CN109970336B - 一种近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃及其制备方法和应用 - Google Patents

一种近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃及其制备方法和应用 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃，一种近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃，其特征在于，所述多层发光玻璃包括以下两层发光玻璃层；其中，第一发光玻璃层的原料中，包含功能成分A：所述的功能成分A包含YbF3、TmF3、HoF3和ErF3；第二发光玻璃层的原料中，包含NdF3。本发明还公开了所述的玻璃的制备方法和应用。本发型所述的多层发光玻璃波段覆盖范围宽、发光强度大。本发明还提供了该多层发光玻璃的制备方法以及其作为光纤在光纤通信器件如光纤放大器中的应用。使用该多层发光玻璃可在同一器件中实现近红外全波段的发光，为近红外器件小型化提供基础。

Description

一种近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃及其制备方法 和应用
技术领域
本发明涉及近红外发光玻璃技术领域，具体涉及一种近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃及其制备方法。
背景技术
稀土掺杂玻璃被广泛应用在光纤放大器，现阶段主要研究的是稀土掺杂的单层发光玻璃，但是单层发光玻璃的发光波段有限。单层玻璃出光波段窄且不连续，这种覆盖范围窄的缺点限制了其应用。
光纤放大器的增益带宽直接决定着信道的数目，带宽越大信道数目也就越多，信息传输的能量和速度也就越快。目前大多数光纤放大器工作窗口只能覆盖C波段(1530nm～1565nm)和L波段(1565nm～1625nm)。随着光纤制造工艺的提高，信号传输用的光纤在1200～1700nm区域成为低损耗窗口，在此基础上增加近红外波段成为了研究的热点。
由于现有的稀土发光玻璃存在发光波段单一不连续的缺点，为了实现近红外波段的全覆盖，目前通常是将多个器件进行协同工作，所需器件多，占用空间大，不利于近红外器件的小型化。因此，亟待开发一种能够实现近红外波段全覆盖的发光玻璃，为近红外器件的小型化提供基础。
发明内容
针对以上背景技术中提到的不足和缺陷，本发明的第一目的在于，提供一种波段覆盖范围宽、发光强度大的近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃(本发明也简称为玻璃)，旨在提供一种可在同一器件中实现近红外全波段的发光，为近红外器件的小型化提供了基础。
本发明第二目的在于，提供所述的玻璃的制备方法。
本方第三目的在于，提供所述的玻璃的应用，例如在光纤通信器件中的应用。
为解决上述技术问题，本发明提出的技术方案为：
一种近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃，其特征在于，所述多层发光玻璃包括以下两层发光玻璃层；
其中，第一发光玻璃层的原料中，包含功能成分A：
所述的功能成分A包含YbF3、TmF3、HoF3和ErF3；
第二发光玻璃层的原料中，包含NdF3。
本发明独创性地提供了一种具有多层结构的发光玻璃，且限定了各层成分，其中的第一发光玻璃层所含稀土元素包括Yb、Tm、Ho和Er，第二发光玻璃层所含稀土元素为Nd。通过各层稀土元素的协同以及各玻璃层间的协同配合，可明显提升整体玻璃的波段覆盖范围、提升发光强度。
本发明将Nd与Yb、Tm、Ho、Er分别添加在两层不同的发光玻璃层中，充分发挥了不同发光玻璃层以及同一发光玻璃层中各稀土元素之间的协同作用，实现了近红外波段发光的全覆盖。并且，本发明采用多层发光玻璃，多层发光玻璃分别掺杂所述的稀土元素，避免了由于稀土离子过多而造成发光猝灭的问题，减少了多离子之间的弛豫过程，实现了对发光强度的有效调节。
作为优选，所述的功能成分A中，YbF3∶TmF3∶HoF3∶ErF3的摩尔比为1.5∶(0.2～0.8)∶(0.2～0.8)∶(0.1～0.8)。在该优选的摩尔比下，协同效果更明显，更有利于提升得到的多层发光玻璃的波段覆盖范围和发光强度。
所述的第一发光玻璃层和第二发光玻璃层的原料中，均包含玻璃基础成分，所述的玻璃基础成分为SiO2和PbF2；优选的SiO2和PbF2的摩尔比为45～55∶45～55。
第一发光玻璃层的原料中，功能成分A的摩尔百分含量为0.2～2.4％；进一步优选为2～2.3％。
第二发光玻璃层的原料中，NdF3的摩尔百分含量为0.2～0.8％；优选为0.3～0.5％。
作为优选，近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃，所述多层发光玻璃包括以下两层发光玻璃层；
其中，第一发光玻璃层包括以下摩尔比的各组成原料：
SiO2∶PbF2∶YbF3∶TmF3∶HoF3∶ErF3＝50∶50∶1.5∶(0.2～0.8)∶(0.2～0.8)∶(0.1～0.8)
第二发光玻璃层包括以下摩尔比的各组成原料：
SiO2∶PbF2∶NdF3＝50∶50∶(0.2～0.8)。
在该优选的各层玻璃下，可进一步协同提升得到的多层发光玻璃的性能，例如，提升其红外覆盖范围，增强发光强度。
进一步优选，第一发光玻璃层由以下摩尔比的各组成原料组成：
SiO2∶PbF2∶YbF3∶TmF3∶HoF3∶ErF3＝50∶50∶1.5∶0.5∶0.2∶0.15
第二发光玻璃层由以下摩尔比的各组成原料组成：
SiO2∶PbF2∶NdF3＝50∶50∶0.3。在该优选的各层组分下，可进一步提升得到的多层发光玻璃的性能，还可使多层发光玻璃在近红外各个波段内的发光强度更加均衡。
本发明所述的多层发光玻璃，第一发光玻璃层的厚度例如为1～2mm，优选为1.5mm；第二发光玻璃层的厚度例如为1～2mm，优选为1.5mm。本发明所述的第一发光玻璃层和第二发光玻璃层的厚度的比例例如为1∶1。
作为优选，所述的多层发光玻璃在808nm和980nm双激光器同时激发下实现了1250～2100nm波长范围的超宽带红外发光。
本发明的近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃的制备方法如下：
(1)按摩尔比分别称取第一发光玻璃层和第二发光玻璃层的各组成原料；
(2)将第一发光玻璃层的各组成原料混合研磨后，将样品进行煅烧，使粉末混合物完全熔融；将第二发光玻璃层的各组成原料混合研磨后，将样品进行煅烧，使粉末混合物完全熔融，两组样品的煅烧温度相同；
(3)将熔融的第一发光玻璃层物料和熔融的第二发光玻璃层物料依次倒入同一模具中，然后进行退火，随炉冷却至室温，取出样品并抛光，即得近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃。
优选的方案，所述步骤(2)中，煅烧的温度为1200～1300℃。
煅烧的温度进一步优选为1250℃。
优选的方案，所述步骤(2)中，煅烧的时间为28～32min。
煅烧的时间进一步优选为30min。
优选的方案，所述步骤(3)中，退火的温度为340～360℃。
退火的温度进一步优选为350℃。
优选的方案，所述步骤(3)中，退火的时间为2.8～3.2h。
退火的时间进一步优选为3h。
优选的方案，所述步骤(3)中，抛光步骤具体为：取出样品后把样品打磨成10mm*10mm*3mm大小的块状玻璃，用金刚石微粉溶液抛光至块状玻璃表面呈镜面光滑为止。
本发明另一方面还提供了上述多层发光玻璃的应用，将该多层发光玻璃应用于光纤通信器件中。具体如，将该多层发光玻璃作为光纤应用于光纤放大器中。
作为优选，泵浦光源正对第二发光玻璃层一侧。泵浦光源直接辐照第二发光玻璃层。也即是，本发明所述的玻璃的第二发光玻璃层正对泵浦光源设置，用980nm和808nm激光器同时激发有Nd的面。
与现有技术相比，本发明的优点在于：
(1)本发明通过采用多层发光玻璃层，并在不同的发光玻璃层中添加特定比例的不同稀土元素，在泵浦光源下各发光玻璃层可以在近红外进行调控，不同层以及同一层中的不同稀土元素之间协同作用，实现了近红外波段发光的全覆盖。
(2)本发明的多层发光玻璃在808nm和980nm双光源同时激发下实现了近红外波段的全覆盖，克服了现有稀土发光玻璃发光波段单一不连续的缺点。
(3)本发明的多层发光玻璃发光效率高，多层玻璃发光过程中通过稀土敏化离子的调控实现了级联近红外发光，从而大大提高了近红外光的发射强度。
(4)采用本发明的多层发光玻璃的光纤通信器件，多层发光玻璃可以在同一器件中实现近红外全波段的发光，从而避免了为了实现近红外宽波段覆盖而采用多器件协同工作的问题，减小了器件的空间占用率，为近红外发光器件的小型化提供了基础。
(5)相比于现有的多掺杂单层玻璃，本发明的多层玻璃更容易调节，且避免了由于同一层玻璃中稀土离子掺杂过多而造成的稀土离子间发光猝灭的问题，减少了多离子之间的弛豫过程，实现了对发光强度的有效调节。
附图说明
图1为本发明多层发光玻璃的制备方法工艺流程图。
图2为实施例1所得多层发光玻璃在激光器激发下的实物照片。
图3为实施例1所得多层发光玻璃在808nm和980nm双光源激发下的发光光谱图。
图4为实施例2所得多层发光玻璃在808nm和980nm双光源激发下的发光光谱图。
图5为对比例1所得单层发光玻璃在808nm激光器激发下的发光光谱图。
图6为对比例2所得单层发光玻璃在980nm激光器激发下的发光光谱图。
图7为对比例3所得单层发光玻璃在808nm和980nm双光源激发下的发光光谱图。
图8为对比例4制得的玻璃的发光光谱图。
具体实施方式
为了便于理解本发明，下文将结合说明书附图和较佳的实施例对本发明作更全面、细致地描述，但本发明的保护范围并不限于以下具体的实施例。
除非另有定义，下文中所使用的所有专业术语与本领域技术人员通常理解的含义相同。本文中所使用的专业术语只是为了描述具体实施例的目的，并不是旨在限制本发明的保护范围。
除非另有特别说明，本发明中用到的各种原材料、试剂、仪器和设备等均可通过市场购买得到或者可通过现有方法制备得到。
实施例1：
一种本发明的近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃，该多层发光玻璃由两层发光玻璃层组成，其中，第一层发光玻璃层由以下摩尔比的各组成原料组成：
SiO2∶PbF2∶YbF3∶TmF3∶HoF3∶ErF3＝50∶50∶1.5∶0.5∶0.2∶0.15
第二层发光玻璃层由以下摩尔比的各组成原料组成：
SiO2∶PbF2∶NdF3＝50∶50∶0.3。
该近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃通过如下方法制备得到，其工艺流程图如图1所示：
(1)按摩尔比分别称取第一层发光玻璃层的各组成原料(SiO2、PbF2、YbF3、TmF3、HoF3、ErF3)和第二层发光玻璃层的各组成原料(SiO2、PbF2、NdF3)，所有原料的称量都精确到千分位；
(2)将第一层发光玻璃层的所有原料倒入洗净并干燥的玛瑙研钵中，充分混合研磨1～2小时后，装入刚玉坩埚，然后将坩埚放入事先设定好温度和时间的高温电阻炉中，在1250℃下煅烧30min，使粉末混合物完全熔融；将第二层发光玻璃层的所有原料倒入洗净并干燥的玛瑙研钵中，充分混合研磨1～2小时后，装入刚玉坩埚，然后将坩埚放入事先设定好温度和时间的高温电阻炉中，充分煅烧，使粉末混合物完全熔融；
(3)将煅烧后的第一层发光玻璃层原料和第二层发光玻璃层原料依次倒入同一个模具中，在倾倒玻璃溶液时要迅速，第一层和第二层溶液倒入磨具时间间隔控制在几秒钟之内，随后迅速放入退火炉中，350℃下退火3h，退火完成后随炉降温至室温，取出样品后把样品打磨成10mm*10mm*3mm大小的块状玻璃(第一层厚度为1.5mm)，用金刚石微粉溶液抛光至块状玻璃表面呈镜面光滑为止，即得近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃。
所得多层发光玻璃在激光器激发下的实物照片如图2所示。用980nm激光器激发样品，掺杂Yb、Tm、Ho和Er离子的一层吸收980nm泵浦能量，使稀土离子发生跃迁发光，而掺杂Nd的一层不能吸收980nm泵浦能量，没有表现出发光的特性。
图3为所得多层发光玻璃在808nm和980nm双光源激发下的发光光谱图。由图3可知，采用808nm和980nm双激光器同时激发多层发光玻璃，实现了1250～2100nm波长范围的超宽带红外发光，且各波段发光强度相对均匀。
实施例2：
一种本发明的近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃，该多层发光玻璃由两层发光玻璃层组成，其中，第一层发光玻璃层由以下摩尔比的各组成原料组成：
SiO2∶PbF2∶YbF3∶TmF3∶HoF3∶ErF3＝50∶50∶1.5∶0.5∶0.2∶0.15
第二层发光玻璃层由以下摩尔比的各组成原料组成：
SiO2∶PbF2∶NdF3＝50∶50∶0.5。
该近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃通过如下方法制备得到，其工艺流程图如图1所示：
(1)按摩尔比分别称取第一层发光玻璃层的各组成原料(SiO2、PbF2、YbF3、TmF3、HoF3、ErF3)和第二层发光玻璃层的各组成原料(SiO2、PbF2、NdF3)，所有原料的称量都精确到千分位；
(2)将第一层发光玻璃层的所有原料倒入洗净并干燥的玛瑙研钵中，充分混合研磨1～2小时后，装入刚玉坩埚，然后将坩埚放入事先设定好温度和时间的高温电阻炉中，在1250℃下煅烧30min，使粉末混合物完全熔融；将第二层发光玻璃层的所有原料倒入洗净并干燥的玛瑙研钵中，充分混合研磨1～2小时后，装入刚玉坩埚，然后将坩埚放入事先设定好温度和时间的高温电阻炉中，充分煅烧，使粉末混合物完全熔融；
(3)将煅烧后的第一层发光玻璃层原料和第二层发光玻璃层原料依次倒入同一个模具中，在倾倒玻璃溶液时要迅速，第一层和第二层溶液倒入磨具时间间隔控制在几秒钟之内，随后迅速放入退火炉中，350℃下退火3h，退火完成后随炉降温至室温，取出样品后把样品打磨成10mm*10mm*3mm大小的块状玻璃(第一层厚度为1.5mm)，用金刚石微粉溶液抛光至块状玻璃表面呈镜面光滑为止，即得近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃。
图4为所得多层发光玻璃在808nm和980nm双光源激发下的发光光谱图。由图4可知，采用808nm和980nm双激光器同时激发多层发光玻璃，实现了1250～2100nm波长范围的超宽带红外发光，相比于实施例1中稀土离子的浓度比例，实施例2中浓度的变化对光谱强度有所改变，光谱的发光均匀度相比于实施例1较差。
对比例1：
一种近红外波段稀土掺杂单层发光玻璃，该发光玻璃与实施例1的区别主要在于将双层玻璃改为单层玻璃，仅采用第二层发光玻璃层。
该单层发光玻璃由以下摩尔比的各组成原料组成：
SiO2∶PbF2∶NdF3＝50∶50∶0.3
该近红外波段稀土掺杂单层发光玻璃通过如下方法制备得到：
(1)按摩尔比分别称取发光玻璃层的各组成原料(SiO2、PbF2、NdF3)，所有原料的称量都精确到千分位；
(2)将发光玻璃层的所有原料倒入洗净并干燥的玛瑙研钵中，充分混合研磨1～2小时后，装入刚玉坩埚，然后将坩埚放入事先设定好温度和时间的高温电阻炉中，1250℃下煅烧30min，使粉末混合物完全熔融；
(3)将煅烧后的发光玻璃层原料倒入模具中，随后放入350℃退火炉中退火3h，取出样品后把样品打磨成10mm*10mm*3mm大小的块状玻璃(第一层厚度为1.5mm)，用金刚石微粉溶液抛光至块状玻璃表面呈镜面光滑为止，即得稀土掺杂单层发光玻璃。
图5为所得单层发光玻璃在808nm激光器激发下的发光光谱图。由图5可知，采用808nm激光器激发单层发光玻璃，仅仅实现了1350nm左右波段的红外发光，无法实现1250～2100nm波长范围的超宽带红外发光。
对比例2：
一种近红外波段稀土掺杂单层发光玻璃，该发光玻璃与实施例1的区别主要在于将双层玻璃改为单层玻璃，仅采用第一层发光玻璃层。
该单层发光玻璃由以下摩尔比的各组成原料组成：
SiO2∶PbF2∶YbF3∶TmF3∶HoF3∶ErF3＝50∶50∶1.5∶0.5∶0.2∶0.15
该近红外波段稀土掺杂单层发光玻璃通过如下方法制备得到：
(1)按摩尔比分别称取发光玻璃层的各组成原料(SiO2、PbF2、YbF3、TmF3、HoF3、ErF3)，所有原料的称量都精确到千分位；
(2)将发光玻璃层的所有原料倒入洗净并干燥的玛瑙研钵中，充分混合研磨1～2小时后，装入刚玉坩埚，然后将坩埚放入事先设定好温度和时间的高温电阻炉中，在1250℃下煅烧30min，使粉末混合物完全熔融；
(3)将煅烧后的发光玻璃层原料倒入模具中，随后放入350℃退火炉中退火3h，取出样品后把样品打磨成10mm*10mm*3mm大小的块状玻璃(第一层厚度为1.5mm)，用金刚石微粉溶液抛光至块状玻璃表面呈镜面光滑为止，即得稀土掺杂单层发光玻璃。
图6为所得单层发光玻璃在980nm激光器激发下的发光光谱图。由图6可知，采用980nm激光器激发单层发光玻璃，仅仅实现了1550nm、1800nm和2000nm左右的红外发光，各波段发光强度相对均匀，但是同样无法实现1250～2100nm波长范围的超宽带红外发光。
对比例3：
一种近红外波段稀土掺杂单层发光玻璃，该发光玻璃与实施例1的区别主要在于将双层玻璃改为单层玻璃，将第二层发光玻璃层中的NdF3添加到第一层发光玻璃层中。
该单层发光玻璃由以下摩尔比的各组成原料组成：
SiO2∶PbF2∶YbF3∶TmF3∶HoF3∶ErF3∶NdF3＝50∶50∶1.5∶0.5∶0.2∶0.15∶0.3
该近红外波段稀土掺杂单层发光玻璃通过如下方法制备得到：
(1)按摩尔比分别称取发光玻璃层的各组成原料(SiO2、PbF2、YbF3、TmF3、HoF3、ErF3、NdF3)，所有原料的称量都精确到千分位；
(2)将发光玻璃层的所有原料倒入洗净并干燥的玛瑙研钵中，充分混合研磨1～2小时后，装入刚玉坩埚，然后将坩埚放入事先设定好温度和时间的高温电阻炉中，在1250℃下煅烧30min，使粉末混合物完全熔融；
(3)将煅烧后的发光玻璃层原料倒入模具中，随后放入350℃退火炉中退火3h，取出样品后把样品打磨成10mm*10mm*3mm大小的块状玻璃(第一层厚度为1.5mm)，用金刚石微粉溶液抛光至块状玻璃表面呈镜面光滑为止，即得稀土掺杂单层发光玻璃。
图7为所得单层发光玻璃在808nm和980nm双光源激发下的发光光谱图。由图7可知，采用808nm和980nm双激光器同时激发单层发光玻璃时，相对于实施例1，1350nm左右波段的发光明显降低，2000nm左右波段的发光也明显降低，而1550nm左右波段的发光有所增强，各波段发光强度不均匀。说明将Nd元素添加到含Yb、Tm、Ho、Er的稀土掺杂单层发光玻璃中，出现了稀土元素间发光猝灭的问题。
对比例4
在第二层中，添加有NdF3∶TmF3，具体如下：
第一层发光玻璃层由以下摩尔比的各组成原料组成：
SiO2∶PbF2∶YbF3∶HoF3∶TmF3∶ErF3＝50∶50∶1.5∶0.2∶0.5∶0.15
第二层发光玻璃层由以下摩尔比的各组成原料组成：
SiO2∶PbF2∶NdF3∶TmF3＝50∶50∶0.3∶1。
图8为所得多层发光玻璃在808nm和980nm双光源激发下的发光光谱图。由图8可知，采用808nm和980nm双激光器同时激发多层发光玻璃，实现了1250～2100nm波长范围的超宽带红外发光，相比于实施例1中稀土离子的掺杂变化，将实施例1中第一层的TmF3添加到第二层变化对光谱强度有所改变，光谱的发光均匀度相比于实施例1较差。

Claims (12)

1.一种近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃，其特征在于，所述多层发光玻璃包括以下两层发光玻璃层；
其中，第一发光玻璃层的原料中，包含功能成分A：
所述的功能成分A包含YbF3、TmF3、HoF3和ErF3，其中，YbF3：TmF3：HoF3：ErF3的摩尔比为1.5：（0.2~0.8）：（0.2~0.8）：（0.1~0.8）；第一发光玻璃层的原料中，功能成分A的摩尔百分含量为0.2~2.4%；
第二发光玻璃层的原料中，包含NdF3；
所述的第一发光玻璃层和第二发光玻璃层的原料中，均包含玻璃基础成分，所述的玻璃基础成分为SiO2和PbF2；
第二发光玻璃层的原料中，NdF3的摩尔百分含量为0.2~0.8%。
2.如权利要求1所述的近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃，其特征在于，所述的第一发光玻璃层和第二发光玻璃层的原料中，SiO2和PbF2的摩尔比为45~55：45~55。
3.如权利要求1所述的近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃，其特征在于，所述多层发光玻璃由以下两层发光玻璃层组成；
其中，第一发光玻璃层由以下摩尔比的各组成原料组成：
SiO2：PbF2：YbF3：TmF3：HoF3：ErF3=50：50：1.5：（0.2~0.8）：（0.2~0.8）：（0.1~0.8）；
第二发光玻璃层由以下摩尔比的各组成原料组成：
SiO2：PbF2：NdF3=50：50：（0.2~0.8）。
4.如权利要求3所述的近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃，其特征在于，第一发光玻璃层由以下摩尔比的各组成原料组成：SiO2：PbF2：YbF3：TmF3：HoF3：ErF3=50：50：1.5：0.5：0.2：0.15。
5.如权利要求3所述的近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃，其特征在于，第二发光玻璃层由以下摩尔比的各组成原料组成：SiO2：PbF2：NdF3=50：50：0.3。
6.如权利要求1~5任一项所述的近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃，其特征在于，在808nm和980nm双激光泵浦光源同时激发下，在1250~2100nm波长范围的超宽带红外发光。
7.如权利要求6所述的近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃，其特征在于，泵浦光源正对第二发光玻璃层一侧。
8.一种权利要求1~7任一项所述的近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）按摩尔比分别称取第一发光玻璃层和第二发光玻璃层的各组成原料；
（2）将第一发光玻璃层的各组成原料混合研磨后，将样品进行煅烧，使粉末混合物完全熔融；将第二发光玻璃层的各组成原料混合研磨后，将样品进行煅烧，使粉末混合物完全熔融；
（3）将熔融的第一发光玻璃层物料和熔融的第二发光玻璃层物料依次倒入同一模具中，然后进行退火，随炉冷却至室温，取出样品打磨并抛光，即得近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述步骤（2）中，煅烧的温度为1200~1300℃，煅烧的时间为28~32min。
10.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述步骤（3）中，退火的温度为340~360℃，退火的时间为2.8~3.2h；
所述步骤（3）中，抛光步骤具体为：取出样品后把样品打磨成10mm*10mm*3mm大小的块状玻璃，用金刚石微粉溶液抛光至块状玻璃表面呈镜面光滑为止。
11.一种权利要求1~7任一项所述的近红外波段全覆盖稀土掺杂多层发光玻璃或者如权利要求8~10任一项所述的制备方法制备得到的多层发光玻璃的应用，其特征在于，将所述多层发光玻璃应用于光纤通信器件中。
12.如权利要求11所述的应用，其特征在于，将所述多层发光玻璃作为光纤应用于光纤放大器中。
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