CN109971017B - 抗反射膜及其制作方法、显示面板 - Google Patents

抗反射膜及其制作方法、显示面板 Download PDF

Info

Publication number
CN109971017B
CN109971017B CN201910219069.6A CN201910219069A CN109971017B CN 109971017 B CN109971017 B CN 109971017B CN 201910219069 A CN201910219069 A CN 201910219069A CN 109971017 B CN109971017 B CN 109971017B
Authority
CN
China
Prior art keywords
copolymer
film
antireflection film
azobenzene
oligomer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201910219069.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109971017A (zh
Inventor
韦宏权
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL Huaxing Photoelectric Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201910219069.6A priority Critical patent/CN109971017B/zh
Priority to PCT/CN2019/081668 priority patent/WO2020186570A1/zh
Publication of CN109971017A publication Critical patent/CN109971017A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN109971017B publication Critical patent/CN109971017B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
    • C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
    • C03C17/32—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with synthetic or natural resins
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/12—Chemical modification
    • C08J7/123—Treatment by wave energy or particle radiation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
    • C03C2217/732—Anti-reflective coatings with specific characteristics made of a single layer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/32—After-treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2367/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
    • C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2369/00—Characterised by the use of polycarbonates; Derivatives of polycarbonates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2379/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
    • C08J2379/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08J2379/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2433/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2433/14—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

本发明提供一种抗反射膜及其制作方法、显示面板。本发明的抗反射膜的制作方法，通过利用共聚物的微相分离形成具有蛾眼结构的抗反射膜，该共聚物由光响应型的偶氮苯类低聚物和非光响应型的氰基联苯类低聚物共聚而成，该制作方法首先在基板表面形成共聚物薄膜，然后对共聚物薄膜同时进行加热和紫外光照射，由于共聚物中的偶氮苯类低聚物链段具有光响应的特性，会在紫外光照射下发生再定向的过程，变成垂直排列，而氰基联苯类低聚物链段则不发生变化，为水平排列，使得共聚物发生微相分离，从而在该共聚物薄膜表面形成纳米尺寸的微凸起结构，便可得到具有优异抗反射性的蛾眼结构的抗反射膜，进而利用该抗反射膜可得到具有低反射率的显示面板，该制作方法的工艺简单，成本低廉，无需复杂昂贵设备，生产效率高。

Description

抗反射膜及其制作方法、显示面板
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种抗反射膜及其制作方法、显示面板。
背景技术
对于电子显示器的表面，要求其具有防损伤功能、防外光映入功能等各种功能，而作为实现防外光映入功能的方法，可以举出如下方法：在显示面板表面覆盖低反射(LowReflection，LR)层，但是，由于不同层之间的反射作用不同，如LR层与空气，LR层与偏光片，显示面板上的反射光不会被LR层完全抵消。因此，仅通过进行LR处理，显示面板还是以一定的反射率反射周围光，因此，当光源映入显示面板中，将非常难以看清显示画面。因此，又需要进一步对显示面板进行防眩(Anti Glare，AG)处理，所述防眩处理是在显示面板表面形成细微的凹凸图案，用光的散射效果来防止外光映入，但AG处理又容易使显示变得模糊。
1967年Bernhard等人首次发现了蛾眼(Moth-eye)的微纳米结构，此类结构具有较好的抗反射特性，受到人们的广泛研究。蛾眼结构作为利用与LR处理和AG处理不同的方法进一步改善明亮处的视觉识别性的技术，无需使用光干涉就能够得到超防反射效果，是在需进行防反射处理的物品表面将比AG处理时更微细的、可见光波长以下的具有纳米尺寸的间隔的凹凸图案无间隙地排列的结构，由于其纳米尺寸的效应，具有超低的反射率，从而可以将该物品表面的光反射几乎完全消除。
目前在基板上制备蛾眼微纳米结构的方法主要由电子束刻蚀法、光刻法、纳米压印法和高分子共聚等方法，上述刻蚀法、光刻法、纳米压印法在制备蛾眼微纳米结构时生产工艺复杂，技术要求较高，而且需要较为昂贵的设备成本；而高分子共聚的方法，作为最近几年新兴的制备工艺，虽然生产工艺简单，但其需要退火过程，从而获得微纳米结构的表面，但通常退火过程需要持续一周，甚至一个月的时间，方可获得均一的微纳米表面，生产效率大大降低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种抗反射膜的制作方法，利用共聚物的微相分离制作具有蛾眼结构的抗反射膜，工艺简单，生产成本低，且生产效率高。
本发明的目的还在于提供一种抗反射膜，具有优异抗反射特性的蛾眼结构，且制作方法简单。
本发明的目的又在于提供一种显示面板，采用上述的抗反射膜，具有超低反射率。
为实现上述目的，本发明提供一种抗反射膜的制作方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供基板及共聚物溶液，在所述基板表面涂覆共聚物溶液；
所述共聚物溶液包括溶剂及共聚物，所述共聚物由偶氮苯类低聚物和氰基联苯类低聚物共聚而成，其中，该偶氮苯类低聚物具有光响应性；
步骤S2、对所述基板表面的共聚物溶液进行加热，使该共聚物溶液中的溶剂挥发，得到共聚物薄膜；
步骤S3、对所述共聚物薄膜进行加热，并同时进行紫外光照射，此时共聚物的偶氮苯类低聚物链段在紫外光照射下定向排列，使得共聚物发生微相分离，从而在该共聚物薄膜表面形成微凸起结构，得到抗反射膜。
所述共聚物的结构通式为：
Figure GDA0002516447180000021
其中，m为0-3，n为0-7，a、b为自然数，且a+b<100。
所述共聚物溶液中的溶剂为氯仿、四氢氟喃或甲苯。
所述步骤S2中，对所述共聚物溶液进行加热的加热温度为70-220℃。
所述步骤S3中，对所述共聚物薄膜进行加热的加热温度为40-100℃。
所述步骤S3中，对所述共聚物薄膜进行紫外光照射时，紫外光为紫外线偏振光，紫外光波长为300-400nm，照度为1-100mW/cm2，照射时间为1-60min。
所述基板的材料为玻璃、PET、PC或PI。
本发明还提供一种抗反射膜，其表面具有微凸起结构，其材料包括共聚物，所述共聚物由偶氮苯类低聚物和氰基联苯类低聚物共聚而成，其中，该偶氮苯类低聚物具有光响应性。
所述共聚物的结构通式为：
Figure GDA0002516447180000031
其中，m为0-3，n为0-7，a、b为自然数，且a+b<100。
本发明还提供一种显示面板，包括如上所述的抗反射膜。
本发明的有益效果：本发明的抗反射膜的制作方法，通过利用共聚物的微相分离形成具有蛾眼结构的抗反射膜，该共聚物由两类低聚物共聚而成，其中一种为光响应型的偶氮苯类低聚物，另一种为非光响应型的氰基联苯类低聚物，该制作方法首先在基板表面形成一种共聚物薄膜，然后对共聚物薄膜同时进行加热和紫外光照射，由于共聚物中的偶氮苯类低聚物链段具有光响应的特性，会在紫外光照射下发生再定向的过程，变成垂直排列，而氰基联苯类低聚物链段则不发生变化，为水平排列，使得共聚物发生微相分离，从而在该共聚物薄膜表面形成纳米尺寸的微凸起结构，便可得到具有优异抗反射性的蛾眼结构的抗反射膜，进而利用该抗反射膜可得到具有低反射率的显示面板，该制作方法的工艺简单，成本低廉，无需复杂昂贵设备，生产效率高。本发明的抗反射膜，其材料包括由两类低聚物共聚而成的共聚物，该两类低聚物中的一种为光响应型的偶氮苯类低聚物，另一种为非光响应型的氰基联苯类低聚物，该抗反射膜具有优异抗反射特性的蛾眼结构，且制作方法简单。本发明的显示面板，采用上述的抗反射膜，具有超低反射率。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其他有益效果显而易见。
附图中，
图1为本发明的抗反射膜的制作方法的结构示意图；
图2-3为本发明的抗反射膜的制作方法的步骤S3的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1，本发明提供一种抗反射膜的制作方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供基板及共聚物溶液，在所述基板表面涂覆共聚物溶液。
所述共聚物溶液包括溶剂及共聚物，所述共聚物由偶氮苯类低聚物A和氰基联苯类低聚物B共聚而成，即共聚物的结构通式为
Figure GDA0002516447180000041
a、b为自然数，且a+b<100；其中，该偶氮苯类低聚物A为光响应型的低聚物，而氰基联苯类低聚物B为非光响应型的低聚物。
进一步地，该偶氮苯类低聚物A的结构通式为：
Figure GDA0002516447180000042
其中，m为0-3；
该氰基联苯类低聚物B的结构通式为：
Figure GDA0002516447180000043
其中，n为0-7；
即该共聚物的结构通式具体为：
Figure GDA0002516447180000051
具体地，所述共聚物溶液中的溶剂可以为氯仿、四氢氟喃或甲苯等。
具体地，所述基板的材料可以为玻璃，也可以为透明高分子材料如PET(聚对苯二甲酸乙二酯)、PC(聚碳酸酯)或PI(聚酰亚胺)。
步骤S2、对所述基板表面的共聚物溶液进行加热，使该共聚物溶液中的溶剂挥发，得到共聚物薄膜。
具体地，所述步骤S2中，对所述共聚物溶液进行加热的加热温度为70-220℃。
步骤S3、如图2-3所示，对所述共聚物薄膜进行加热，并同时进行紫外光(UV)照射，所述共聚物内的偶氮苯类低聚物链段在紫外光照射下定向排列，此时，由于共聚物中的偶氮苯类低聚物A链段具有光响应的特性，会在紫外光照射下发生再定向的过程，变成垂直排列，而氰基联苯类低聚物B链段则不发生变化，为水平排列，从而使得共聚物发生微相分离，在该共聚物薄膜表面形成随机均匀分布的微凸起结构，得到具有优异抗反射特性的蛾眼结构的抗反射膜。
需要说明的是，通过在共聚物中选取多种不同分子量的偶氮苯类低聚物A，以及偶氮苯类低聚物A与氰基联苯类低聚物B的不同配比，即其化学通式中a+b会有多种不同的随机组合，从而可以获得具有不同折射率梯度的微凸起结构，使得该抗反射膜具有超低反射率和宽的波长反射。
具体地，所述步骤S3中，对所述共聚物薄膜进行加热的加热温度为40-100℃。
具体地，所述步骤S3中，对所述共聚物薄膜进行紫外光照射时，紫外光为紫外线偏振光，紫外光波长为300-400nm，照度为1-100mW/cm2，照射时间为1-60min。
本发明提供了一种抗反射膜的制作方法，通过利用共聚物的微相分离形成具有蛾眼结构的抗反射膜，该共聚物由两类低聚物共聚而成，其中一种为光响应型的偶氮苯类低聚物，另一种为非光响应型的氰基联苯类低聚物，首先在基板表面形成一种共聚物的薄膜，该共聚物由两类低聚物共聚而成，其中一种为光响应型的偶氮苯类低聚物，另一种为非光响应型的氰基联苯类低聚物，然后对共聚物薄膜同时进行加热和紫外光照射，由于共聚物中的偶氮苯类低聚物链段具有光响应的特性，会在紫外光照射下发生再定向的过程，变成垂直排列，而氰基联苯类低聚物链段则不发生变化，为水平排列，从而使得共聚物发生微相分离，在该共聚物薄膜表面形成纳米尺寸的微凸起结构，通过调节聚合物中两类低聚物的比例，可获得具有随微凸起结构深度变化的折射率，从而得到具有优异抗反射性的蛾眼结构的抗反射膜，进而将所形成的抗反射膜转移或贴附至显示面板表面，便可获得超低反射率的显示面板，该制作方法的工艺简单，成本低廉，无需复杂昂贵设备，生产效率高。
本发明还提供一种抗反射膜，其表面具有微凸起结构，其材料包括共聚物，所述共聚物由偶氮苯类低聚物和氰基联苯类低聚物共聚而成，其中，该偶氮苯类低聚物具有光响应性。
具体地，所述共聚物的结构通式为：
Figure GDA0002516447180000061
其中，m为0-3，n为0-7，a、b为自然数，且a+b<100。
本发明的抗反射膜，其材料包括由两类低聚物共聚而成的共聚物，该两类低聚物中的一种为光响应型的偶氮苯类低聚物，另一种为非光响应型的氰基联苯类低聚物，那么通过对该共聚物的薄膜同时进行加热和紫外光照射，由于共聚物中的偶氮苯类低聚物链段具有光响应的特性，会在紫外光照射下发生再定向的过程，变成垂直排列，而氰基联苯类低聚物链段则不发生变化，为水平排列，使得共聚物发生微相分离，在该共聚物薄膜表面形成微凸起结构，便可得到本发明的具有蛾眼结构的抗反射膜，制作方法简单易行，进一步将该抗反射膜应用于显示器中，便可获得超低反射率的显示面板。
基于上述的抗反射膜，本发明还提供一种显示面板，包括如上所述的抗反射膜。所述抗反射膜的具体技术特征与上述实施例相同，在此不再赘述。
本发明的显示面板，采用上述具有优异抗反射性的蛾眼结构的抗反射膜，因此具有超低反射率。
综上所述，本发明的抗反射膜的制作方法，通过利用共聚物的微相分离形成具有蛾眼结构的抗反射膜，该共聚物由两类低聚物共聚而成，其中一种为光响应型的偶氮苯类低聚物，另一种为非光响应型的氰基联苯类低聚物，该制作方法首先在基板表面形成一种共聚物薄膜，然后对共聚物薄膜同时进行加热和紫外光照射，由于共聚物中的偶氮苯类低聚物链段具有光响应的特性，会在紫外光照射下发生再定向的过程，变成垂直排列，而氰基联苯类低聚物链段则不发生变化，为水平排列，使得共聚物发生微相分离，从而在该共聚物薄膜表面形成纳米尺寸的微凸起结构，便可得到具有优异抗反射性的蛾眼结构的抗反射膜，进而利用该抗反射膜可得到具有低反射率的显示面板，该制作方法的工艺简单，成本低廉，无需复杂昂贵设备，生产效率高。本发明的抗反射膜，其材料包括由两类低聚物共聚而成的共聚物，该两类低聚物中的一种为光响应型的偶氮苯类低聚物，另一种为非光响应型的氰基联苯类低聚物，该抗反射膜具有优异抗反射特性的蛾眼结构，且制作方法简单。本发明的显示面板，采用上述的抗反射膜，具有超低反射率。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (8)

1.一种抗反射膜的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1、提供基板及共聚物溶液，在所述基板表面涂覆共聚物溶液；
所述共聚物溶液包括溶剂及共聚物，所述共聚物由偶氮苯类低聚物和氰基联苯类低聚物共聚而成，其中，该偶氮苯类低聚物具有光响应性；
步骤S2、对所述基板表面的共聚物溶液进行加热，使该共聚物溶液中的溶剂挥发，得到共聚物薄膜；
步骤S3、对所述共聚物薄膜进行加热，并同时进行紫外光照射，此时共聚物的偶氮苯类低聚物链段在紫外光照射下定向排列，使得共聚物发生微相分离，从而在该共聚物薄膜表面形成微凸起结构，得到抗反射膜；
所述共聚物的结构通式为：
Figure FDA0002537782680000011
其中，m为0-3，n为0-7，a、b为自然数，且a+b<100。
2.如权利要求1所述的抗反射膜的制作方法，其特征在于，所述共聚物溶液中的溶剂为氯仿、四氢氟喃或甲苯。
3.如权利要求1所述的抗反射膜的制作方法，其特征在于，所述步骤S2中，对所述共聚物溶液进行加热的加热温度为70-220℃。
4.如权利要求1所述的抗反射膜的制作方法，其特征在于，所述步骤S3中，对所述共聚物薄膜进行加热的加热温度为40-100℃。
5.如权利要求1所述的抗反射膜的制作方法，其特征在于，所述步骤S3中，对所述共聚物薄膜进行紫外光照射时，紫外光为紫外线偏振光，紫外光波长为300-400nm，照度为1-100mW/cm2，照射时间为1-60min。
6.如权利要求1所述的抗反射膜的制作方法，其特征在于，所述基板的材料为玻璃、PET、PC或PI。
7.一种抗反射膜，其特征在于，其表面具有微凸起结构，其材料包括共聚物，所述共聚物由偶氮苯类低聚物和氰基联苯类低聚物共聚而成，其中，该偶氮苯类低聚物具有光响应性；
所述抗反射膜由权利要求1所述的抗反射膜的制作方法制得。
8.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求7所述的抗反射膜。
CN201910219069.6A 2019-03-21 2019-03-21 抗反射膜及其制作方法、显示面板 Active CN109971017B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910219069.6A CN109971017B (zh) 2019-03-21 2019-03-21 抗反射膜及其制作方法、显示面板
PCT/CN2019/081668 WO2020186570A1 (zh) 2019-03-21 2019-04-08 抗反射膜及其制作方法、显示面板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910219069.6A CN109971017B (zh) 2019-03-21 2019-03-21 抗反射膜及其制作方法、显示面板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109971017A CN109971017A (zh) 2019-07-05
CN109971017B true CN109971017B (zh) 2020-08-04

Family

ID=67079938

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910219069.6A Active CN109971017B (zh) 2019-03-21 2019-03-21 抗反射膜及其制作方法、显示面板

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN109971017B (zh)
WO (1) WO2020186570A1 (zh)

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3312063B2 (ja) * 1993-07-09 2002-08-05 富士写真フイルム株式会社 光学補償シート及びその製造方法、並びにそれを用いた液晶表示素子
JP4341904B2 (ja) * 2003-09-12 2009-10-14 日東電工株式会社 異方性フィルムの製造方法
CN1309706C (zh) * 2004-12-12 2007-04-11 安徽大学 含共轭苯乙炔基团的偶氮苯衍生物、用途及其制备方法
CN104749668A (zh) * 2013-12-30 2015-07-01 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 反射膜及该反射膜的制作方法
CN105137640B (zh) * 2015-10-12 2018-06-26 浙江工业大学 一种光响应可拉伸液晶光散射显示屏及其制备方法
CN106565613B (zh) * 2016-10-25 2018-11-20 上海交通大学 液晶单元协同偶氮取向的聚酰亚胺定向膜及其制备方法
CN108485682B (zh) * 2018-04-28 2021-11-09 湘潭大学 一种通过特殊棒状分子或其聚合物调控液晶分子取向的方法
CN108484825B (zh) * 2018-05-08 2020-05-26 济南大学 可逆光控疏水性偶氮苯类含氟共聚物及其膜制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN109971017A (zh) 2019-07-05
WO2020186570A1 (zh) 2020-09-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6772608B1 (en) Method for producing UV polarizers
WO2014058748A1 (en) Methods and apparatus for providing improved display components
CN102959436A (zh) 波长板的制造方法
CN110183113A (zh) 防眩光玻璃的制备方法
CN102804110A (zh) 透明导电元件、输入装置以及显示装置
KR20120138349A (ko) 반사형 편광자의 제조방법
CN109971017B (zh) 抗反射膜及其制作方法、显示面板
CN202433543U (zh) 线栅偏振片
CN108873519A (zh) Coa型阵列基板及其制作方法
CN108445556B (zh) 抗反射基板及其制作方法
CN100383569C (zh) 偏振光学元件及其制造方法和使用该元件的反射光学元件
CN105022193B (zh) 显示面板
CN211349955U (zh) 显示面板及电子设备
TWI460462B (zh) 導電性抗反射薄膜
CN106773255A (zh) 显示面板及显示装置
US8736797B2 (en) Biaxial retardation film and fabrication method thereof
KR20190129553A (ko) 눈부심 방지 필름 및 디스플레이 장치
US11747700B2 (en) Superomniphobic, flexible and rigid substrates with high transparency and adjustable haze for optoelectronic application
CN113858648A (zh) 一种小型显示器用扩散膜的生产设备
CN108333646B (zh) 一种光学器件及其制备和应用
CN104973802A (zh) 一种高效节能温致变色玻璃
CN220252196U (zh) 一种抗干涉光学膜
Truman Processing and Characterization of Spin-Coated As2S3 Films for Direct Laser Writing
CN109545427A (zh) 透明导电性薄膜及触控屏
CN207458610U (zh) 透明导电性薄膜及触控屏

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province

Patentee after: TCL Huaxing Photoelectric Technology Co.,Ltd.

Address before: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province

Patentee before: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd.

CP01 Change in the name or title of a patent holder