CN110240792A - 一种耐刮擦高性能光扩散pc材料及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种耐刮擦高性能光扩散PC材料，包括以下重量份的材料：PC 60～80重量份；乙烯‑三氟氯乙烯共聚物1～3重量份；填料1～4重量份；阻燃剂2～7重量份；光稳定剂1～3重量份；抗氧剂1～3重量份；亚油酸酸酰胺0.5～1重量份；氯烃‑50 1～3重量份。本发明的耐刮擦高性能光扩散PC材料，通过对其化学成分进行优化，在微观程度上改进PC塑料的内部结构，其具有优异的机械性能、耐刮擦性能、光扩散性能和阻燃性能。

Description

一种耐刮擦高性能光扩散PC材料及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种塑料，特别是涉及一种耐刮擦高性能光扩散PC材料及其制备方法。
背景技术
光线通过塑料基材的扩散层，遇到内含与其折射率相异的介质(扩散粒子)时，会发生多角度、多方向的折射、反射与散射的现象，从而使点光源达到光扩散效果，为照明灯具提供更加均匀、更加舒适的出光效果。目下市场上主流扩散板的材质有PMMA、PC、PET等。
光扩散PC材料在保证光扩散效果和透光率(85％)的前提下，相比市场上的PMMA，PC材质，具有更轻的密度0.90(PC密度1.2，PMMA密度1.19)，100％可循环，无毒性(PC是被广泛用于食品容器等产品的最安全的树脂材料)。另外，光扩散PC材料具有巨大的价格优势，韧性可达到PC的水平，透光率可达到PMMA的水平，综合了通用光扩散材料的优势，极具市场应用前景。但光扩散PC材料本身的阻燃性能欠佳，在防火方面就会存在较大的安全隐患；另外，PC材料由于其材质的特点，其容易在受到指甲等硬物触碰下表面容易刮花，严重影响外观导致影响光扩散效果，使得光扩散PC材料在使用中存在较多的限制。
发明内容
针对上述不足之处，本发明的目的在于开发一款耐刮擦高性能光扩散PC材料，其具有优异的耐刮擦性能、光扩散性能和阻燃性能。
本发明的技术方案概述如下：
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料，其中，包括以下重量份的材料：
优选的是，所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料，其中，所述填料包括60～70wt％二氧化硅和30～40wt％氮化铝。
优选的是，所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料，其中，所述阻燃剂包括30～50wt％三氯溴甲烷和50～70wt％三(三溴苯氧基)三嗪。
优选的是，所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料，其中，所述光稳定剂包括30～50wt％2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈和50～70wt％双(马来酸单丁酯)二丁基锡。
优选的是，所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料，其中，所述抗氧剂包括20～30wt％2-巯基苯并噻唑和70～80wt％亚磷酸三苯酯。
优选的是，所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料，其中，还包括0.5～1重量份的聚全氟丙醚。
优选的是，所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料，其中，还包括1～3重量份的异丙苯基苯基磷酸酯。
优选的是，所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料，其中，还包括3～6重量份的松香酸钙皂。
优选的是，所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料，其中，所述二氧化硅和氮化铝的粒径为70～90nm。
优选的是，所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料，其中，所述乙烯-三氟氯乙烯共聚物的数均分子量为5600～5800。
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料的制备方法，其中，所述制备方法包括下述步骤：
1)将PC、乙烯-三氟氯乙烯共聚物、亚油酸酸酰胺、氯烃-50、二氧化硅、氮化铝、三氯溴甲烷、三(三溴苯氧基)三嗪、2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈、双(马来酸单丁酯)二丁基锡、2-巯基苯并噻唑、亚磷酸三苯酯、聚全氟丙醚、异丙苯基苯基磷酸酯、松香酸钙皂搅拌混合得到第一混合物；2)将第一混合物自双螺杆挤出机主喂料口加入控制转速为800～1200r/min，温度为245～265℃，进行挤出造粒，得到所述PC。
本发明的有益效果是：
(1)本发明的耐刮擦高性能光扩散PC材料，通过对其化学成分进行优化，在微观程度上改进PC塑料的内部结构，其具有优异的机械性能、耐刮擦性能、光扩散性能和阻燃性能。
(2)本发明通过加入乙烯-三氟氯乙烯共聚物提高其耐紫外性能和耐刮性能；氯烃-50可提高其光稳定性能和流动性；通过加入二氧化硅和氮化铝改善PC的耐刮擦、耐热性能、光扩散性能；三氯溴甲烷和三(三溴苯氧基)三嗪协同作用，使得PC材料的阻燃性能达到最佳；2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈和双(马来酸单丁酯)二丁基锡协同作为光稳定剂，使得材料的抗老化抗紫外性能达到最佳；2-巯基苯并噻唑和亚磷酸三苯酯协同作为抗氧剂，其抗氧化性能达到最佳；通过加入聚全氟丙醚提高PC的耐刮擦性和抗老化性能；通过加入异丙苯基苯基磷酸酯提高填料与PC体系的相容性能；通过加入松香酸钙皂提高PC向高透明PC晶型结构的形成，从而提高透明度，增加扩散光效。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
本案提出一种耐刮擦高性能光扩散PC材料，其中，包括以下重量份的材料：
PC是几乎无色的玻璃态的无定形聚合物，有很好的光学性，PC高分子量树脂有很高的韧性，悬臂梁缺口冲击强度为600～900J/m，未填充牌号的热变形温度大约为130℃，玻璃纤维增强后可使这个数值增加10℃。PC的弯曲模量可达2400MPa以上，树脂可加工制成大的刚性制品，低于100℃时，在负载下的蠕变率很低。PC耐水解性差，不能用于重复经受高压蒸汽的制品，PC主要性能缺陷是耐刮痕性较差，长期暴露于紫外线中会发黄；通过加入乙烯-三氟氯乙烯共聚物提高其耐紫外性能和耐刮性能；亚油酸酸酰胺与聚合物有良好的相容性，它在聚合物内部起着降低聚合物分子间内聚力的作用，从而改善塑料熔料的内摩擦生热和熔体的流动性；氯烃-50可提高其光稳定性能和流动性。
作为本案又一实施例，其中，填料包括60～70wt％二氧化硅和30～40wt％氮化铝。为了使该材料获得耐刮擦、耐热性能、光扩散性能，本案对材料本身进行了改性，引入了具有协同发挥耐刮擦、耐热性能、光扩散功能的二氧化硅和氮化铝，其中，二氧化硅具有突出的耐热性能和光扩散性能，氮化铝具有突出的耐热、耐刮擦性能。
作为本案又一实施例，其中，阻燃剂包括30～50wt％三氯溴甲烷和50～70wt％三(三溴苯氧基)三嗪。三氯溴甲烷的蒸发温度和聚合物分解温度相近，当聚合物受热分解时，阻燃剂也同时挥发出来，三氯溴甲烷与热分解产物同时处于气相燃烧区，卤素便能够捕捉燃烧反应中的自由基，干扰燃烧的链反应进行；三氯溴甲烷和三(三溴苯氧基)三嗪协同作用，使得PC材料的阻燃性能达到最佳。
作为本案又一实施例，其中，光稳定剂包括30～50wt％2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈和50～70wt％双(马来酸单丁酯)二丁基锡。2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈能有效地吸收波长为290～410nm的紫外线，而很少吸收可见光，它本身具有良好的热稳定性和光稳定性；双(马来酸单丁酯)二丁基锡可以接受塑料中发色团所吸收的能量，并将这些能量以热量、荧光或磷光的形式发散出去，从而保护聚合物免受紫外线的破坏，2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈和双(马来酸单丁酯)二丁基锡协同作为光稳定剂，使得材料的抗老化抗紫外性能达到最佳。
作为本案又一实施例，其中，抗氧剂包括20～30wt％2-巯基苯并噻唑和70～80wt％亚磷酸三苯酯。2-巯基苯并噻唑和亚磷酸三苯酯协同作为抗氧剂，其抗氧化性能达到最佳。
作为本案又一实施例，其中，还包括0.5～1重量份的聚全氟丙醚。通过加入聚全氟丙醚提高PC的耐刮擦性和抗老化性能。
作为本案又一实施例，其中，还包括1～3重量份的异丙苯基苯基磷酸酯。通过加入异丙苯基苯基磷酸酯提高填料与PC体系的相容性能。
作为本案又一实施例，其中，还包括3～6重量份的松香酸钙皂。通过加入松香酸钙皂提高PC向高透明PC晶型结构的形成，从而提高透明度，增加扩散光效。
作为本案又一实施例，其中，二氧化硅和氮化铝的粒径为70～90nm。二氧化硅和氮化铝粒径小于70nm，则由于该颗粒度过小，易导致它在高分子粘稠体系中无法很好地被分散开，形成局部团聚，从而使得最终获得的PC的均匀度下降；若粒径大于90nm，则由于颗粒度较大，其自重较重，这使得它在粘稠的聚合物体系中易沉积于底部，从而使得实际分散于体系中的纳米颗粒数量降低，影响了PC的耐刮擦、耐热性能、光扩散性能。
作为本案又一实施例，其中，乙烯-三氟氯乙烯共聚物的数均分子量为5600～5800。
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料的制备方法，其中，制备方法包括下述步骤：
1)将PC、乙烯-三氟氯乙烯共聚物、亚油酸酸酰胺、氯烃-50、二氧化硅、氮化铝、三氯溴甲烷、三(三溴苯氧基)三嗪、2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈、双(马来酸单丁酯)二丁基锡、2-巯基苯并噻唑、亚磷酸三苯酯、聚全氟丙醚、异丙苯基苯基磷酸酯、松香酸钙皂搅拌混合得到第一混合物；2)将第一混合物自双螺杆挤出机主喂料口加入控制转速为800～1200r/min，温度为245～265℃，进行挤出造粒，得到所述PC。
下面列出具体的实施例和对比例：
实施例1：
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料，包括以下重量份的材料：
填料包括60wt％二氧化硅和40wt％氮化铝；阻燃剂包括30wt％三氯溴甲烷和70wt％三(三溴苯氧基)三嗪；光稳定剂包括30wt％2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈和70wt％双(马来酸单丁酯)二丁基锡；抗氧剂包括20wt％2-巯基苯并噻唑和80wt％亚磷酸三苯酯；二氧化硅和氮化铝的粒径为70nm；乙烯-三氟氯乙烯共聚物的数均分子量为5600。
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料的制备方法，制备方法包括下述步骤：
1)将PC、乙烯-三氟氯乙烯共聚物、亚油酸酸酰胺、氯烃-50、二氧化硅、氮化铝、三氯溴甲烷、三(三溴苯氧基)三嗪、2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈、双(马来酸单丁酯)二丁基锡、2-巯基苯并噻唑、亚磷酸三苯酯、聚全氟丙醚、异丙苯基苯基磷酸酯、松香酸钙皂搅拌混合得到第一混合物；2)将第一混合物自双螺杆挤出机主喂料口加入控制转速为800r/min，温度为245℃，进行挤出造粒，得到PC。
实施例2：
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料，包括以下重量份的材料：
填料包括65wt％二氧化硅和35wt％氮化铝；阻燃剂包括40wt％三氯溴甲烷和60wt％三(三溴苯氧基)三嗪；光稳定剂包括42wt％2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈和68wt％双(马来酸单丁酯)二丁基锡；抗氧剂包括25wt％2-巯基苯并噻唑和75wt％亚磷酸三苯酯；二氧化硅和氮化铝的粒径为80nm；乙烯-三氟氯乙烯共聚物的数均分子量为5700。
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料的制备方法，制备方法包括下述步骤：
1)将PC、乙烯-三氟氯乙烯共聚物、亚油酸酸酰胺、氯烃-50、二氧化硅、氮化铝、三氯溴甲烷、三(三溴苯氧基)三嗪、2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈、双(马来酸单丁酯)二丁基锡、2-巯基苯并噻唑、亚磷酸三苯酯、聚全氟丙醚、异丙苯基苯基磷酸酯、松香酸钙皂搅拌混合得到第一混合物；2)将第一混合物自双螺杆挤出机主喂料口加入控制转速为1000r/min，温度为255℃，进行挤出造粒，得到PC。
实施例3：
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料，包括以下重量份的材料：
填料包括70wt％二氧化硅和30wt％氮化铝；阻燃剂包括50wt％三氯溴甲烷和50wt％三(三溴苯氧基)三嗪；光稳定剂包括50wt％2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈和50wt％双(马来酸单丁酯)二丁基锡；抗氧剂包括30wt％2-巯基苯并噻唑和70wt％亚磷酸三苯酯；二氧化硅和氮化铝的粒径为90nm；乙烯-三氟氯乙烯共聚物的数均分子量为5800。
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料的制备方法，制备方法包括下述步骤：
1)将PC、乙烯-三氟氯乙烯共聚物、亚油酸酸酰胺、氯烃-50、二氧化硅、氮化铝、三氯溴甲烷、三(三溴苯氧基)三嗪、2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈、双(马来酸单丁酯)二丁基锡、2-巯基苯并噻唑、亚磷酸三苯酯、聚全氟丙醚、异丙苯基苯基磷酸酯、松香酸钙皂搅拌混合得到第一混合物；2)将第一混合物自双螺杆挤出机主喂料口加入控制转速为1200r/min，温度为265℃，进行挤出造粒，得到PC。
对比例1:
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料，包括以下重量份的材料：
填料包括60wt％二氧化硅和40wt％氮化铝；阻燃剂包括30wt％三氯溴甲烷和70wt％三(三溴苯氧基)三嗪；光稳定剂包括30wt％2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈和70wt％双(马来酸单丁酯)二丁基锡；抗氧剂包括20wt％2-巯基苯并噻唑和80wt％亚磷酸三苯酯；二氧化硅和氮化铝的粒径为70nm。
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料的制备方法，制备方法包括下述步骤：
1)将PC、亚油酸酸酰胺、氯烃-50、二氧化硅、氮化铝、三氯溴甲烷、三(三溴苯氧基)三嗪、2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈、双(马来酸单丁酯)二丁基锡、2-巯基苯并噻唑、亚磷酸三苯酯、聚全氟丙醚、异丙苯基苯基磷酸酯、松香酸钙皂搅拌混合得到第一混合物；2)将第一混合物自双螺杆挤出机主喂料口加入控制转速为800r/min，温度为245℃，进行挤出造粒，得到PC。
对比例2：
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料，包括以下重量份的材料：
填料包括60wt％二氧化硅和40wt％氮化铝；阻燃剂包括30wt％三氯溴甲烷和70wt％三(三溴苯氧基)三嗪；光稳定剂包括30wt％2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈和70wt％双(马来酸单丁酯)二丁基锡；抗氧剂包括20wt％2-巯基苯并噻唑和80wt％亚磷酸三苯酯；二氧化硅和氮化铝的粒径为70nm；乙烯-三氟氯乙烯共聚物的数均分子量为5600。
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料的制备方法，制备方法包括下述步骤：
1)将PC、乙烯-三氟氯乙烯共聚物、亚油酸酸酰胺、二氧化硅、氮化铝、三氯溴甲烷、三(三溴苯氧基)三嗪、2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈、双(马来酸单丁酯)二丁基锡、2-巯基苯并噻唑、亚磷酸三苯酯、聚全氟丙醚、异丙苯基苯基磷酸酯、松香酸钙皂搅拌混合得到第一混合物；2)将第一混合物自双螺杆挤出机主喂料口加入控制转速为800r/min，温度为245℃，进行挤出造粒，得到PC。
对比例3：
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料，包括以下重量份的材料：
填料为二氧化硅；阻燃剂包括40wt％三氯溴甲烷和60wt％三(三溴苯氧基)三嗪；光稳定剂包括42wt％2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈和68wt％双(马来酸单丁酯)二丁基锡；抗氧剂包括25wt％2-巯基苯并噻唑和75wt％亚磷酸三苯酯；二氧化硅和氮化铝的粒径为80nm；乙烯-三氟氯乙烯共聚物的数均分子量为5700。
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料的制备方法，制备方法包括下述步骤：
1)将PC、乙烯-三氟氯乙烯共聚物、亚油酸酸酰胺、氯烃-50、二氧化硅、三氯溴甲烷、三(三溴苯氧基)三嗪、2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈、双(马来酸单丁酯)二丁基锡、2-巯基苯并噻唑、亚磷酸三苯酯、聚全氟丙醚、异丙苯基苯基磷酸酯、松香酸钙皂搅拌混合得到第一混合物；2)将第一混合物自双螺杆挤出机主喂料口加入控制转速为1000r/min，温度为255℃，进行挤出造粒，得到PC。
对比例4:
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料，包括以下重量份的材料：
填料包括65wt％二氧化硅和35wt％氮化铝；阻燃剂为三氯溴甲烷；光稳定剂包括42wt％2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈和68wt％双(马来酸单丁酯)二丁基锡；抗氧剂包括25wt％2-巯基苯并噻唑和75wt％亚磷酸三苯酯；二氧化硅和氮化铝的粒径为80nm；乙烯-三氟氯乙烯共聚物的数均分子量为5700。
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料的制备方法，制备方法包括下述步骤：
1)将PC、乙烯-三氟氯乙烯共聚物、亚油酸酸酰胺、氯烃-50、二氧化硅、氮化铝、三氯溴甲烷、2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈、双(马来酸单丁酯)二丁基锡、2-巯基苯并噻唑、亚磷酸三苯酯、聚全氟丙醚、异丙苯基苯基磷酸酯、松香酸钙皂搅拌混合得到第一混合物；2)将第一混合物自双螺杆挤出机主喂料口加入控制转速为1000r/min，温度为255℃，进行挤出造粒，得到PC。
对比例5:
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料，包括以下重量份的材料：
填料包括70wt％二氧化硅和30wt％氮化铝；阻燃剂包括50wt％三氯溴甲烷和50wt％三(三溴苯氧基)三嗪；光稳定剂为2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈；抗氧剂包括30wt％2-巯基苯并噻唑和70wt％亚磷酸三苯酯；二氧化硅和氮化铝的粒径为90nm；乙烯-三氟氯乙烯共聚物的数均分子量为5800。
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料的制备方法，制备方法包括下述步骤：
1)将PC、乙烯-三氟氯乙烯共聚物、亚油酸酸酰胺、氯烃-50、二氧化硅、氮化铝、三氯溴甲烷、三(三溴苯氧基)三嗪、2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈、2-巯基苯并噻唑、亚磷酸三苯酯、聚全氟丙醚、异丙苯基苯基磷酸酯、松香酸钙皂搅拌混合得到第一混合物；2)将第一混合物自双螺杆挤出机主喂料口加入控制转速为1200r/min，温度为265℃，进行挤出造粒，得到PC。
对比例6：
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料，包括以下重量份的材料：
填料包括70wt％二氧化硅和30wt％氮化铝；阻燃剂包括50wt％三氯溴甲烷和50wt％三(三溴苯氧基)三嗪；光稳定剂包括50wt％2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈和50wt％双(马来酸单丁酯)二丁基锡；抗氧剂包括30wt％2-巯基苯并噻唑和70wt％亚磷酸三苯酯；二氧化硅和氮化铝的粒径为90nm；乙烯-三氟氯乙烯共聚物的数均分子量为5800。
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料的制备方法，制备方法包括下述步骤：
1)将PC、乙烯-三氟氯乙烯共聚物、亚油酸酸酰胺、氯烃-50、二氧化硅、氮化铝、三氯溴甲烷、三(三溴苯氧基)三嗪、2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈、双(马来酸单丁酯)二丁基锡、2-巯基苯并噻唑、亚磷酸三苯酯、异丙苯基苯基磷酸酯、松香酸钙皂搅拌混合得到第一混合物；2)将第一混合物自双螺杆挤出机主喂料口加入控制转速为1200r/min，温度为265℃，进行挤出造粒，得到PC。
对比例7：
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料，包括以下重量份的材料：
填料包括70wt％二氧化硅和30wt％氮化铝；阻燃剂包括50wt％三氯溴甲烷和50wt％三(三溴苯氧基)三嗪；光稳定剂包括50wt％2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈和50wt％双(马来酸单丁酯)二丁基锡；抗氧剂包括30wt％2-巯基苯并噻唑和70wt％亚磷酸三苯酯；二氧化硅和氮化铝的粒径为90nm；乙烯-三氟氯乙烯共聚物的数均分子量为5800。
一种耐刮擦高性能光扩散PC材料的制备方法，制备方法包括下述步骤：
1)将PC、乙烯-三氟氯乙烯共聚物、亚油酸酸酰胺、氯烃-50、二氧化硅、氮化铝、三氯溴甲烷、三(三溴苯氧基)三嗪、2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈、双(马来酸单丁酯)二丁基锡、2-巯基苯并噻唑、亚磷酸三苯酯、聚全氟丙醚、异丙苯基苯基磷酸酯搅拌混合得到第一混合物；2)将第一混合物自双螺杆挤出机主喂料口加入控制转速为1200r/min，温度为265℃，进行挤出造粒，得到PC。
下面列出实施例和对比例的性能测试结果：
透光度和雾度越高，材料的光性能越好；耐刮擦△E越小，其耐刮擦性能越好。从上述实例可看出，制得的该料不仅具有优异的机械性能，并且耐刮擦性能阻燃性能光扩散性能均较对比例的材料好。
尽管本发明的实施方案已公开如上，但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用，它完全可以被适用于各种适合本发明的领域，对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改，因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本发明并不限于特定的细节。

Claims (11)

1.一种耐刮擦高性能光扩散PC材料，其特征在于，包括以下重量份的材料：
PC 60～80重量份；
乙烯-三氟氯乙烯共聚物 1～3重量份；
填料 1～4重量份；
阻燃剂 2～7重量份；
光稳定剂 1～3重量份；
抗氧剂 1～3重量份；
亚油酸酸酰胺 0.5～1重量份；
氯烃-50 1～3重量份。
2.根据权利要求1所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料，其特征在于，所述填料包括60～70wt%二氧化硅和30～40wt%氮化铝。
3.根据权利要求1所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料，其特征在于，所述阻燃剂包括30～50wt%三氯溴甲烷和50～70wt%三（三溴苯氧基）三嗪。
4.根据权利要求1所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料，其特征在于，所述光稳定剂包括30～50wt%2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈和50～70wt%双（马来酸单丁酯）二丁基锡。
5.根据权利要求1所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料，其特征在于，所述抗氧剂包括20～30wt% 2-巯基苯并噻唑和70～80wt%亚磷酸三苯酯。
6.根据权利要求1所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料，其特征在于，还包括0.5～1重量份的聚全氟丙醚。
7.根据权利要求1所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料，其特征在于，还包括1～3重量份的异丙苯基苯基磷酸酯。
8.根据权利要求1所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料，其特征在于，还包括3～6重量份的松香酸钙皂。
9.根据权利要求2所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料，其特征在于，所述二氧化硅和氮化铝的粒径为70～90nm。
10.根据权利要求1所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料，其特征在于，所述乙烯-三氟氯乙烯共聚物的数均分子量为5600～5800。
11.根据权利要求1～9任一项所述的耐刮擦高性能光扩散PC材料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括下述步骤：
1）将PC、乙烯-三氟氯乙烯共聚物、亚油酸酸酰胺、氯烃-50、二氧化硅、氮化铝、三氯溴甲烷、三（三溴苯氧基）三嗪、2-噻唑基-3-吡啶基丙烯腈、双（马来酸单丁酯）二丁基锡、2-巯基苯并噻唑、亚磷酸三苯酯、聚全氟丙醚、异丙苯基苯基磷酸酯、松香酸钙皂搅拌混合得到第一混合物；2）将第一混合物自双螺杆挤出机主喂料口加入控制转速为800～1200r/min，温度为245～265℃，进行挤出造粒，得到所述PC。
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