CN106495503A - 一种低辐射镀膜玻璃 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片，自所述玻璃基片的表面向外依次沉积形成第一电介质层、低辐射层、第二电介质层及保护层，在第一电介质层与低辐射层之间还设有稳定电介质层，所述稳定电介质层为ZnO或NiCr膜层结构，ZnO膜层厚度为7‑11nm，NiCr膜层为3‑9nm；所述低辐射层为AgTi膜层结构，AgTi膜层厚度为12‑20nm。本发明通过采用的低辐射层为AgTi膜沉积而成，并在第一电介质层与低辐射层之间还设有稳定电介质层，使得制得的镀膜玻璃不仅具有很低的辐射率和较高遮蔽系数，能够最大限度地利用太阳能。此外，还使镀膜玻璃的内部具有优良、稳定的物理特性性，使用寿命大大延长。

Description

一种低辐射镀膜玻璃
技术领域
本发明涉及一种玻璃产品，具体涉及一种低辐射镀膜玻璃。
背景技术
镀膜玻璃(Reflective glass)也称反射玻璃。镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能来满足某种特定要求。镀膜玻璃按产品的不同特性，可分为热反射玻璃、低辐射玻璃(Low-E)、导电膜玻璃等。应提倡国家的节能环保及减排的要求，低辐射玻璃的使用最为普遍。
低辐射玻璃也称Low-E玻璃，它是采用真空磁控溅射方法在玻璃表面上镀上含有一层或两层甚至三层银层的膜系，来降低能量吸收或控制室内外能量交换，保障生活、工作的舒适性，并以此达到环保节能的目的。在建筑应用中，Low-E玻璃的使用可以达到“冬暖夏凉”的效果，具有优异的隔热、保温性能效果。与普通单层玻璃相比，低辐射镀膜玻璃可以节能60％以上，可广泛应用于建筑门窗及车窗上。应消费者的需求，目前市场上各种功能结构的低辐射镀膜玻璃，如授权公告号为CN101585667B的中国发明专利公开了一种可烘弯低辐射镀膜玻璃，其膜层结构自玻璃基板向外依次为：玻璃基板、过渡层、第一电介质层、低辐射层、第二电介质层及保护层；所述第一电介质层为ZnSnOx/TiOy膜层结构，ZnSnOx膜层厚度为30-40nm，TiOy膜层厚度为1.5-3nm；所述第二层电介质层为TiOy/ZnSnOx膜层结构，TiOy膜层厚度为1.5-3nm，ZnSnOx膜层厚度为30-40nm。该结构的低辐射镀膜玻璃虽然具有较高的沉积效率和耐烘弯的特点，但其膜层的均匀性差、透光性不够高以及低辐射层(即银膜层)的稳定性较差，大大影响了玻璃制品的使用寿命。此外，上述镀膜玻璃的隔热保温效果较差，并不适用于高纬度的寒冷地区使用。
发明内容
针对上述的不足，本发明所要解决的技术问题是提供一种结构简单、使用寿命长的低辐射镀膜玻璃，它不仅具有低辐射率、透光性高的特点，还有较好的隔热保温效果。
为达到上述目的，本发明通过以下技术方案实现：
一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片，自所述玻璃基片的表面向外依次沉积形成第一电介质层、低辐射层、第二电介质层及保护层，在第一电介质层与低辐射层之间还设有稳定电介质层，所述稳定电介质层为ZnO或NiCr膜层结构，ZnO膜层厚度为7-11nm，NiCr膜层为3-9nm；所述低辐射层为AgTi膜层结构，AgTi膜层厚度为12-20nm。
上述方案中，进一步地，所述第一电介质层可以为TiO2或SnO2膜层结构，TiO2膜层厚度为2-5nm，SnO2膜层厚度为6-10nm。
上述方案中，进一步地，所述第二电介质层可以为ZnO膜层结构，ZnO膜层厚度为15-28nm。
上述方案中，所述保护层可以为TiO2或SnO2膜层结构，TiO2膜层厚度为8-15nm，SnO2膜层厚度为5-12nm。
上述方案中，所述玻璃基片可以为浮法玻璃，为提高镀膜玻璃的隔热效果，可在与低辐射层相对的表面上设有一层透明隔热薄膜。
上述方案中，所述玻璃基片可以为中空玻璃。
本发明的有益效果为：
1、本发明通过采用的低辐射层为AgTi膜沉积而成，并在在第一电介质层与低辐射层之间还设有稳定电介质层，使得制得的镀膜玻璃不仅具有很低的辐射率和较高遮蔽系数，能够最大限度地利用太阳能；此外，还使镀膜玻璃的内部具有优良、稳定的物理特性性，使用寿命大大延长；
2、本发明采用的玻璃基片为中空玻璃或内侧面设有透明隔热薄膜的浮法玻璃，有效地增强了镀膜玻璃的隔热隔音效果，适用于冬季寒冷的北方地区。
附图说明
图1为本低辐射镀膜玻璃内部的一种剖视结构示意图。
图2为本低辐射镀膜玻璃内部的另一种剖视结构示意图。
图中标号为：1、玻璃基片，2、第一电介质层，3、稳定电介质层，4、低辐射层，5、第二电介质层，6、保护层，7、透明隔热薄膜。
具体实施方式
下面结合具体实施例和附图对本发明作进一步的解释说明，但不用以限制本发明。
实施例1
如图1所示，一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片1，自所述玻璃基片1的表面向外依次沉积形成第一电介质层2、低辐射层4、第二电介质层5及保护层6，在第一电介质层2与低辐射层4之间还设有稳定电介质层3。本实施例中，所述稳定电介质层3为ZnO或NiCr膜层结构，其中ZnO膜层厚度为7-11nm，NiCr膜层为3-9nm。所采用的低辐射层4具体为AgTi膜层结构，AgTi膜层厚度为12-20nm。
进一步地，所述第一电介质层2具体为TiO2或SnO2膜层结构，TiO2膜层厚度为2-5nm，SnO2膜层厚度为6-10nm。所述第二电介质层5具体为ZnO膜层结构，ZnO膜层厚度为15-28nm。而所采用的保护层6具体为TiO2或SnO2膜层结构，TiO2膜层厚度为8-15nm，SnO2膜层厚度为5-12nm。
本实施例中，所述玻璃基片1具体为中空玻璃。充分利用中空玻璃具有良好的光学性能、保温隔热及放结露的特性。
实施例2
如图2所示，与实施例1所不同的是，所述低辐射镀膜玻璃上采用的玻璃基片1具体为浮法玻璃，并在与低辐射层4相对的表面上设有一层透明隔热薄膜7。所述透明隔热薄膜7可以为现有纳米ITO薄膜。
本结构的低辐射镀膜玻璃，可见光透射比能够保持在80-84％之间，辐射率却可以降至0.05-0.06，可与现有双银膜系玻璃相比，遮蔽系数较高，能够更多地利用太阳能，非常适用于冬季寒冷的北方地区。
以上仅为说明本发明的实施方式，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片(1)，自所述玻璃基片(1)的表面向外依次沉积形成第一电介质层(2)、低辐射层(4)、第二电介质层(5)及保护层(6)，其特征在于：在第一电介质层(2)与低辐射层(4)之间还设有稳定电介质层(3)，所述稳定电介质层(3)为ZnO或NiCr膜层结构，ZnO膜层厚度为7-11nm，NiCr膜层为3-9nm；所述低辐射层(4)为AgTi膜层结构，AgTi膜层厚度为12-20nm。
2.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质层(2)为TiO2或SnO2膜层结构，TiO2膜层厚度为2-5nm，SnO2膜层厚度为6-10nm。
3.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二电介质层(5)为ZnO膜层结构，ZnO膜层厚度为15-28nm。
4.根据权利要求3所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述保护层(6)为TiO2或SnO2膜层结构，TiO2膜层厚度为8-15nm，SnO2膜层厚度为5-12nm。
5.根据权利要求1-4任一项所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片(1)为浮法玻璃，且在与低辐射层(4)相对的表面上设有一层透明隔热薄膜(7)。
6.根据权利要求1-4任一项所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片(1)为中空玻璃。
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