例得到的靶材的相对密度可达到99.3％，平均晶粒尺寸为99μm。
本发明提供的一种含有稀土元素的合金靶材的制备方法，制得的含有稀土元素的合金靶材具有致密度高，无气孔、无疏松及偏析，晶粒细小、组织均匀等优点，且生产流程相对简单，能够适用于各种工模具所需的硬质涂层溅射使用。
最后所应说明的是，以上具体实施方式仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照实例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的精神和范围，其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。

Claims (10)

1.一种含有稀土元素的合金靶材，其特征在于：以原子百分比计，包括铝30-80at％，钛1-30％，铬1-30％，硅1-20at％，及稀土0.1-10at％。
2.根据权利要求1所述的含有稀土元素的合金靶材，其特征在于：所述稀土为稀土金属和/或稀土金属氧化物。
3.根据权利要求2所述的含有稀土元素的合金靶材，其特征在于：所述稀土金属为La、Ce、Y和Sc中的一种或几种，所述稀土金属氧化物为La2O3、Ce2O3、Y2O3或Sc2O3。
4.一种含有稀土元素的合金靶材的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
以原子百分比计，将30-80at％的铝粉，1-30％的钛粉，1-30％的铬粉，1-20at％的硅粉，及0.1-10at％的稀土粉末混合；
将混合后的粉末在冷等静压模具中冷等静压预压制得冷等静压压坯；
将冷等静压压坯放入纯铝包套中，置于脱气炉中脱气处理；
将脱气处理的包套封焊后放入热等静压设备中压制烧结得锭坯；
对锭坯机加工与清洗得到所需要的成品靶材。
5.根据权利要求4所述的含有稀土元素的合金靶材的制备方法，其特征在于：所述铝粉、钛粉、铬粉、硅粉、及稀土粉末的纯度在99.5％以上，所述铝粉的粒径在60-70um、钛粉的粒径在45-106um、铬粉的粒径在45-106um、硅粉的粒径在45-75um、稀土粉末的粒径在35-45um。
6.根据权利要求5所述的含有稀土元素的合金靶材的制备方法，其特征在于：所述铝粉、钛粉、铬粉、硅粉及稀土粉末的混合是在真空或氩气保护条件下在V型混料机或三维混料机中混合3-5h。
7.根据权利要求6所述的含有稀土元素的合金靶材的制备方法，其特征在于：所述稀土为稀土金属和/或稀土金属氧化物，所述稀土金属为La、Ce、Y和Sc中的一种或几种，所述稀土金属氧化物为La2O3、Ce2O3、Y2O3或Sc2O3。
8.根据权利要求4所述的含有稀土元素的合金靶材的制备方法，其特征在于：所述混合后的粉末冷等静压预压制是在20-100MPa压力下进行，保压时间10-30min。
9.根据权利要求4所述的含有稀土元素的合金靶材的制备方法，其特征在于：所述脱气处理的脱气温度为300-500℃，脱气时间为4h-10h。
10.根据权利要求4所述的含有稀土元素的合金靶材的制备方法，其特征在于：所述包套在热等静压设备中压制烧结的保温温度为350-600℃，时间2-5h，压力120-150MPa。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110714142A (zh) * 2019-11-06 2020-01-21 长沙迅洋新材料科技有限公司 一种Al-Sc-X多元合金靶材及其制备方法
CN111101105A (zh) * 2020-01-10 2020-05-05 东莞市欧莱溅射靶材有限公司 一种钛铝合金靶材的制备方法
CN111136265A (zh) * 2020-03-07 2020-05-12 北京安泰六九新材料科技有限公司 一种钛硅合金靶材及其制造方法
CN111438356A (zh) * 2020-04-13 2020-07-24 河北晟华新材料科技有限公司 一种用于物理气相沉积的钛铝靶材及其制备方法
CN111438355A (zh) * 2020-04-13 2020-07-24 河北晟华新材料科技有限公司 一种铬铝硅靶材及其制备方法
CN112410739A (zh) * 2020-11-17 2021-02-26 昆山全亚冠环保科技有限公司 一种钛铝合金靶材的制备方法
CN113667931A (zh) * 2021-08-19 2021-11-19 嘉兴鸷锐新材料科技有限公司 一种镧系稀土氧化物复合TiSiN涂层
CN114635063A (zh) * 2020-12-16 2022-06-17 航天长征睿特科技有限公司 无原始粉末颗粒边界的硬质涂层用铝基合金靶材制备方法
CN114959615A (zh) * 2022-06-22 2022-08-30 苏州六九新材料科技有限公司 一种TiAlCrSiY合金靶材及其制备方法
CN116904942A (zh) * 2023-08-01 2023-10-20 苏州六九新材料科技有限公司 一种铝基合金靶材及其制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000297365A (ja) * 1999-04-14 2000-10-24 Agency Of Ind Science & Technol ＡｌＴｉ系合金スパッタリングターゲット及び耐摩耗性ＡｌＴｉ系合金硬質皮膜並びに同皮膜の形成方法
EP1698714A2 (en) * 2000-12-28 2006-09-06 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Target used to form a hard film
JP2010095770A (ja) * 2008-10-17 2010-04-30 Hitachi Metals Ltd Ｔｉ−Ａｌ系合金ターゲット及びその製造方法
CN104451277A (zh) * 2014-12-30 2015-03-25 山东昊轩电子陶瓷材料有限公司 铬铝合金靶材及其制备方法
CN104480444A (zh) * 2014-12-30 2015-04-01 山东昊轩电子陶瓷材料有限公司 钛铝合金靶材及其制备方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000297365A (ja) * 1999-04-14 2000-10-24 Agency Of Ind Science & Technol ＡｌＴｉ系合金スパッタリングターゲット及び耐摩耗性ＡｌＴｉ系合金硬質皮膜並びに同皮膜の形成方法
EP1698714A2 (en) * 2000-12-28 2006-09-06 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Target used to form a hard film
JP2010095770A (ja) * 2008-10-17 2010-04-30 Hitachi Metals Ltd Ｔｉ−Ａｌ系合金ターゲット及びその製造方法
CN104451277A (zh) * 2014-12-30 2015-03-25 山东昊轩电子陶瓷材料有限公司 铬铝合金靶材及其制备方法
CN104480444A (zh) * 2014-12-30 2015-04-01 山东昊轩电子陶瓷材料有限公司 钛铝合金靶材及其制备方法

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110714142A (zh) * 2019-11-06 2020-01-21 长沙迅洋新材料科技有限公司 一种Al-Sc-X多元合金靶材及其制备方法
CN111101105A (zh) * 2020-01-10 2020-05-05 东莞市欧莱溅射靶材有限公司 一种钛铝合金靶材的制备方法
CN111101105B (zh) * 2020-01-10 2020-10-27 东莞市欧莱溅射靶材有限公司 一种钛铝合金靶材的制备方法
CN111136265A (zh) * 2020-03-07 2020-05-12 北京安泰六九新材料科技有限公司 一种钛硅合金靶材及其制造方法
CN111438356A (zh) * 2020-04-13 2020-07-24 河北晟华新材料科技有限公司 一种用于物理气相沉积的钛铝靶材及其制备方法
CN111438355A (zh) * 2020-04-13 2020-07-24 河北晟华新材料科技有限公司 一种铬铝硅靶材及其制备方法
CN111438356B (zh) * 2020-04-13 2022-02-22 河北晟华新材料科技有限公司 一种用于物理气相沉积的钛铝靶材及其制备方法
CN112410739A (zh) * 2020-11-17 2021-02-26 昆山全亚冠环保科技有限公司 一种钛铝合金靶材的制备方法
CN114635063A (zh) * 2020-12-16 2022-06-17 航天长征睿特科技有限公司 无原始粉末颗粒边界的硬质涂层用铝基合金靶材制备方法
CN113667931A (zh) * 2021-08-19 2021-11-19 嘉兴鸷锐新材料科技有限公司 一种镧系稀土氧化物复合TiSiN涂层
CN114959615A (zh) * 2022-06-22 2022-08-30 苏州六九新材料科技有限公司 一种TiAlCrSiY合金靶材及其制备方法
CN116904942A (zh) * 2023-08-01 2023-10-20 苏州六九新材料科技有限公司 一种铝基合金靶材及其制备方法

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