CN110104962A - 一种低辐射镀膜玻璃及其制备工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种低辐射镀膜玻璃以及制备工艺，属于节能与新能源用材料制备技术领域，包括玻璃基片以及由玻璃基片向外依次设置的第一层金属锡、第二层金属锌、第三层金属银、第四层金属钛、第五层金属锌、第六层金属锡和第七层金属锡。本发明所述的低辐射镀膜玻璃，通过设置合理的生产工序步骤，使得生产的低辐射镀膜玻璃达到反射率的要求，使得低辐射镀膜玻璃具有良好的外观颜色，在相同可见光透过率的情况下，通透性更强，并且具有良好的光学、热血性能，能满足和提升现有市场对低辐射镀膜玻璃的要求；设置的工艺过程合理，能够保证生产产品品质的同时，提高生产效率。

Description

一种低辐射镀膜玻璃及其制备工艺
技术领域
本发明属于节能与新能源用材料制备技术领域，特别涉及一种低辐射镀膜玻璃。本发明还涉及一种低辐射镀膜玻璃的制备工艺。
背景技术
镀膜玻璃(Reflectiveglass)也称反射玻璃，是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求。镀膜玻璃按产品的不同特性，可分为以下几类：热反射玻璃、低辐射玻璃(Low-E)、导电膜玻璃等。
低辐射玻璃是在玻璃表面镀多层银、铜或锡等金属或其化合物组成的薄膜系，产品对可见光有较高的透射率，对红外线有很高的反射率，具有良好的隔热性能，主要用于建筑和汽车、船舶等交通工具，由于膜层强度较差，一般都制成中空玻璃使用。可见光反射率达到25%以上低辐射镀膜玻璃，在建筑幕墙上应用比较普遍，但是这类产品生产有一定难度。
发明内容
发明目的：为了克服以上不足，本发明的目的是提供一种低辐射镀膜玻璃，通过在玻璃表面采用溅射工艺形成合理的镀层分布，提高了玻璃的反射率、耐磨、隔音等性能。本发明还提供一种低辐射镀膜玻璃的制备工艺，工作原理简单易行，产品质量明显提高，并且提高了生产效率，适合工业大规模应用。
技术方案：一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片、第一层金属锡、第二层金属锌、第三层金属银、第四层金属钛、第五层金属锌、第六层金属锡和第七层金属锡，所述第一层金属锡、第二层金属锌、第三层金属银、第四层金属钛、第五层金属锌、第六层金属锡和第七层金属锡自玻璃基片向外依次设置，所述玻璃基片为6MM厚的白玻璃。
本发明还提供一种低辐射镀膜玻璃的制备工艺，包括以下步骤：
1）选择玻璃基片，将玻璃基片裁切为规定尺寸，放置在输送带上，随着输送带的运送玻璃基片进入清洗室，采用清洗机将玻璃基片清洗干净；
2）清洗干净的玻璃基片随着输送带的运送，进入真空干燥箱中进行干燥；
3）干燥后的玻璃，随着输送带的输送进行1#镀膜室，采用旋转阴极在玻璃基片上溅射第一层金属锡，真空磁控溅射镀膜设备的功率为4.3~4.5KW；
4）在1#镀膜室内，步骤3）中的镀膜完成的玻璃基片，采用旋转阴极溅射第二层金属锌，真空磁控溅射镀膜设备的功率为2.0~2.5KW；
5）步骤4）中第二层金属锌镀膜完成，输送带启动，将玻璃基片输送至2#镀膜室，采用平面阴极溅射第三层金属银，真空磁控溅射镀膜设备的功率为22.0~22.2KW；
6）在2#镀膜室内，步骤5）中镀膜完成的玻璃基片，采用平面阴极溅射第四层金属钛，真空磁控溅射镀膜设备的功率为76.0~76.5KW；
7）步骤6）中第四层金属钛镀膜完成，输送带启动，将玻璃基片输送至3#镀膜室，采用旋转阴极溅射第五层金属锌，真空磁控溅射镀膜设备的功率为7.9~8.1KW；
8）在3#镀膜室内，步骤7）镀膜完成的玻璃基片，采用旋转阴极溅射第六层金属锡，真空磁控溅射镀膜设备的功率为4.9~5.1KW；
9）在3#镀膜室内，步骤8）镀膜完成的玻璃基片，采用旋转阴极溅射第七层金属锡，真空磁控溅射镀膜设备的功率为9.9~10.1KW；
10）3#镀膜室内镀膜完成，输送带启动，将玻璃基片输送至检测室，进行低辐射镀膜玻璃的合格检测。
进一步的，上述的低辐射镀膜玻璃的制备工艺，上述步骤1）具体包括：将玻璃基片输送至清洗室内，然后用去离子水和清洗液，进行超声波清洗15min。
进一步的，上述的低辐射镀膜玻璃的制备工艺，上述1#镀膜室内具体为：采用气体成分为氩：氧体积比为=8:100，在真空条件下，保持气体压力为2.5bar状态下溅射。
进一步的，上述的低辐射镀膜玻璃的制备工艺，上述2#镀膜室内具体为：采用气体成分为纯氩，在真空条件下，保持气体压力为3.0bar状态下溅射。
进一步的，上述的低辐射镀膜玻璃的制备工艺，上述3#镀膜室内具体为：采用气体成分为氩：氧体积比为=8:100，在真空条件下，保持气体压力为2.5bar状态下溅射。
进一步的，上述的低辐射镀膜玻璃的制备工艺，上述1#镀膜室、2#镀膜室和3#镀膜室内真空室速度为150cm/min。
进一步的，上述的低辐射镀膜玻璃的制备工艺，上述步骤2）干燥具体包括：输送带运输玻璃基片进入真空干燥箱，真空干燥箱内在控制器内设定干燥充分真空度上限值和真空度变化幅度参考值，将真空干燥箱内的气体抽净使真空干燥箱真空度降至最低真空度值， 然后将真空干燥箱回复至初始状态后再重新将真空干燥箱内的气体抽净 使真空干燥箱真空度在降至最低真空度值，如此反复，直至用真空计实时测量真空干燥箱内真空度并传递给控制器，控制器计算出前后两次的最低真空度差值，当真空计测量到的真空度值低于设定的干燥充分真空度上限值且前后两次的最低真空度差值连续在设定的真空度变化幅度参考值范围内，则判断产品已经干燥充分，停止干燥，否则继续干燥。
进一步的，上述的低辐射镀膜玻璃的制备工艺，上述步骤10）检测具体包括：获取低辐射镀膜玻璃的低辐射薄膜自身实时的性能参数值；及判断所述实时的性能参数值相对于所述低辐射镀膜玻璃被破坏前对应的性能参数值的变化量大于设定阈值时，通过报警装置发出报警信号；其中，所述低辐射镀膜玻璃被破坏前对应的所述性能参数值不同于所述低辐射薄膜被破坏后对应的所述性能参数值。
进一步的，上述的低辐射镀膜玻璃的制备工艺，上述步骤1）中还包括：观察：将清洗后玻璃输送至观察室进行观察，将合格的玻璃基片输送至下一工序，将不合格的玻璃基片返回至清洗处理步骤，观察玻璃表面有无水渍、油渍，清洗的是否干净。
上述技术方案可以看出，本发明具有如下有益效果：本发明所述的低辐射镀膜玻璃，通过设置合理的生产工序步骤，使得生产的低辐射镀膜玻璃达到反射率的要求，使得低辐射镀膜玻璃具有良好的外观颜色，在相同可见光透过率的情况下，通透性更强，并且具有良好的光学、热血性能，能满足和提升现有市场对低辐射镀膜玻璃的要求；设置的工艺过程合理，能够保证生产产品品质的同时，提高生产效率。
附图说明
图1为本发明所述的低辐射镀膜玻璃的结构示意图。
图中：玻璃基片1、第一层金属锡2、第二层金属锌3、第三层金属银4、第四层金属钛5、第五层金属锌6、第六层金属锡7、第七层金属锡8。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
实施例
如图1所示的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片1、第一层金属锡2、第二层金属锌3、第三层金属银4、第四层金属钛5、第五层金属锌6、第六层金属锡7和第七层金属锡8，所述第一层金属锡2、第二层金属锌3、第三层金属银4、第四层金属钛5、第五层金属锌6、第六层金属锡7和第七层金属锡8自玻璃基片1向外依次设置，所述玻璃基片1为6MM厚的白玻璃。研究低辐射镀膜玻璃的膜层厚度，根据电介质膜层材料调整，银层增厚，因此整个膜层结构是全新的，除了膜层的关键理化性能之外，镀膜玻璃的室内外颜色均匀性，颜色色调也是重要的产品指标，需经过工艺调整满足产品要求，符合后续加工和应用要求。通过下述生产工艺能够生产复合规定要求的低辐射镀膜玻璃。
本发明一种低辐射镀膜玻璃的制备工艺，包括以下步骤：
1）选择玻璃基片1，将玻璃基片1裁切为规定尺寸，放置在输送带上，随着输送带的运送玻璃基片1进入清洗室，采用清洗机将玻璃基片1清洗干净；
2）清洗干净的玻璃基片1随着输送带的运送，进入真空干燥箱中进行干燥；
3）干燥后的玻璃，随着输送带的输送进行1#镀膜室，采用旋转阴极在玻璃基片1上溅射第一层金属锡2，真空磁控溅射镀膜设备的功率为4.3~4.5KW；
4）在1#镀膜室内，步骤3中的镀膜完成的玻璃基片1，采用旋转阴极溅射第二层金属锌3，真空磁控溅射镀膜设备的功率为2.0~2.5KW；
5）步骤4中第二层金属锌3镀膜完成，输送带启动，将玻璃基片1输送至2#镀膜室，采用平面阴极溅射第三层金属银4，真空磁控溅射镀膜设备的功率为22.0~22.2KW；
6）在2#镀膜室内，步骤5中镀膜完成的玻璃基片1，采用平面阴极溅射第四层金属钛5，真空磁控溅射镀膜设备的功率为76.0~76.5KW；
7）步骤6中第四层金属钛5镀膜完成，输送带启动，将玻璃基片1输送至3#镀膜室，采用旋转阴极溅射第五层金属锌6，真空磁控溅射镀膜设备的功率为7.9~8.1KW；
8）在3#镀膜室内，步骤7镀膜完成的玻璃基片1，采用旋转阴极溅射第六层金属锡7，真空磁控溅射镀膜设备的功率为4.9~5.1KW；
9）在3#镀膜室内，步骤8镀膜完成的玻璃基片1，采用旋转阴极溅射第七层金属锡8，真空磁控溅射镀膜设备的功率为9.9~10.1KW；
10）3#镀膜室内镀膜完成，输送带启动，将玻璃基片1输送至检测室，进行低辐射镀膜玻璃的合格检测。
其中，上述步骤1）具体包括：将玻璃基片1输送至清洗室内，然后用去离子水和清洗液，进行超声波清洗15min。
上述1#镀膜室内具体为：采用气体成分为氩：氧体积比为=8:100，在真空条件下，保持气体压力为2.5bar状态下溅射。
上述2#镀膜室内具体为：采用气体成分为纯氩，在真空条件下，保持气体压力为3.0bar状态下溅射。
上述3#镀膜室内具体为：采用气体成分为氩：氧体积比为=8:100，在真空条件下，保持气体压力为2.5bar状态下溅射。
上述1#镀膜室、2#镀膜室和3#镀膜室内真空室速度为150cm/min。
上述步骤2）干燥具体包括：输送带运输玻璃基片1进入真空干燥箱，真空干燥箱内在控制器内设定干燥充分真空度上限值和真空度变化幅度参考值，将真空干燥箱内的气体抽净使真空干燥箱真空度降至最低真空度值， 然后将真空干燥箱回复至初始状态后再重新将真空干燥箱内的气体抽净 使真空干燥箱真空度在降至最低真空度值，如此反复，直至用真空计实时测量真空干燥箱内真空度并传递给控制器，控制器计算出前后两次的最低真空度差值，当真空计测量到的真空度值低于设定的干燥充分真空度上限值且前后两次的最低真空度差值连续在设定的真空度变化幅度参考值范围内，则判断产品已经干燥充分，停止干燥，否则继续干燥。
上述步骤10）检测具体包括：获取低辐射镀膜玻璃的低辐射薄膜自身实时的性能参数值；及判断所述实时的性能参数值相对于所述低辐射镀膜玻璃被破坏前对应的性能参数值的变化量大于设定阈值时，通过报警装置发出报警信号；其中，所述低辐射镀膜玻璃被破坏前对应的所述性能参数值不同于所述低辐射薄膜被破坏后对应的所述性能参数值。
上述步骤1）中还包括：观察：将清洗后玻璃输送至观察室进行观察，将合格的玻璃基片1输送至下一工序，将不合格的玻璃基片1返回至清洗处理步骤，观察玻璃表面有无水渍、油渍，清洗的是否干净。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进，这些改进也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：包括玻璃基片（1）、第一层金属锡（2）、第二层金属锌（3）、第三层金属银（4）、第四层金属钛（5）、第五层金属锌（6）、第六层金属锡（7）和第七层金属锡（8），所述第一层金属锡（2）、第二层金属锌（3）、第三层金属银（4）、第四层金属钛（5）、第五层金属锌（6）、第六层金属锡（7）和第七层金属锡（8）自玻璃基片（1）向外依次设置，所述玻璃基片（1）为6MM厚的白玻璃。
2.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：包括以下步骤：
1）选择玻璃基片（1），将玻璃基片（1）裁切为规定尺寸，放置在输送带上，随着输送带的运送玻璃基片（1）进入清洗室，采用清洗机将玻璃基片（1）清洗干净；
2）清洗干净的玻璃基片（1）随着输送带的运送，进入真空干燥箱中进行干燥；
3）干燥后的玻璃，随着输送带的输送进行1#镀膜室，采用旋转阴极在玻璃基片（1）上溅射第一层金属锡（2），真空磁控溅射镀膜设备的功率为4.3~4.5KW；
4）在1#镀膜室内，步骤3）中的镀膜完成的玻璃基片（1），采用旋转阴极溅射第二层金属锌（3），真空磁控溅射镀膜设备的功率为2.0~2.5KW；
5）步骤4）中第二层金属锌（3）镀膜完成，输送带启动，将玻璃基片（1）输送至2#镀膜室，采用平面阴极溅射第三层金属银（4），真空磁控溅射镀膜设备的功率为22.0~22.2KW；
6）在2#镀膜室内，步骤5）中镀膜完成的玻璃基片（1），采用平面阴极溅射第四层金属钛（5），真空磁控溅射镀膜设备的功率为76.0~76.5KW；
7）步骤6）中第四层金属钛（5）镀膜完成，输送带启动，将玻璃基片（1）输送至3#镀膜室，采用旋转阴极溅射第五层金属锌（6），真空磁控溅射镀膜设备的功率为7.9~8.1KW；
8）在3#镀膜室内，步骤7）镀膜完成的玻璃基片（1），采用旋转阴极溅射第六层金属锡（7），真空磁控溅射镀膜设备的功率为4.9~5.1KW；
9）在3#镀膜室内，步骤8）镀膜完成的玻璃基片（1），采用旋转阴极溅射第七层金属锡（8），真空磁控溅射镀膜设备的功率为9.9~10.1KW；
10）3#镀膜室内镀膜完成，输送带启动，将玻璃基片（1）输送至检测室，进行低辐射镀膜玻璃的合格检测。
3.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：上述步骤1）具体包括：将玻璃基片（1）输送至清洗室内，然后用去离子水和清洗液，进行超声波清洗15min。
4.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：上述1#镀膜室内具体为：采用气体成分为氩：氧体积比为=8:100，在真空条件下，保持气体压力为2.5bar状态下溅射。
5.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：上述2#镀膜室内具体为：采用气体成分为纯氩，在真空条件下，保持气体压力为3.0bar状态下溅射。
6.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：上述3#镀膜室内具体为：采用气体成分为氩：氧体积比为=8:100，在真空条件下，保持气体压力为2.5bar状态下溅射。
7.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：上述1#镀膜室、2#镀膜室和3#镀膜室内真空室速度为150cm/min。
8.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：上述步骤2）干燥具体包括：输送带运输玻璃基片（1）进入真空干燥箱，真空干燥箱内在控制器内设定干燥充分真空度上限值和真空度变化幅度参考值，将真空干燥箱内的气体抽净使真空干燥箱真空度降至最低真空度值， 然后将真空干燥箱回复至初始状态后再重新将真空干燥箱内的气体抽净 使真空干燥箱真空度在降至最低真空度值，如此反复，直至用真空计实时测量真空干燥箱内真空度并传递给控制器，控制器计算出前后两次的最低真空度差值，当真空计测量到的真空度值低于设定的干燥充分真空度上限值且前后两次的最低真空度差值连续在设定的真空度变化幅度参考值范围内，则判断产品已经干燥充分，停止干燥，否则继续干燥。
9.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：上述步骤10）检测具体包括：获取低辐射镀膜玻璃的低辐射薄膜自身实时的性能参数值；及判断所述实时的性能参数值相对于所述低辐射镀膜玻璃被破坏前对应的性能参数值的变化量大于设定阈值时，通过报警装置发出报警信号；其中，所述低辐射镀膜玻璃被破坏前对应的所述性能参数值不同于所述低辐射薄膜被破坏后对应的所述性能参数值。
10.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：上述步骤1）中还包括：观察：将清洗后玻璃输送至观察室进行观察，将合格的玻璃基片（1）输送至下一工序，将不合格的玻璃基片（1）返回至清洗处理步骤，观察玻璃表面有无水渍、油渍，清洗的是否干净。
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CN111769251A (zh) * 2020-04-10 2020-10-13 上海大学 金属电极的保护方法

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