CN110168036A

CN110168036A - 表面保护薄膜

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Publication number: CN110168036A
Application number: CN201780081267.XA
Authority: CN
Inventors: 渡部奈津子; 三井数马; 野中崇弘
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2016-12-28
Filing date: 2017-12-18
Publication date: 2019-08-23
Anticipated expiration: 2037-12-18
Also published as: KR102364205B1; WO2018123694A1; JP6895250B2; TW201832915A; KR20190100310A; TWI741115B; JP2018109093A; CN110168036B

Abstract

本发明提供带一种隔离体的光学用表面保护薄膜，其通过对构成层叠在光学用表面保护薄膜上的隔离体的聚酯类基材的厚度进行限定并进一步设置空洞，从而抑制隔离体的相对于粘合剂层的剥离力，使得剥离性、作业性优异，进而，通过因具有空洞而缓冲性优异的隔离体，能够抑制由隔离体引起的压痕的产生。本发明的带隔离体的光学用表面保护薄膜的特征在于，具有：在基材薄膜的至少单面具有粘合剂层的光学用表面保护薄膜、以及在前述基材薄膜的与粘合剂层接触的面的相反面具有的隔离体，前述隔离体具有脱模层和聚酯类基材，前述聚酯类基材具有空洞，前述聚酯类基材的厚度为25～100μm，前述隔离体的相对于前述粘合剂层的180°起始剥离力为0.7N/50mm以下。

Description

表面保护薄膜

技术领域

本发明涉及带隔离体的光学用表面保护薄膜。特别是通过在构成为了保护光学构件(例如液晶显示器等中使用的偏光板、波长板、相位差板、光学补偿薄膜、反射片、增亮薄膜等)表面而使用的光学用表面保护薄膜的粘合剂层表面粘贴(层叠)用于保护至实际使用时为止的特定的隔离体，使得剥离性、作业性优异，进而能够预防压痕的产生，是有用的。

背景技术

表面保护薄膜一般具有在薄膜状的基材薄膜(支撑体)上设置有粘合剂层的构成。该表面保护薄膜通过前述粘合剂层粘合于作为被粘物的光学构件，由此用于保护光学构件免受加工、输送、检查时等时候的表面的损伤、污染。例如，液晶显示器的面板通过利用粘合剂层在液晶单元上贴合偏光板、波长板等光学构件来形成。该粘合剂层出于在直至实际粘贴于光学构件之前为止保护其免受干燥等的必要性，由经脱模处理的隔离体等保护并保管(专利文献1)。

然后，在实际将前述表面保护薄膜的粘合剂层表面粘贴于光学构件来使用时，将隔离体剥离、去除。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-224811

发明内容

发明要解决的问题

需要说明的是，在隔离体厚的情况下，如果在进行剥离、去除时隔离体相对于构成表面保护薄膜的粘合剂层的剥离力(粘合力)增高，则会产生剥离性、作业性变差的问题。

此外，如果在涂覆粘合剂时代替厚的隔离体而使用薄的隔离体，则由于附着在隔离体表面的包含在构成隔离体的基材等中的微粒(例如聚酯类的填料等)，在形成粘合剂层时，会构成在粘合剂层表面产生压痕的原因。进而，如果以粘合剂层表面产生了压痕的状态贴合于被粘物，则在粘合剂层与被粘物之间的压痕部分(空间)会进气泡，产生使检查被粘物时的检查性变差的问题。

因此，本发明人等鉴于上述情况进行深入了研究，结果，其目的在于提供一种带隔离体的光学用表面保护薄膜，其通过对构成层叠在光学用表面保护薄膜上的隔离体的聚酯类基材的厚度进行限定，并进一步设置空洞，从而减弱隔离体的硬度(刚性)，由此能够抑制隔离体相对于粘合剂层的剥离力，使得剥离性、作业性优异，进而，通过具有空洞，使得缓冲性优异，能够抑制由隔离体引起的压痕的产生，检查性优异。

用于解决问题的方案

即，本发明的带隔离体的光学用表面保护薄膜的特征在于，具有：在基材薄膜的至少单面具有粘合剂层的光学用表面保护薄膜、以及在前述基材薄膜的与粘合剂层接触的面的相反面具有的隔离体，前述隔离体具有脱模层和聚酯类基材，前述聚酯类基材具有空洞，前述聚酯类基材的厚度为25～100μm，前述隔离体的相对于前述粘合剂层的180°起始剥离力为0.7N/50mm以下。

本发明的带隔离体的光学用表面保护薄膜优选的是，相对于前述聚酯类基材的体积，空洞率为15％以上。

本发明的带隔离体的光学用表面保护薄膜优选的是，前述基材薄膜为聚酯薄膜。

本发明的带隔离体的光学用表面保护薄膜优选的是，前述粘合剂层由含有(甲基)丙烯酸类聚合物的粘合剂组合物形成。

发明的效果

本发明通过对构成层叠在光学用表面保护薄膜上的隔离体的聚酯类基材的厚度进行限定，并进一步设置空洞，从而抑制隔离体的相对于构成光学用表面保护薄膜的粘合剂层的剥离力，使得剥离性、作业性优异，进而，通过因具有空洞而缓冲性优异的隔离体，能够抑制由隔离体引起的压痕的产生，能够得到在被粘物贴合有光学用表面保护薄膜的状态下的检查性优异的带隔离体的光学用表面保护薄膜，是有用的。

附图说明

图1是示出本发明的带隔离体的光学用表面保护薄膜的一个构成例的示意性剖视图。

图2是示出从本发明的带隔离体的光学用表面保护薄膜剥离隔离体时的一个构成例的示意性剖视图。

具体实施方式

以下，对本发明的实施方式进行详细说明。

<带隔离体的光学用表面保护薄膜的整体结构>

此处公开的带隔离体的光学用表面保护薄膜(以下有时简称为“表面保护薄膜”。)一般是被称为粘合带、不干胶标签、粘合薄膜等形态的粘合剂层表面被隔离体保护而成的薄膜，特别是作为在光学部件(例如作为偏光板、波长板等液晶显示器面板构成要素使用的光学部件)的加工、检查、输送时保护光学部件的表面的表面保护薄膜是适宜的。前述表面保护薄膜中的粘合剂层典型的是连续形成，并不限定于该形态，可以是形成为例如点状、条状等规则或不规则图案的粘合剂层。此外，此处公开的表面保护薄膜可以是卷状，也可以是单片状。

<基材薄膜>

构成本发明的带隔离体的光学用表面保护薄膜的光学用表面保护薄膜的特征在于具有基材薄膜。此处公开的技术中，构成基材薄膜的树脂材料可以没有特别限制地使用，优选使用例如透明性、机械强度、热稳定性、水屏蔽性、各向同性、柔性、尺寸稳定性等特性优异的材料。特别是由于基材薄膜具有柔性，能够通过辊涂布机等涂布粘合剂组合物，能够卷取成卷状，是有用的。

作为前述基材薄膜(支撑体)，可以优选使用由以下述成分作为主要树脂成分(树脂成分中的主要成分、典型的是占50重量％以上的成分)的树脂材料构成的塑料薄膜作为前述基材薄膜，所述成分为例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯类聚合物；二乙酸纤维素、三乙酸纤维素等纤维素类聚合物；聚碳酸酯类聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸类聚合物；等等。作为前述树脂材料的其他例子，可列举出以下述材料作为树脂材料：聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物等苯乙烯类聚合物；聚乙烯、聚丙烯、具有环状或降冰片烯结构的聚烯烃、乙烯-丙烯共聚物等烯烃类聚合物；氯乙烯类聚合物；尼龙6、尼龙6,6、芳香族聚酰胺等酰胺类聚合物；等等。作为前述树脂材料的再其他例子，可列举出：酰亚胺类聚合物、砜类聚合物、聚醚砜类聚合物、聚醚醚酮类聚合物、聚苯硫醚类聚合物、乙烯醇类聚合物、偏二氯乙烯类聚合物、乙烯醇缩丁醛类聚合物、芳酯类聚合物、聚氧亚甲基类聚合物、环氧类聚合物等。可以是由2种以上上述聚合物的共混物形成的基材薄膜。

作为前述基材薄膜，可以优选采用由透明的热塑性树脂材料形成的塑料薄膜。前述塑料薄膜当中，使用聚酯薄膜是更优选的方式。在此，聚酯薄膜是指将聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸丁二醇酯等具有以酯键为基础的主骨架的聚酯类聚合物材料(聚酯树脂)作为主要树脂成分的薄膜。该聚酯薄膜具有光学特性、尺寸稳定性优异等对于表面保护薄膜的基材薄膜而言优选的特性。

在构成前述基材薄膜的树脂材料中，可以根据需要而配混抗氧化剂、紫外线吸收剂、增塑剂、着色剂(颜料、染料等)等各种添加剂。可以实施过例如电晕放电处理、等离子体处理、紫外线照射处理、酸处理、碱处理、底涂剂的涂布等公知或惯用的表面处理。这种表面处理可以是例如用于提高基材薄膜与粘合剂层的密合性(粘合剂层的锚固性)的处理。

作为前述基材薄膜，也可以使用经抗静电处理的塑料薄膜。通过使用前述基材薄膜，可抑制剥离时的表面保护薄膜自身的带电，故优选。此外，通过使基材薄膜为塑料薄膜并对前述塑料薄膜实施抗静电处理，能够减小表面保护薄膜自身的带电且使得对被粘物的抗静电能优异。需要说明的是，作为赋予抗静电功能的方法，没有特别限制，可以使用现有公知的方法，例如可列举出：涂布由抗静电剂和树脂成分形成的抗静电性树脂、导电性聚合物、含有导电性物质的导电性树脂的方法；蒸镀或者镀敷导电性物质的方法；还有混炼抗静电剂等的方法等。

作为前述基材薄膜的厚度，通常为5～200μm，优选为10～100μm左右。如果前述基材薄膜的厚度在前述范围内，则对被粘物的贴合作业性和自被粘物的剥离性、作业性优异，故优选。

此处公开的表面保护薄膜也可以以在基材薄膜、粘合剂层和隔离体的基础上还进一步包括其他层的方式实施。作为前述其他层，可列举出提高抗静电层、粘合剂层的锚固性的底涂层(锚固层)等。

<粘合剂层>

本发明中使用的粘合剂层如果由含有具有粘合性的粘合性聚合物的粘合剂组合物形成，则可以没有特别限制地使用。作为前述粘合剂组合物，可以使用例如丙烯酸类粘合剂、氨基甲酸酯类粘合剂、合成橡胶类粘合剂、天然橡胶类粘合剂、有机硅类粘合剂、聚酯类粘合剂等，当中，优选为使用(含有)选自由丙烯酸类粘合剂、氨基甲酸酯类粘合剂和有机硅类粘合剂组成的组中的至少1种的粘合剂组合物，使用含有作为前述粘合性聚合物的(甲基)丙烯酸类聚合物的粘合剂组合物(丙烯酸类粘合剂)是特别是优选的方式。

前述粘合剂层使用丙烯酸类粘合剂的情况下，对于作为构成前述丙烯酸类粘合剂的粘合性聚合物的(甲基)丙烯酸类聚合物，作为构成其的原料单体，可以使用具有碳数1～14的烷基的(甲基)丙烯酸类单体作为主要单体。作为前述(甲基)丙烯酸类单体，可以使用1种或2种以上。通过使用前述具有碳数为1～14的烷基的(甲基)丙烯酸类单体，易于将相对于被粘物(被保护体)的剥离力(粘合力)控制得较低，可得到轻剥离性、再剥离性优异的表面保护薄膜。需要说明的是，本发明中的(甲基)丙烯酸类聚合物是指丙烯酸类聚合物和/或甲基丙烯类聚合物，此外，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯。

作为前述具有碳数1～14的烷基的(甲基)丙烯酸类单体的具体例子，例如可列举出：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸正十四烷基酯等。

其中，在本发明的表面保护薄膜中，可列举出(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸正十四烷基酯等具有碳数4～14的烷基的(甲基)丙烯酸类单体作为特别适宜的例子。特别是通过使用具有碳数4～14的烷基的(甲基)丙烯酸类单体，易于将对被粘物的剥离力(粘合力)控制得较低，再剥离性优异。

特别是相对于构成前述(甲基)丙烯酸类聚合物的单体成分总量100重量％，具有碳数1～14的烷基的(甲基)丙烯酸类单体优选含有65重量％以上，更优选为75重量％以上，进一步优选为85～99.9重量％，最优选为90～99重量％。如果小于50重量％，则粘合剂组合物的适度的润湿性、粘合剂层的内聚力会变差，是不优选的。

此外，前述(甲基)丙烯酸类聚合物可以使用含羟基(甲基)丙烯酸类单体作为原料单体。作为前述含羟基(甲基)丙烯酸类单体，可以使用1种或2种以上。通过使用前述含羟基(甲基)丙烯酸类单体，易于控制粘合剂组合物的交联等，进而易于控制基于流动的润湿性的改善与剥离中的剥离力(粘合力)减小之间的平衡。

作为前述含羟基(甲基)丙烯酸类单体，例如可列举出：(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟丁酯、(甲基)丙烯酸6-羟己酯、(甲基)丙烯酸8-羟辛酯、(甲基)丙烯酸10-羟癸酯、(甲基)丙烯酸12-羟基月桂酯、丙烯酸(4-羟甲基环己基)甲酯、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺等。

相对于构成前述(甲基)丙烯酸类聚合物的单体成分总量100重量％，前述含羟基(甲基)丙烯酸类单体优选含有25重量％以下，更优选为15重量％以下，进一步优选为0.1～10重量％。如果在前述范围内，则易于控制粘合剂组合物的润湿性与所得粘合剂层的内聚力之间的平衡，故优选。

此外，作为其他聚合性单体成分，出于易于获得粘合性能的平衡的理由，可以在不损害本发明的效果的范围内使用用于使Tg为0℃以下(通常-100℃以上)来调节(甲基)丙烯酸类聚合物的玻璃化转变温度、剥离性的聚合性单体等。

此外，前述(甲基)丙烯酸类聚合物可以使用含羧基(甲基)丙烯酸类单体作为原料单体。通过使用前述含羧基(甲基)丙烯酸类单体，能够抑制粘合剂层(表面保护薄膜)的粘合力随时间上升，再剥离性、防止粘合力上升性和作业性优异。此外，粘合剂层的内聚力和剪切力也优异，是优选的。

作为前述含羧基(甲基)丙烯酸类单体，例如可列举出：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯等。

相对于构成前述(甲基)丙烯酸类聚合物的单体成分总量100重量％，前述含羧基(甲基)丙烯酸类单体优选为10重量％以下，更优选为0～8重量％，进一步优选为0～6重量％。如果在前述范围内，则易于控制粘合剂组合物的润湿性与所得粘合剂层的内聚力之间的平衡，故优选。

进而，前述(甲基)丙烯酸类聚合物在不损害本发明的特性的范围内可以没有特别限定地使用除前述原料单体以外的其他聚合性单体。例如，作为前述其他聚合性单体，可以适当使用含氰基单体、乙烯基酯单体、芳香族乙烯基单体等提高内聚力、耐热性的成分，含酰胺基单体、含酰亚胺基单体、含氨基单体、含环氧基单体、N-丙烯酰吗啉、乙烯基醚单体等提高剥离力(粘合力)、具有作为交联化基点起作用的官能团的成分。当中，优选使用含氰基单体、含酰胺基单体、含酰亚胺基单体、含氨基单体和N-丙烯酰吗啉等含氮单体。通过使用含氮单体，能够确保不发生浮起、剥离等的适度的剥离力(粘合力)，进而能够得到剪切力优异的表面保护薄膜，因此是有用的。这些聚合性单体可以使用1种或2种以上。

作为前述含氰基单体，例如可列举出丙烯腈、甲基丙烯腈。

作为前述含酰胺基单体，例如可列举出：丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、二乙基丙烯酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮、N,N-二甲基丙烯酰胺、N,N-二甲基甲基丙烯酰胺、N,N-二乙基丙烯酰胺、N,N-二乙基甲基丙烯酰胺、N,N’-亚甲基双丙烯酰胺、N,N-二甲氨基丙基丙烯酰胺、N,N-二甲氨基丙基甲基丙烯酰胺、二丙酮丙烯酰胺等。

作为前述含酰亚胺基单体，例如可列举出：环己基马来酰亚胺、异丙基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、衣康酰亚胺等。

作为前述含氨基单体，例如可列举出：(甲基)丙烯酸氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲氨基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲氨基丙酯等。

作为前述乙烯基酯单体，例如可列举出：醋酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等。

作为前述芳香族乙烯基单体，例如可列举出：苯乙烯、氯苯乙烯、氯甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、其他取代苯乙烯等。

作为前述含环氧基单体，例如可列举出：(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基缩水甘油酯、烯丙基缩水甘油醚等。

作为前述乙烯基醚单体，例如可列举出：甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、异丁基乙烯基醚等。

在本发明中，相对于构成前述(甲基)丙烯酸类聚合物的单体成分总量100重量％，前述其他聚合性单体优选为0～30重量％，更优选为0～10重量％。前述其他聚合性单体可以为了获得所期望的特性而适当调节。

前述(甲基)丙烯酸类聚合物可以进一步含有含环氧烷烃基(alkylene oxidegroup)反应性单体作为单体成分。

此外，作为前述含环氧烷烃基反应性单体的氧亚烷基单元的平均加成摩尔数，从与含氧亚烷基化合物的相容性的角度来看，优选为1～40，更优选为3～40，进一步优选为4～35，特别优选为5～30。前述平均加成摩尔数为1以上的情况下，存在高效获得被粘物(被保护体)的污染减小效果的倾向。此外，前述平均加成摩尔数大于40的情况下，与含氧亚烷基化合物的相互作用增大，存在粘合剂组合物的粘度上升而难以涂覆的倾向，故不优选。需要说明的是，氧亚烷基链的末端可以保持为羟基，也可以被其他官能团等取代。

前述含环氧烷烃基反应性单体可以单独使用，也可以将2种以上混合使用，作为整体的含量，在前述(甲基)丙烯酸类聚合物的单体成分总量中，优选为0～20重量％，更优选为0～10重量％。如果含环氧烷烃基反应性单体的含量超过20重量％，则对被粘物的污染性变差，故不优选。

作为前述含环氧烷烃基反应性单体的氧亚烷基单元，可举出具有碳数1～6的亚烷基的单元，例如可列举出氧亚甲基、氧亚乙基、氧亚丙基、氧亚丁基等。氧亚烷基链的烃基可以是直链，也可以有支链。

此外，前述含环氧烷烃基反应性单体更优选为具有环氧乙烷基的反应性单体。通过使用包含具有环氧乙烷基的反应性单体的(甲基)丙烯酸类聚合物作为基础聚合物，基础聚合物与含氧亚烷基化合物的相容性提高，可适宜地抑制向被粘物的渗出，可得到低污染性的粘合剂组合物。

作为前述含环氧烷烃基反应性单体，例如可列举出：(甲基)丙烯酸环氧烷烃加成物，分子中具有丙烯酰基、甲基丙烯酰基、烯丙基等反应性取代基的反应性表面活性剂等。

作为前述(甲基)丙烯酸环氧烷烃加成物的具体例子，例如可列举出：聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇-聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇-聚丁二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇-聚丁二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、丁氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、辛氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、月桂氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、硬脂氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、辛氧基聚乙二醇-聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等。

此外，作为前述反应性表面活性剂的具体例子，例如可列举出：具有(甲基)丙烯酰基或烯丙基的阴离子型反应性表面活性剂、非离子型反应性表面活性剂、阳离子型反应性表面活性剂等。

前述(甲基)丙烯酸类聚合物的重均分子量(Mw)优选为10万～500万，更优选为20万～400万，进一步优选为30万～300万，最优选为30万～120万。重均分子量小于10万的情况下，因粘合剂层的内聚力减小而存在发生残胶的倾向。而重均分子量超过500万的情况下，聚合物的流动性降低，存在对被粘物(例如偏光板)的润湿不充分、构成在被粘物与表面保护薄膜的粘合剂层之间产生鼓起的原因的倾向。需要说明的是，重均分子量是指通过GPC(凝胶渗透色谱)测定而得的分子量。

此外，前述(甲基)丙烯酸类聚合物的玻璃化转变温度(Tg)优选为0℃以下，更优选为-10℃以下(通常为-100℃以上)。玻璃化转变温度高于0℃的情况下，聚合物难以流动，存在例如对作为光学构件的偏光板的润湿变得不充分、构成在偏光板与表面保护薄膜的粘合剂层之间产生鼓起的原因的倾向。特别是通过使玻璃化转变温度为-70℃以下，易于得到对偏光板的润湿性和轻剥离性优异的粘合剂层。需要说明的是，(甲基)丙烯酸类聚合物的玻璃化转变温度可以通过适当改变所使用的单体成分、组成比来调整至前述范围内。

前述(甲基)丙烯酸类聚合物的聚合方法并没有特别限制，可以通过溶液聚合、乳液聚合、本体聚合、悬浮聚合等公知的方法进行聚合，特别是从作业性的角度、对被粘物(被保护体)的低污染性等特性方面来看，溶液聚合是更优选的方式。此外，所得聚合物可以是无规共聚物、嵌段共聚物、交替共聚物、接枝共聚物等中的任一种。

<含氧亚烷基化合物>

本发明中使用的粘合剂组合物也可以含有含氧亚烷基化合物。通过含有含氧亚烷基化合物，可以进一步表现出轻剥离性。作为含氧亚烷基化合物，可列举出具有氧亚烷基链的有机聚硅氧烷、不含有机聚硅氧烷的含氧亚烷基化合物。

作为前述具有氧亚烷基链的有机聚硅氧烷的具体例子，作为在主链具有氧亚烷基链的有机聚硅氧烷的具体例子，例如作为市售品，可列举出商品名X-22-4952、X-22-4272、X-22-6266、KF-6004、KF-889(以上为信越化学工业株式会社制造)，BY16-201、SF8427(以上为东丽道康宁公司制造)，IM22(WACKER ASAHIKASEI SILICONE Co.,Ltd.制造)等。此外，作为在侧链具有氧亚烷基链的有机硅氧烷，例如作为市售品，可列举出商品名KF-351A、KF-352A、KF-353、KF-354L、KF-355A、KF-615A、KF-945、KF-640、KF-642、KF-643、KF-6022、X-22-6191、X-22-4515、KF-6011、KF-6012、KF-6015、KF-6017、X-22-2516(以上为信越化学工业株式会社制造)，SF8428、FZ-2162、SH3749、FZ-77、L-7001、FZ-2104、FZ-2110、L-7002、FZ-2122、FZ-2164、FZ-2203、FZ-7001、SH8400、SH8700、SF8410、SF8422(以上为东丽道康宁公司制造)，TSF-4440，TSF-4441、TSF-4445、TSF-4450、TSF-4446、TSF-4452、TSF-4460(Momentive Performance Materials Inc.制造)，BYK-333、BYK-307、BYK-377、BYK-UV3500、BYK-UV3570(BYK Japan KK制造)等。这些化合物可以单独使用，还可以将2种以上混合使用。

作为前述不含有机聚硅氧烷的含氧亚烷基化合物的具体例子，例如可列举出：聚氧亚烷基烷基胺、聚氧亚烷基二胺、聚氧亚烷基脂肪酸酯、聚氧亚烷基山梨醇酐脂肪酸酯、聚氧亚烷基烷基苯基醚、聚氧亚烷基烷基醚、聚氧亚烷基烷基烯丙醚、聚氧亚烷基烷基苯基烯丙醚等非离子性表面活性剂；聚氧亚烷基烷基醚硫酸酯盐、聚氧亚烷基烷基醚磷酸酯盐、聚氧亚烷基烷基苯基醚硫酸酯盐、聚氧亚烷基烷基苯基醚磷酸酯盐等阴离子性表面活性剂；此外还有，具有聚氧亚烷基链(聚环氧烷烃链)的阳离子性表面活性剂、两性离子性表面活性剂，具有聚氧亚烷基链的聚醚类化合物(还包括其衍生物)，具有聚氧亚烷基链的丙烯酸类化合物(还包括其衍生物)等。此外，可以将含聚氧亚烷基链单体作为含聚氧亚烷基链化合物配混。该含聚氧亚烷基链化合物可以单独使用，也可以将2种以上组合使用。

作为前述具有聚氧亚烷基链的聚醚类化合物(聚醚成分)的具体例子，可列举出：聚丙二醇(PPG)-聚乙二醇(PEG)的嵌段共聚物、PPG-PEG-PPG的嵌段共聚物、PEG-PPG-PEG的嵌段共聚物等。作为前述具有聚氧亚烷基链的聚醚类化合物的衍生物，可列举出末端被醚化的含氧亚丙基化合物(PPG单烷基醚、PEG-PPG单烷基醚等)、末端被乙酰基化的含氧亚丙基化合物(末端乙酰基化PPG等)等。

此外，作为前述具有聚氧亚烷基链的丙烯酸类化合物的具体例子，可举出具有氧亚烷基的(甲基)丙烯酸酯聚合物。作为前述氧亚烷基，氧亚烷基单元的加成摩尔数优选为1～50，更优选为2～30，进一步优选为2～20。此外，前述氧亚烷基链的末端可以保持为羟基，也可以被烷基、苯基等取代。

前述具有氧亚烷基的(甲基)丙烯酸酯聚合物优选为含有(甲基)丙烯酸亚烷基氧化物作为单体成分的聚合物，作为前述(甲基)丙烯酸亚烷基氧化物的具体例子，作为含乙二醇基(甲基)丙烯酸酯，例如可列举出：甲氧基-二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基-三乙二醇(甲基)丙烯酸酯等甲氧基-聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯型，乙氧基-二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基-三乙二醇(甲基)丙烯酸酯等乙氧基-聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯型，丁氧基-二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、丁氧基-三乙二醇(甲基)丙烯酸酯等丁氧基-聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯型，苯氧基-二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基-三乙二醇(甲基)丙烯酸酯等苯氧基-聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯型，2-乙基己基-聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、壬基苯酚-聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯型，甲氧基-二丙二醇(甲基)丙烯酸酯等甲氧基-聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯型等。

此外，作为前述单体成分，也可以使用除前述(甲基)丙烯酸亚烷基氧化物以外的其他单体成分。作为其他单体成分的具体例子，可列举出：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸正十四烷基酯等具有碳数1～14的烷基的丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯。

进而，作为前述除(甲基)丙烯酸亚烷基氧化物以外的其他单体成分，还可以适当使用含羧基(甲基)丙烯酸酯、含磷酸基(甲基)丙烯酸酯、含氰基(甲基)丙烯酸酯、乙烯基酯类、芳香族乙烯基化合物、含酸酐基(甲基)丙烯酸酯、含羟基(甲基)丙烯酸酯、含酰胺基(甲基)丙烯酸酯、含氨基(甲基)丙烯酸酯、含环氧基(甲基)丙烯酸酯、N-丙烯酰吗啉、乙烯基醚类等。

作为更优选的一个方案，前述不含有机聚硅氧烷的含聚氧亚烷基链化合物为在至少一部分具有(聚)氧亚乙基链的化合物。通过配混前述含(聚)氧亚乙基链化合物，使得与基础聚合物的相容性提高，可适宜地抑制向被粘物的渗出，可得到低污染性的粘合剂组合物。当中，特别是在使用PPG-PEG-PPG的嵌段共聚物的情况下，可得到低污染性优异的粘合剂。作为前述含聚氧亚乙基链化合物，(聚)氧亚乙基链在前述不含有机聚硅氧烷的含聚氧亚烷基链化合物整体中所占的重量优选为5～90重量％，更优选为5～85重量％，进一步优选为5～80重量％，最优选为5～75重量％。

此外，作为前述不含有机聚硅氧烷的含聚氧亚烷基链化合物的市售品，例如可列举出：Adeka Pluronic 17R-4、Adeka Pluronic 25R-2(以上均为株式会社ADEKA制造)，LATEMUL PD-420、LATEMUL PD-420、LATEMUL PD-450、EMULGEN 120(花王株式会社制造)，Aquaron HS-10、KH-10、NOIGEN EA-87、EA-137、EA-157、EA-167、EA-177(以上为第一工业制药株式会社制造)等。

作为前述含氧亚烷基化合物的含量，相对于构成前述粘合剂组合物的粘合性聚合物(为主聚合物，例如(甲基)丙烯酸类聚合物)100重量份，优选为0.01～5.0重量份，更优选为0.02～2重量份，进一步优选为0.03～1.6重量份，最优选为0.1～0.8重量份。如果在前述范围内，则易于表现出本发明中使用的粘合剂层(表面保护薄膜)的轻剥离性(再剥离性)，是优选的。

<交联剂>

本发明的表面保护薄膜优选前述粘合剂组合物含有交联剂。此外，在本发明中，可以使用前述粘合剂组合物制成粘合剂层。例如在前述粘合剂组合物为含有前述(甲基)丙烯酸类聚合物的丙烯酸类粘合剂的情况下，通过适当调节前述(甲基)丙烯酸类聚合物的构成单元、构成比率、交联剂的选择和添加比率等进行交联，可以得到耐热性更优异的粘合剂层(表面保护薄膜)。

作为本发明中使用的交联剂，可以使用异氰酸酯化合物、环氧化合物、三聚氰胺类树脂、氮丙啶衍生物和金属螯合化合物等，特别是使用异氰酸酯化合物、环氧化合物是优选的方式。此外，这些化合物可以单独使用，也可以将2种以上混合使用。

作为前述异氰酸酯化合物，例如可列举出：三亚甲基二异氰酸酯、亚丁基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯(HDI)、二聚酸二异氰酸酯等脂肪族多异氰酸酯类，亚环戊基二异氰酸酯、亚环己基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)、1,3-双(异氰酸根合甲基)环己烷等脂环族异氰酸酯类，2,4-甲苯二异氰酸酯、4,4’-二苯基甲烷二异氰酸酯、苯二甲基二异氰酸酯(XDI)等芳香族异氰酸酯类，通过脲基甲酸酯键、缩二脲键、异氰脲酸酯键、脲二酮键、脲键、碳二亚胺键、脲酮亚胺键、噁二嗪三酮键等对前述异氰酸酯化合物进行改性而得的多异氰酸酯改性体。例如，作为市售品，可列举出：商品名TAKENATE 300S、TAKENATE 500、TAKENATE 600、TAKENATE D165N、TAKENATE D178N(以上为武田药品工业株式会社制造)，SUMIDUR T80、SUMIDUR L、Desmodur N3400(以上为Sumika Bayer Urethane Co.,Ltd.制造)，MILLONATE MR、MILLONATE MT、CORONATE L、CORONATE HL、CORONATE HX(以上为日本聚氨酯工业株式会社制造)等。这些异氰酸酯化合物可以单独使用，也可以将2种以上混合使用，也可以组合使用2官能的异氰酸酯化合物与3官能以上的异氰酸酯化合物。通过组合使用交联剂，可以进一步兼顾粘合性与耐回弹性(对曲面的粘接性)，可以得到粘接可靠性更优异的粘合剂层(表面保护薄膜)。

作为前述环氧化合物，例如可列举出N,N,N’,N’-四缩水甘油基-间二甲苯二胺(商品名TETRAD-X、三菱瓦斯化学株式会社制造)，1,3-双(N,N-二缩水甘油基氨基甲基)环己烷(商品名TETRAD-C、三菱瓦斯化学株式会社制造)等。

作为前述三聚氰胺类树脂，可举出六羟甲基三聚氰胺等。作为氮丙啶衍生物，例如可列举出作为市售品的商品名HDU、TAZM、TAZO(以上为相互药工株式会社制造)等。

对于前述金属螯合化合物，作为金属成分，可列举出铝、铁、锡、钛、镍等，作为螯合成分，可列举出乙炔、乙酰乙酸甲酯、乳酸乙酯等。

对于本发明中使用的交联剂的含量，例如相对于前述(甲基)丙烯酸类聚合物100重量份，优选为0.01～20重量份，更优选为0.1～15重量份，进一步优选为0.5～10重量份，最优选为1～8重量份。前述含量少于0.01重量份的情况下，基于交联剂的交联形成变得不充分，所得粘合剂层的内聚力减小，有时无法获得足够的耐热性，还存在构成残胶的原因的倾向。而含量超过20重量份的情况下，聚合物的内聚力增大，流动性降低，对被粘物(例如偏光板)的润湿变得不充分，存在构成在被粘物与粘合剂层(粘合剂组合物层)之间产生鼓起的原因的倾向。此外，这些交联剂可以单独使用，还可以将2种以上混合使用。

<交联催化剂>

在前述粘合剂组合物中，可以进一步含有用于使上述任一交联反应更有效进行的交联催化剂。作为该交联催化剂，例如可以使用：二月桂酸二丁基锡、二月桂酸二辛基锡等锡系催化剂，三(乙酰丙酮)铁、三(己烷-2,4-二酮)铁、三(庚烷-2,4-二酮)铁、三(庚烷-3,5-二酮)铁、三(5-甲基己烷-2,4-二酮)铁、三(辛烷-2,4-二酮)铁、三(6-甲基庚烷-2,4-二酮)铁、三(2,6-二甲基庚烷-3,5-二酮)铁、三(壬烷-2,4-二酮)铁、三(壬烷-4,6-二酮)铁、三(2,2,6,6-四甲基庚烷-3,5-二酮)铁、三(十三烷-6,8-二酮)铁、三(1-苯基丁烷-1,3-二酮)铁、三(六氟乙酰丙酮)铁、三(乙酰乙酸乙酯)铁、三(乙酰乙酸正丙酯)铁、三(乙酰乙酸异丙酯)铁、三(乙酰乙酸正丁酯)铁、三(乙酰乙酸仲丁酯)铁、三(乙酰乙酸叔丁酯)铁、三(丙酰乙酸甲酯)铁、三(丙酰乙酸乙酯)铁、三(丙酰乙酸正丙酯)铁、三(丙酰乙酸异丙酯)铁、三(丙酰乙酸正丁酯)铁、三(丙酰乙酸仲丁酯)铁、三(丙酰乙酸叔丁酯)铁、三(乙酰乙酸苄酯)铁、三(丙二酸二甲酯)铁、三(丙二酸二乙酯)铁、三甲氧基铁、三乙氧基铁、三异丙氧基铁、氯化铁等铁系催化剂。这些交联催化剂可以是1种，也可以组合使用2种以上。

对前述交联催化剂的含量没有特别限制，例如相对于前述(甲基)丙烯酸类聚合物100重量份，优选为约0.0001～1重量份，更优选为0.001～0.5重量份。如果在前述范围内，则在形成粘合剂层后交联反应的速度快，粘合剂组合物的使用寿命也增长，是优选的方式。

进而，在前述粘合剂组合物中，可以含有其他公知的添加剂，可以根据所使用的用途而适当添加例如润滑剂、着色剂、颜料等粉体、增塑剂、增粘剂、低分子量聚合物、表面润滑剂、流平剂、抗氧化剂、防腐蚀剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、阻聚剂、硅烷偶联剂、抗静电剂、无机或有机的填充剂、金属粉、颗粒状物、箔状物等。

<带隔离体的光学用表面保护薄膜>

本发明的带隔离体的光学用表面保护薄膜(表面保护薄膜)是在基材薄膜的至少单面形成前述粘合剂层而成的，此时，粘合剂组合物的交联一般在粘合剂组合物的涂布后进行，也可以将由交联后的粘合剂组合物形成的粘合剂层转印至基材薄膜等。

此外，在基材薄膜上形成粘合剂层的方法不限，例如通过将前述粘合剂组合物(溶液)涂布于基材薄膜、干燥去除聚合溶剂等而在基材薄膜上形成粘合剂层来制作。然后，可以为了粘合剂层的成分转移的调整、交联反应的调整等而进行熟化。此外，在将粘合剂组合物涂布在基材薄膜上来制作表面保护薄膜时，为了能够在基材薄膜上均匀地涂布，可以在前述粘合剂组合物中新添加除聚合溶剂以外的一种以上溶剂。

此外，作为制造本发明的表面保护薄膜时的粘合剂层的形成方法，可使用粘合带类的制造所使用的公知的方法。具体而言，例如可列举出：辊式涂布法、照相凹版涂布法、逆转涂布法、辊刷法、喷雾涂布法、气刀涂布法、基于模涂布机等的挤出涂布法等。

本发明的表面保护薄膜通常以前述粘合剂层的厚度为3～100μm、优选为5～50μm左右的方式制作。粘合剂层的厚度如果在前述范围内，则容易获得适度的再剥离性与粘接性之间的平衡，故优选。

此外，本发明的表面保护薄膜的总厚度优选为8～300μm，更优选为10～200μm，最优选为20～100μm。如果在前述范围内，粘合特性(再剥离性、粘接性等)、作业性、外观特性优异，是优选的方式。需要说明的是，前述总厚度是指包括基材薄膜、粘合剂层、隔离体和其他层等所有层在内的厚度的总和。

<隔离体>

本发明的表面保护薄膜的特征在于，在基材薄膜的至少单面具有粘合剂层，在前述基材薄膜的与粘合剂层接触的面的相反面具有隔离体，前述隔离体具有脱模层和聚酯类基材，前述聚酯类基材具有空洞，前述聚酯类基材的厚度为25～100μm，前述隔离体的相对于前述粘合剂层的180°起始剥离力为0.7N/50mm以下。前述隔离体是为了保护粘合剂层的粘合面而在粘合剂层表面贴合的隔离体，特别是通过具有特定的厚度和空洞，能够将隔离体自身的硬度(刚性)控制得较低，使得从粘合剂层表面剥离隔离体时的剥离性、作业性优异，进而，能够赋予由空洞带来的缓冲性，能够防止有可能在粘合剂涂覆后产生的粘合剂压痕等，是优选的方式。

<聚酯类基材>

作为前述聚酯类基材(有时简称为“基材”。)，只要是能够保护前述粘合剂层、具有空洞的聚酯类薄膜，则没有特别限定，例如可列举出：聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯薄膜等。

前述聚酯类基材的厚度为25～100μm，优选为30～80μm，更优选为40～70μm。如果在前述范围内，则对粘合剂层的贴合作业性和相对于粘合剂层的剥离性、作业性优异，故优选。需要说明的是，如果基材的厚度超过100μm，则隔离体自身的硬度(刚性)增强，剥离性、作业性变差，是不优选的。

对于前述聚酯类基材，可以根据需要而对其表面实施电晕放电处理等各种表面处理，或实施压花加工等各种表面加工。此外，可以根据需要而配混填充剂(无机填充剂、有机填充剂等)、防老剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、抗静电剂、润滑剂、增塑剂、着色剂(颜料、染料等)等各种添加剂。

相对于前述聚酯类基材的体积，空洞率优选为15％(体积％)以上，更优选为18％以上，进一步优选为20％以上。通过使空洞率为15％以上，使得隔离体的缓冲性提高，能够吸收由构成光学用表面保护薄膜的基材薄膜、构成隔离体的聚酯类基材中含有的填料(例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)填料)引起的凹凸，能够抑制由隔离体等引起的残胶压痕等的产生。此外，由于隔离体的硬度(刚性)降低，因此隔离体的剥离性提高。需要说明的是，从隔离体的强度等的角度来看，作为空洞率，优选为40％以下，更优选为30％以下。

作为前述聚酯类基材的空洞的形状，为球状、椭圆球状或丝状等，优选成分散的形态。前述分散直径优选为0.01～100μm，更优选为0.05～30μm。如果在前述范围内，则隔离体有强度，缓冲性优异，隔离体的剥离性优异，故为优选的方式。需要说明的是，前述空洞的形状可以通过扫描型电子显微镜由基材截面进行观察。

<脱模层>

前述脱模层对前述聚酯类基材具有密合性，且相对于前述粘合剂层具有剥离性，可以由脱模剂组合物形成。作为前述脱模剂组合物，没有特别限制，可以使用例如二甲基硅氧烷、二苯基硅氧烷等有机硅化合物，有机硅树脂、氟树脂、ASHIO RESIN等长链烷基类化合物等。

进而，在前述脱模剂组合物中可以含有其他公知的添加剂，可以根据所使用的用途而适当添加例如抗静电剂、着色剂、颜料等粉体、表面活性剂、增塑剂、增粘剂、低分子量聚合物、表面润滑剂、流平剂、抗氧化剂、防腐蚀剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、阻聚剂、硅烷偶联剂、无机或有机的填充剂、金属粉、颗粒状物等。

<隔离体的制作>

前述隔离体是在前述聚酯类基材上使用前述脱模剂组合物而形成的。

在前述聚酯类基材上形成脱模层的方法不限，例如通过将前述脱模剂组合物的溶液涂布于基材、干燥去除聚合溶剂等而在基材上形成脱模层来制作。然后，可以为了脱模层的成分转移的调整等而进行熟化。此外，在将脱模剂组合物涂布在基材上来制作脱模层时，为了能够在基材上均匀地涂布，可以在前述脱模剂组合物中新添加除聚合溶剂以外的一种以上溶剂。

此外，作为前述脱模层的形成方法，可使用脱模层的制造所使用的公知的方法。具体而言，例如可列举出：辊式涂布法、照相凹版涂布法、逆转涂布法、辊刷法、喷雾涂布法、气刀涂布法、基于模涂布机等的挤出涂布法等。

前述脱模层的厚度典型的是1～200nm，优选为5～100nm，更优选为10～50nm。如果脱模层的厚度过小，则由脱模层带来的脱模效果弱，变得难以剥离隔离体，因此，贴合光学用表面保护薄膜的作业有可能会变困难。而如果过厚，则有时会对光学用表面保护薄膜的粘合剂层的污染性产生影响。

作为前述隔离体的市售品，例如可列举出：Crisper K7211-50μm、Crisper K7211-38μm(以上为东洋纺株式会社制造)，PET50(K2411)PAT1 8LK、PET50(K2411)PAT1 9K(以上为琳得科株式会社制造)等。

<光学用表面保护薄膜与隔离体的贴合>

本发明的带隔离体的光学用表面保护薄膜为在前述光学用表面保护薄膜的粘合剂层表面贴合前述隔离体的脱模层而成的形态。贴合可使用公知的方法。

<光学构件>

在本发明中，可以将从前述带隔离体的光学用表面保护薄膜的粘合剂层的表面剥离了前述隔离体的光学用表面保护薄膜粘贴于光学构件来保护光学构件。前述隔离体由于缓冲性优异，因此不仅不易产生压痕，剥离性也良好，此外，前述光学用表面保护薄膜由于外观品质(外观性)优异，因此可以用于加工、输送、装运时等的表面保护用途(表面保护薄膜)，因而对于保护前述光学构件(偏光板等)的表面是有用的。

实施例

以下，对与本发明相关的若干实施例进行说明，但并非旨在将本发明限定于这些具体例所示的方案。需要说明的是，以下说明中的“份”和“％”在没有特别声明的情况下为重量基准。此外，给出了表中的配混量(添加量)。

此外，以下说明中的各特性分别如下进行测定或评价。

<构成隔离体的聚酯类基材的空洞率的测定>

用扫描型电子显微镜对聚酯类基材的截面进行拍照后，将截面区域的空洞描涂在描图胶片(tracing film)上，用图像分析装置对涂好的图进行图像处理，以面积率求出空洞率(％)，将该值直接表示为空洞率(体积％)。

·所使用的扫描型电子显微镜：日立制作所制造的S-510型的扫描型电子显微镜

·所使用的图像分析处理装置：NIRECO CORPORATION制造的LUZEX IID

<隔离体厚度的测定>

隔离体的厚度(隔离体厚)是聚酯类基材和脱模层的总厚度，使用株式会社尾崎制作所制造的R1-205进行测定。

<(甲基)丙烯酸类聚合物玻璃化转变温度(Tg)的测定>

玻璃化转变温度(Tg)(℃)使用下述的文献值作为由各单体形成的均聚物的玻璃化转变温度Tgn(℃)，根据下述式求出。

式：1/(Tg+273)＝Σ[Wn/(Tgn+273)]

(式中，Tg(℃)表示共聚物的玻璃化转变温度，Wn(-)表示各单体的重量分率，Tgn(℃)表示由各单体形成的均聚物的玻璃化转变温度，n表示各单体的种类。)

文献值：

丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)：-70℃

丙烯酸丁酯(BA)：-55℃

丙烯酸2-羟乙酯(HEA)：-15℃

丙烯酸(AA)：106℃

需要说明的是，作为文献值参照了“丙烯酸类树脂的合成·设计与新用途开发”(「アクリル樹脂の合成·設計と新用途開発」，中央经营开发中心出版部(中央経営開発センター出版部)发行)。

<(甲基)丙烯酸类聚合物的重均分子量(Mw)的测定>

所使用的(甲基)丙烯酸类聚合物的重均分子量(Mw)是使用东曹株式会社制造的GPC装置(HLC-8220GPC)进行测定的。测定条件如下。

样品浓度：0.2重量％(THF溶液)

样品注入量：10μl

洗脱液：THF

流速：0.6ml/min

测定温度：40℃

色谱柱：

样品色谱柱；TSKguardcolumn SuperHZ-H(1根)+TSKgel SuperHZM-H(2根)

参比色谱柱；TSKgel SuperH-RC(1根)

检测器：差示折射计(RI)

需要说明的是，重均分子量以聚苯乙烯换算值求出。

<有无对粘合剂层表面的压痕>

在暗室荧光灯下将隔离体从光学用表面保护薄膜的粘合剂层表面剥离，使光在粘合剂层表面反射，以目视确认有无压痕。将没有压痕的情况记为○，将有压痕的情况记为×。

<隔离体的起始剥离力的测定>

如图2所示，将带隔离体的光学用表面保护薄膜3切成宽50mm、长100mm的尺寸，将构成带隔离体的光学用表面保护薄膜3的基材薄膜22的表面以0.25MPa的压力、0.3m/分钟的速度压接在贴有双面胶带4(日东电工株式会社制造、No.500)的玻璃5(S9213、松浪硝子工业株式会社制造)上。

接着，将单面粘合带6(No.720、日东电工株式会社制造、宽度50mm)切成50mm的长度。用手压辊将该单面粘合带6的粘合面以端部伸出1mm的方式压接在带隔离体的光学用表面保护薄膜3的宽度50mm的隔离体1上。将其在23℃、50％RH的条件下放置10秒钟。然后，将用Autograph沿180°方向以0.3m/分钟的速度剥离单面粘合带6时的、剥离最初受到的最大应力作为起始剥离力(N/50mm)。

前述起始剥离力(拾取力)为0.7N/50mm以下，优选为0.68N/50mm以下，进一步优选为0.65N/50mm以下。如果前述起始剥离力超过0.7N/50mm，则在使用厚的隔离体的情况下，从光学用表面保护薄膜的粘合剂层表面剥离隔离体耗费时间，剥离性、作业性变差，是不优选的。而如果起始剥离力过低，则存在无法充分保护光学用表面保护薄膜的粘合剂层表面之虞，因此优选为0.2N/50mm以上。

<(甲基)丙烯酸类聚合物(A)的制备>

向具备搅拌叶片、温度计、氮气导入管、冷凝器的四口烧瓶中，投加丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)100重量份、丙烯酸2-羟乙酯(HEA)4重量份、作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二异丁腈(AIBN)0.2重量份、醋酸乙酯205重量份，边缓慢搅拌边通入氮气，将烧瓶内的液温保持在63℃附近进行约4小时的聚合反应，制得(甲基)丙烯酸类聚合物(A)溶液(约35重量％)。前述(甲基)丙烯酸类聚合物(A)的重均分子量为65万，Tg为-68℃。

<(甲基)丙烯酸类聚合物(B)的制备>

向具备搅拌叶片、温度计、氮气导入管、冷凝器的四口烧瓶中，投加丙烯酸丁酯(BA)95重量份、丙烯酸(AA)5重量份、作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二异丁腈0.1重量份、醋酸乙酯234重量份，边缓慢搅拌边通入氮气，将烧瓶内的液温保持在65℃附近进行6小时的聚合反应，制得(甲基)丙烯酸类聚合物(B)溶液(30重量％)。前述(甲基)丙烯酸类聚合物(B)的重均分子量(Mw)为110万，玻璃化转变温度(Tg)为-47℃。

[丙烯酸类粘合剂(1)溶液的制备]

将上述(甲基)丙烯酸类聚合物(A)溶液(35重量％)用醋酸乙酯稀释至29重量％，在该溶液500重量份(固体成分100重量份)中，加入作为交联剂的属于3官能异氰酸酯化合物的六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯体(CORONATE HX：C/HX、日本聚氨酯株式会社制造)4重量份(固体成分4重量份)、作为交联催化剂的二月桂酸二丁基锡(表2中的“Sn”、1重量％醋酸乙酯溶液)1.5重量份(固体成分0.015重量份)，保持在25℃附近进行约1分钟的混合搅拌，制得丙烯酸类粘合剂(1)溶液。

[丙烯酸类粘合剂(2)溶液的制备]

将上述(甲基)丙烯酸类聚合物(B)溶液(30重量％)用醋酸乙酯稀释至29重量％，在该溶液500重量份(固体成分100重量份)中，加入作为交联剂的环氧系交联剂(1,3-双(N,N-二缩水甘油基氨基甲基)环己烷、环氧当量：110、官能团数：4、商品名“TETRAD-C”：T/C、三菱瓦斯化学株式会社制造)6重量份(固体成分6重量份)，进行混合搅拌，制得丙烯酸类粘合剂(2)溶液。

[丙烯酸类粘合剂(3)溶液的制备]

将上述(甲基)丙烯酸类聚合物(A)溶液(35重量％)用醋酸乙酯稀释至29重量％，在该溶液500重量份(固体成分100重量份)中，加入作为交联剂的异氰酸酯类交联剂(六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯体(商品名“CORONATE HX”：C/HX、日本聚氨酯株式会社制造)5重量份(固体成分5重量份)、作为交联催化剂的二月桂酸二丁基锡(1重量％醋酸乙酯溶液)3重量份(固体成分0.03重量份)、作为添加剂的不含有机聚硅氧烷的含聚氧亚烷基链化合物(Aquaron HS-10、第一工业制药株式会社制造)0.3重量份(固体成分0.3重量份)，进行混合搅拌，制得丙烯酸类粘合剂(3)溶液。

<实施例1>

[抗静电处理薄膜的制作]

将抗静电剂(SOLVEX INC.制造、MICRO-SOLVER RMd-142、以氧化锡和聚酯树脂作为主要成分)10重量份用由水30重量份和甲醇70重量份形成的混合溶剂稀释，由此制得抗静电剂溶液。

使用迈耶绕线棒将所得抗静电剂溶液涂布在作为基材薄膜的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜(厚度：38μm)上，通过在130℃下干燥1分钟来去除溶剂，形成抗静电层(厚度：0.2μm)，制得抗静电处理薄膜。

[带隔离体的光学用表面保护薄膜的制作]

将上述丙烯酸类粘合剂(1)溶液涂布在上述抗静电处理薄膜的与抗静电处理面相反的面，在130℃下加热2分钟，形成厚度15μm的粘合剂层。接着，在上述粘合剂层的表面贴合作为对单面实施了有机硅处理的隔离体的Crisper K7211-50μm(东洋纺株式会社制造、聚酯类基材的比重：1.1g/cm³、聚酯类基材的空洞率：20％、厚度50μm)的有机硅处理面，制得带隔离体的光学用表面保护薄膜。

<实施例2～5、比较例1～4>

如表2所示，使用实施例1中使用的丙烯酸类粘合剂(1)溶液、或代替其而使用丙烯酸类粘合剂(2)溶液、丙烯酸类粘合剂(3)溶液，使用表3记载的隔离体，除此之外按与实施例1同样的方法制得带隔离体的光学用表面保护薄膜。

针对实施例和比较例的带隔离体的光学用表面保护薄膜，进行上述配混内容、各种测定和评价，结果示于表1～表3。需要说明的是，表中的配混量表示有效成分。

[表1]

[表2]

[表3]

由上述表3可确认到，在所有实施例中，通过使构成隔离体的聚酯类基材的空洞率、厚度在所期望的范围，使得剥离性、作业性优异，进而还能够防止压痕的产生。此外，在实施例中，由于在粘合剂层表面未产生压痕，因此在贴合于被粘物时不会进入气泡，能够提供在将光学用表面保护薄膜贴合于被粘物的状态下的检查时检查性优异的光学用表面保护薄膜。另一方面，比较例1～3中，构成隔离体的聚酯类基材的空洞率未落入所期望的范围，因此隔离体的硬度(刚性)强，剥离性、作业性差，比较例4中，聚酯类基材的厚度未落入所期望的范围，因此未能表现出缓冲性，确认到由隔离体引起的压痕的产生。

产业上的可利用性

此处公开的带隔离体的光学用表面保护薄膜适宜作为在作为液晶显示器面板、等离子体显示器面板(PDP)、有机电致发光(EL)显示器等的构成要素使用的光学构件的制造时、输送时等用于保护该光学构件的表面保护薄膜。特别是作为应用于液晶显示器面板用的偏光板(偏光薄膜)、波长板、相位差板、光学补偿薄膜、增亮薄膜、光扩散片、反射片等光学构件的光学用表面保护薄膜是有用的。

附图标记说明

1：隔离体

2：光学用表面保护薄膜

3：带隔离体的光学用表面保护薄膜

4：双面粘合带

5：玻璃

6：单面粘合带

11：聚酯类基材

12：脱模层

21：粘合剂层

22：基材薄膜

Claims

1.一种带隔离体的光学用表面保护薄膜，其特征在于，具有：在基材薄膜的至少单面具有粘合剂层的光学用表面保护薄膜、以及在所述基材薄膜的与粘合剂层接触的面的相反面具有的隔离体，

所述隔离体具有脱模层和聚酯类基材，

所述聚酯类基材具有空洞，

所述聚酯类基材的厚度为25～100μm，

所述隔离体的相对于所述粘合剂层的180°起始剥离力为0.7N/50mm以下。

2.根据权利要求1所述的带隔离体的光学用表面保护薄膜，其特征在于，相对于所述聚酯类基材的体积，空洞率为15％以上。

3.根据权利要求1或2所述的带隔离体的光学用表面保护薄膜，其特征在于，所述基材薄膜为聚酯薄膜。

4.根据权利要求1～3中的任一项所述的带隔离体的光学用表面保护薄膜，其特征在于，所述粘合剂层由含有(甲基)丙烯酸类聚合物的粘合剂组合物形成。