CN109890769A - 浮槽出口密封 - Google Patents

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Abstract

描述了一种减少从浮槽的出口端中的开口损失的浮槽气氛的体积的方法。该方法包括将具有第一喷射速度、随后具有第二喷射速度的第一流体射流引向用于浮法玻璃带的输送平面。第一流体射流路径中的障碍物使射流从第二喷射速度变化到第三喷射速度。该障碍物可以是位于所述开口的外部的辊的一部分、或者是已经成型在包含于浮槽内的熔融金属表面上并随后被通过所述开口转移的浮法玻璃带。还描述了一种具有密封设施以减少从浮槽的出口损失的气氛的浮槽，同样还描述了一种用于实施前面提到的方法的组件。

Description

浮槽出口密封
技术领域
本发明涉及一种减少从浮槽出口端损失的浮槽气氛的体积的方法、一种包括用于减少从浮槽出口端损失的浮槽气氛的体积的密封设施的浮槽、以及一种用于减少从浮槽出口端损失的浮槽气氛的体积的组件。
背景技术
众所周知，平板玻璃可以使用“浮法工艺”制造，其中使用浮槽将熔融的玻璃成型成平板或平带。通过施加合适的能量将合适的玻璃制造原材料在炉中转化成熔融的玻璃，并将熔融的玻璃转移到熔融锡的槽(浮槽)以被支撑在熔融锡的表面上。为了防止熔融锡氧化，浮槽被封闭起来并且在熔融锡上方提供了还原性浮槽气氛。还原性浮槽气氛通常是氮气和氢气的混合物。一般地，浮槽气氛具有正压力，例如在1和30Pa之间，以防止空气进入到浮槽中。
考虑到浮槽必须至少具有入口和出口以便于将熔融的玻璃引导到锡上以及将所成型的玻璃从中移除，还原性浮槽气氛可能会从浮槽入口端和出口端逃逸。还原性气氛从浮槽出口端逃逸尤其会出问题，因为出口通到外界大气，当可燃的氢气在空气中燃烧时会产生火焰。
期望的是，减少或消除浮槽气氛从浮槽出口的逃逸，因为这会对玻璃制造工艺的成本效率有影响。通过减少从出口损失的浮槽气氛的体积，在浮槽中维持正压所需的浮槽气氛就较少。
WO2006007905A2描述了一种通过浮法生产平板玻璃的装置，其具有浮室和多个连续布置的间隙密封件，其中在条带行进方向上布置在玻璃出口端处的最后的间隙密封件通过浮室中的气氛与外界大气分离并且设置在具有凸表面的气体出口侧上，通过该凸表面从密封间隙离开的气体流由于柯恩达效应而从玻璃条带的表面偏离。因为浮室内部的气氛是可燃的，所以WO2006007905A2提供了在玻璃从浮室出来时防止火焰接触玻璃表面的装置和方法。
在US4,692,180中，描述了浮槽气氛从浮槽出口的逃逸。由上游隔板、中央隔板和下游隔板这三个隔板将浮槽出口分隔成两个腔室(第一腔室以及在其下游的第二腔室)。可燃气体从下游隔板的下面逃逸并燃烧，从而形成妨碍后续涂覆工艺的火焰。使用鼓风机设施来将气体流引向限定浮槽出口的下游隔板的底部。使火焰在中央隔板底部处重新位于第二腔室中的上游。结果，第二腔室中的气氛会从第二腔室中的浮槽气氛所需的状态变化，这可以导致随后泄漏到主浮槽气氛中。
GB1,017,753描述了一种用在平板玻璃制造中的设备，在制造过程中玻璃带沿着熔融金属的槽推进，其中，设置了用于保持槽上方的顶部空间中的增压保护性气氛的设施。替代性地，在一凹坑中可以放置输送辊，凹坑中还设有密封设施，比如支撑在连接到凹坑底板的底座中的碳刷弹簧，该碳刷与所述输送辊为密封关系。增压保护性气体也被保持在该凹坑中。
US3,351,451描述了一种制造呈条带形式的平板玻璃的方法，在制造过程中玻璃支撑在熔融金属的槽上，槽上方的顶部空间装有保持在一定充气增压下的保护性气氛，通过与顶部空间联通的用于玻璃的通道产生保护性气体的向外的层流流动，所述保护性气体的流动速率足以密封所述通道以防止外部气体进入到保护性气氛中。
DE102014203567A1描述了一种用于制造浮法平板玻璃的浮法玻璃制造方法，其涉及在拉伸区域的特定位置将火焰布置在玻璃带的上侧上。
发明内容
存在着对至少部分地密封浮槽的出口端以减少从浮槽损失的浮槽气氛的体积的方法的需求。
因此，本发明的第一方面提供了一种减少从浮槽的出口端损失的浮槽气氛的体积的方法，所述方法包括以下步骤：(i)向浮槽的入口端提供熔融玻璃的源；(ii)在包含于浮槽中的一池熔融金属的表面上将熔融玻璃成型为玻璃带，使得玻璃带具有未与熔融金属接触的上表面；(iii)通过浮槽的出口端中的开口将玻璃带从所述一池熔融金属的表面转移到输送设施上，所述输送设施用于沿着远离所述开口的第一输送方向输送玻璃带；以及(iv)使至少一个(第一)流体射流指向玻璃带的上表面，该第一流体射流具有第一喷射速度和随后的第二喷射速度，第一流体射流的第一喷射速度具有第一喷射速率和第一喷射方向，第一流体射流的第二喷射速度具有第二喷射速率和第二喷射方向；其中，由于玻璃带的上表面的存在，具有第二喷射速度的第一流体射流从第二喷射速度变化到第三喷射速度，以减少经由所述开口从浮槽损失的浮槽气氛的体积。
正如本领域中公知的，浮槽包括用于包含一池熔融金属(通常是锡)和浮槽气氛的封装件。浮槽气氛在所述封装件中位于熔融金属上方(通常表述为在熔融金属上方的顶部空间中)，并防止熔融金属氧化。
当第一流体射流从第二喷射速度变化到第三喷射速度时，产生足够的背压以减少从所述开口损失的浮槽气氛的体积。
当第一流体射流具有第三喷射速度时，第一流体射流具有第三喷射方向和第三喷射速率。
优选地，将具有第二喷射速度的第一流体射流引向所述开口的下游的玻璃带的上表面。
优选地，在所述开口的上游的玻璃带的上方是包括浮槽气氛的气氛，而在所述开口的下游的玻璃带的上方是空气气氛。正如本领域中公知的，浮槽气氛包括氮气和氢气的混合物，其在存在空气的情况下是可燃的。
优选地，在步骤(iv)，通过设置在浮槽外部的射流设施使第一流体射流指向玻璃带的上表面。在这些实施方式中，射流设施设置在浮槽的出口端的下游和出口端中的所述开口的下游，使得该射流设施处于空气气氛中而不是处于浮槽气氛中。
优选地，具有第二喷射速度和/或第三喷射速度的第一流体射流的至少一部分与玻璃带的上表面接触。
优选地，第一流体射流的第三喷射方向在输送方向上。
优选地，通过冲击玻璃带的上表面将具有第二喷射速度的第一流体射流的速度从第二喷射速度变化到第三喷射速度。
优选地，第一流体射流的第三喷射速度为零。当第一流体射流的第三喷射速度为零时，在流场中存在停滞点，在停滞点处，第一流体的局部速度为零。这种流场可以使用伯努利方程确定。
当通过冲击玻璃带的上表面而将具有第二喷射速度的第一流体的速度从第二喷射速度变化到第三喷射速度时，第一流体射流优选地冲击所述开口的下游的玻璃带的上表面。
优选地，第一流体射流的第三喷射速度具有平行于或者基本平行于玻璃带的上表面的速度分量。
优选地，第一流体射流的第一喷射方向和/或第一流体射流的第二喷射方向与玻璃带的上表面上的法线呈65°或更小的角度。
优选地，第一流体射流的第一喷射方向和/或第一流体射流的第二喷射方向平行于玻璃带的上表面上的法线。优选地，玻璃带的上表面上的法线与竖直方向平行。适宜地，玻璃带的上表面上的法线与第一输送方向垂直。
优选地，多个流体射流指向玻璃带的上表面，每个流体射流具有各自的第一喷射速度以及随后的各自的第二喷射速度，其中，所述多个流体射流中的每个均由于玻璃带的上表面的存在而从各自的第二喷射速度变化到各自的第三喷射速度，以减少经由浮槽的出口端上的开口从浮槽损失的浮槽气氛的量。优选地，所述多个流体射流中的至少两个具有彼此平行的第一喷射方向和/或各自的第二喷射方向。优选地，具有各自的第二喷射速度的所述多个流体射流中的每个指向所述开口下游的玻璃带的上表面。
优选地，玻璃带具有钠钙硅玻璃成分。典型的钠钙硅玻璃成分(按重量计)是：SiO269-74％；Al2O3 0-3％；Na2O 10-16％；K2O 0-5％；MgO 0-6％；CaO 5-14％；SO3 0-2％；Fe2O30.005-2％。所述玻璃还可以包含其他添加剂(例如精制辅助物)，其通常以达2％的量存在。玻璃成分也可以包含其他添加剂(例如澄清剂)，其通常以达2％的量存在。钠钙硅玻璃成分可以包含其他着色剂(比如Co3O4、NiO和Se)，以在以透射光观察时赋予玻璃所需的颜色。透射的玻璃颜色可以按照公认的标准进行测量，比如BS EN410。
正如在本领域中公知的，熔融金属通常是熔融的锡。
在本发明的第一方面的一些实施方式中，在预定时间间隔(例如一个小时)内提供给所述至少一个射流的流体总体积小于在不实施步骤(iv)的情况下在该预定时间间隔内从浮槽的出口端中所述开口逃逸的浮槽气氛的体积。
在没有玻璃带通过浮槽的出口端中的开口转移时，可以使用根据本发明的第一方面的前述方法来减少从浮槽的出口端损失的浮槽气氛的体积。在这种情况下，作为对具有第二喷射速度的第一流体射流冲击玻璃带的上表面来减少经由所述开口从浮槽损失的浮槽气氛的体积的替代，具有第二喷射速度的第一流体射流可以通过在具有第二喷射速度的第一流体射流的路径上合适地定位障碍物来将方向变化到第三喷射速度来减少经由所述开口从浮槽损失的浮槽气氛的体积。
根据本发明的第二方面，提供了一种减少从浮槽的出口端损失的浮槽气氛的体积的方法，该浮槽包括用于包含浮槽气氛的封装件，出口端包括一开口，支撑在包含于所述封装件中的一池熔融金属的表面上的玻璃带可以从封装件的内部通过该开口到达位于封装件的外部的输送设施，该输送设施构造成在远离所述封装件的第一输送方向上沿着输送平面输送玻璃带，该方法包括以下步骤：(i)将至少一个(第一)流体射流引向输送平面，该第一流体射流具有第一喷射速度和随后的第二喷射速度，第一流体射流的第一喷射速度具有第一喷射速率和第一喷射方向，第一流体射流的第二喷射速度具有第二喷射速率和第二喷射方向；其中，由于在具有第二喷射速度的第一流体射流的路径上存在障碍物，具有第二喷射方向的第一流体射流从第二喷射速度变化到第三喷射速度，以减少经由所述开口从浮槽损失的浮槽气氛的体积。
当第一流体射流从第二喷射速度变化到第三喷射速度时，产生足够的背压以减少从所述开口损失的浮槽气氛的体积。
当第一流体射流具有第三喷射速度时，第一流体射流具有第三喷射方向和第三喷射速率。
合适地，所述障碍物位于所述开口外部。即，该障碍物优选地在所述开口的下游。
优选地，所述开口的上游是包括浮槽气氛的气氛，所述开口的下游是空气气氛。
优选地，障碍物包括辊的至少一部分。优选地，该辊是输送设施的部件。优选地，该辊的该部分是辊的外表面，该外表面配置成用于输送玻璃带。
优选地，障碍物包括远离所述开口延伸的偏转元件。优选地，该偏转元件具有平坦表面，该平坦表面是该障碍物的造成具有第二喷射速度的第一流体射流变化到第三喷射速度以减少经由所述开口从浮槽损失的浮槽气氛的体积的表面。优选地，该偏转元件包括难熔材料。优选地，该偏转元件包括金属，优选为钢。
优选地，具有第二喷射速度的第一流体射流指向所述开口的下游的输送平面。
优选地，具有第二喷射速度和/或第三喷射速度的第一流体射流的至少一部分与所述障碍物接触。
优选地，第一流体射流的第三喷射速度具有第三喷射方向，第一流体射流的第三喷射方向在输送方向上。
优选地，具有第二喷射速度的第一流体射流通过冲击所述障碍物而将速度从第二喷射速度变化到第三喷射速度。
优选地，第一流体射流的第三喷射速度为零。当第一流体射流的第三喷射速度为零时，在流场中存在停滞点，在停滞点中，第一流体的局部速度为零。这种流场可以使用伯努利方程确定。
当具有第二喷射速度的第一流体射流通过冲击所述障碍物将速度从第二喷射速度变化到第三喷射速度时，优选地第一流体射流冲击所述开口下游的障碍物。
优选地，该障碍物具有基本平行于输送平面的第一表面，该第一表面是造成第一流体射流从第二喷射速度变化到第三喷射速度的表面。
优选地，第一流体射流的第三喷射速度具有平行于或者基本平行于输送平面的速度分量。
优选地，第一流体射流的第一喷射方向和/或第一流体射流的第二喷射方向与输送平面上的法线和/或障碍物上的法线呈65°或更小的角度。
优选地，第一流体射流的第一喷射方向和/或第一流体射流的第二喷射方向平行于输送平面和/或所述障碍物上的法线。优选地，输送平面和/或障碍物上的法线与竖直方向平行。适宜地，输送平面和/或障碍物上的法线与第一输送方向垂直。
优选地，多个流体射流指向输送平面，每个流体射流均具有各自的第一喷射速度以及随后的各自的第二喷射速度，其中该多个流体射流中的每个均由于障碍物的存在而从各自的第二喷射速度变化到各自的第三喷射速度，以减少经由浮槽的出口端中的开口从浮槽损失的浮槽气氛的量。优选地，所述多个流体射流中的至少两个具有彼此平行的第一喷射方向和/或各自的第二喷射方向。优选地，具有各自的第二喷射速度的所述多个流体射流中的每个指向所述开口下游的障碍物。
在本发明第二方面的一些实施方式中，在预定时间间隔(例如一个小时)内提供给所述至少一个射流的流体总体积小于在而不实施步骤(i)的情况下在该预定时间间隔内从浮槽出口逃逸的浮槽气氛的体积。
正如显而易见的，当根据本发明的第二方面的方法在步骤(i)之前包括如下步骤时：向浮槽的入口端提供熔融玻璃源；使熔融玻璃在包含在浮槽中的一池熔融金属表面上成型为玻璃带，使得玻璃带具有未与熔融金属接触的上表面；以及通过浮槽的出口端中的开口将玻璃带从所述一池熔融金属的所述表面转移到用于在远离所述开口的第一输送方向上输送玻璃带的输送设施上，所述障碍物位于所述玻璃带的上表面。在本发明的第二方面的这些实施方式中，该方法与根据本发明的第一方面的方法相同或基本相同。
本发明的第一和/或第二方面的实施方式具有正如下面所述的其他优选特征。
当第一流体射流具有第一喷射速度时，第一流体射流具有第一喷射速率和第一喷射方向。当第一流体射流具有第二喷射速度时，第一流体射流具有第二喷射速率和第二喷射方向。
总之，如果存在n个流体射流，第n个流体射流具有第一喷射速度、第二喷射速度和第三喷射速度。第n个流体射流的第一喷射速度具有第一喷射方向和第一喷射速率。第n个流体射流的第二喷射速度具有第二喷射方向和第二喷射速率。第n个流体射流的第三喷射速度具有第三喷射方向和第三喷射速率。
优选地，第一流体射流的第一喷射速率与第一流体射流的第二喷射速率相同。
优选地，第一流体射流的第一喷射速率和/或第一流体射流的第二喷射速率小于20℃下干燥空气中的音速。
优选地，第一流体射流的第一喷射速率和/或第一流体射流的第二喷射速率小于340m/s。
第一流体射流的第一喷射速度和/或第一流体射流的第二喷射速度足以减少从所述开口损失的浮槽气氛的体积。
第一流体射流的第一喷射速率和/或第一流体射流的第二喷射速率足以减少从所述开口损失的浮槽气氛的体积。
第一流体射流的第一喷射方向和/或第一流体射流的第二喷射方向足以减少从所述开口损失的浮槽气氛的体积。
第一流体射流的第一喷射速度和/或第一流体射流的第二喷射速度足以为第一流体射流提供足以减少从所述开口损失的浮槽气氛的体积的第三喷射速度。
优选地，第一流体射流的第一喷射方向与第一流体射流的第二喷射方向相同。
优选地，第一流体射流的第一喷射方向包括与第一输送方向相反的速度分量。在当第一流体射流的第一喷射方向包括与第一输送方向相反的速度分量时的实施方式中，第一流体射流指向浮槽的出口端。
在本发明的第一和/或第二方面的其他实施方式中，优选地，使第一流体射流的第一喷射方向改变方向，使得第一流体射流的第二喷射方向不同于第一流体射流的第一喷射方向。
当使第一流体射流改变方向以使得第一流体射流的第二喷射方向不同于第一流体射流的第一喷射方向时，优选地通过冲击在偏转表面上来使第一射流的方向从第一喷射方向变化到第二喷射方向。
优选地，第一流体射流的第一喷射方向与竖直方向所呈的角度在30°和60°之间，优选地在40°和50°之间，更优选地在44°和46°之间，在冲击了偏转表面之后，第一流体射流的第二喷射方向与竖直方向所呈的角度小于30°，优选地与竖直方向所呈的角度小于20°，更优选地与竖直方向所呈的角度小于10°，最优选地与竖直方向所呈的角度小于5°。
优选地，所述偏转表面位于所述开口的下游。
优选地，所述偏转表面位于浮槽的出口端中的所述开口的上方。
优选地，第一流体射流在所述开口上方的冲击区域处冲击偏转表面，该冲击区域与玻璃带的上表面间隔开，或者如果不存在玻璃带，与输送平面间隔开。优选地，该冲击区域与玻璃带的上表面间隔开(或者如果不存在玻璃带，与输送平面间隔开)至少10mm，或者至少20mm，或者至少30mm，或者至少40mm，或者至少50mm，或者至少60mm，或者至少70mm，或者至少80mm，或者至少90mm，或者至少100mm。优选地，该冲击区域与玻璃带的上表面间隔开(或者如果不存在玻璃带，与输送平面的间隔开)小于300mm，更优选地小于250mm，甚至更优选地小于200mm。冲击区域的位置可以用于改变提供给第一流体射流的预热量。
优选地，偏转表面包括加热设施以提供加热的偏转表面。具有加热的偏转表面的优点是可以预加热第一流体射流，优选地使得具有第二喷射速度的第一流体射流比具有第一喷射速度的第一流体射流更热。
优选地，偏转表面的温度高于400℃，更优选地高于450℃，甚至更优选地高于500℃。偏转表面一般具有取决于其结构所用材料的最大操作温度。一般地，偏转表面的温度小于1000℃。
可以通过来自于浮槽内部的热量或者通过单独的加热设施来对偏转表面进行加热，该加热是可控的。
在本发明的第一和/或第二方面的一些实施方式中，通过流体源来提供第一流体射流，该流体源包括流体出口设施和用于对从流体出口设施流出的流体进行加热的至少一个加热器。流体出口设施可以包括可以为柔性的管路或管线，所述至少一个加热器可以围绕管路或管线的至少一部分。
在本发明的第一和/或第二方面的具有偏转表面的一些实施方式中，偏转表面是配置成减少从浮槽的出口端中的开口损失的浮槽气氛的体积的挡板，优选地是在将玻璃带从封装件的内部经由所述开口转移到输送设施的时候。
优选地，所述挡板配置成使得当玻璃带在输送设施上输送通过所述开口时，该挡板在不与输送设施接触的玻璃带表面与挡板的下边缘之间形成间隙，该间隙的尺寸设置成限制浮槽气氛从所述封装件内部逃逸。优选地，该间隙在5mm和50mm之间。优选地，该间隙跨过所述开口延伸。优选地，该间隙是所述开口的至少一部分。优选地，该间隙与所述开口相同。
在本发明的第一和/或第二方面的具有偏转表面的一些实施方式中，该偏转表面在浮槽的出口端中的所述开口的下游。
在本发明的第一和/或第二方面的具有偏转表面的一些实施方式中，该偏转表面具有至少一个平坦的主表面。
在本发明的第一和/或第二方面的具有偏转表面的一些实施方式中，该偏转表面跨过出口的至少一部分延伸。
优选地，该偏转表面跨过浮槽的整个出口延伸。
优选地，该偏转表面在出口的下游。
在本发明的第一和/或第二方面的其他实施方式中，第一流体射流的第一喷射方向与竖直方向所呈的角度在30°和60°之间，优选地在40°和50°之间，更优选地在44°和46°之间。
在本发明的第一和/或第二方面的其他实施方式中，第一流体射流的第二喷射方向与竖直方向所呈的角度小于30°，优选地与竖直方向所呈的角度小于20°，更优选地与竖直方向所呈的角度小于10°，最优选地与竖直方向所呈的角度小于5°。
本发明的第一和/或第二方面的其他实施方式具有其他优选的特征。
合适地，浮槽包括用于将还原性气氛从所述封装件排出的排出设施。该排出设施提供了控制浮槽内部的压力和/或控制浮槽中的浮槽气氛的成分的方式。
优选地，第一流体射流在沿着第一喷射方向移动之前被预热。
优选地，第一流体射流在沿着第一喷射方向和/或第二喷射方向移动之前和/或之后被加热。
优选地，第一流体射流在沿着第一和/或第二喷射方向移动之前移动时和/或在沿着第一和/或第二喷射方向移动时的温度高于100℃，更优选地其温度在200℃和300℃之间。
优选地，第一流体射流在沿着第一和/或第二喷射方向移动之后的温度高于100℃，更优选地其温度在200℃和300℃之间。
优选地，提供给用于实施根据本发明的第一或第二方面的方法的至少一个射流的流体总体积小于在不实施根据本发明的第一或第二方面的方法的情况下从浮槽的出口端中的所述开口逃逸的浮槽气氛的量。
优选地，所述流体是惰性流体或还原流体。
优选地，所述流体是气体。
优选地，所述流体包括氮气。
优选地，所述流体是氮气体积含量大于90％的气体。
优选地，所述流体是氧气体积含量小于1％的气体。
优选地，用于经由所述开口减少从浮槽损失的浮槽气氛的体积的所述至少一个射流的流体流量在Fmin和Fmax之间，其中Fmin<Fmax且Fmin在5Nm3/h和80Nm3/h之间，Fmax在90Nm3/h和500Nm3/h之间。优选地，Fmin是5Nm3/h或者10Nm3/h或者15Nm3/h或者20Nm3/h或者25Nm3/h或者30Nm3/h，其中Fmax是50Nm3/h或者100Nm3/h或者150Nm3/h或者200Nm3/h或者250Nm3/h或者300Nm3/h。
优选地，用于经由所述开口减少从浮槽损失的浮槽气氛的体积的所述至少一个射流的流体流量是浮槽出口没有密封时从浮槽出口逃逸的浮槽气氛的体积的0.1到0.9倍。
优选地，第一流体射流由具有缝孔的喷嘴提供。
优选地，第一流体射流由扁平的扇形喷嘴提供。
优选地，第一流体射流具有15°和130°之间的喷射角度。
优选地，第一流体射流的第一喷射方向和/或第一流体射流的第二喷射方向与竖直方向呈65°或者更小的角度。
当存在多个流体射流时，优选地，至少两个流体射流由具有各自的缝孔的各自的喷嘴提供，更优选地，每个流体射流由具有各自的缝孔的各自的喷嘴提供。
当存在多个流体射流时，优选地，至少两个流体射流由各自的扁平扇形喷嘴提供，更优选地，每个流体射流由各自的扁平扇形喷嘴提供。
当存在多个流体射流时，优选地，至少两个流体射流具有15°和130°之间的喷射角度，更优选地，每个流体射流具有15°和130°之间的喷射角度，甚至更优选地，每个流体射流具有相同或基本相同的喷射角度，该喷射角度在15°和130°之间。
当存在多个射流时，优选地，多个射流中的两个射流的间距选择成避免浮槽气氛从两个射流之间逃逸，更优选地其中，两个相邻射流的间距选择成避免浮槽气氛从这两个相邻射流之间逃逸。
当存在多个射流时，优选地，多个射流的间距选择成避免浮槽气氛从分开的射流之间逃逸。
当存在多个流体射流时，优选地，至少两个相邻的流体射流配置成至少部分地重叠。
本发明的第三方面还提供了一种浮槽，其包括含有还原性气氛的封装件，该封装件具有用于将熔融玻璃引入到该封装件中的入口设施以及使所成型的玻璃能够从该封装件出来到达该封装件外部的输送设施的出口设施，该输送设施具有输送平面，该出口设施包括挡板，该挡板配置成使得所成型的玻璃通过由该挡板的至少一部分限定的开口从所述封装件出来，其中，挡板的下游定位有密封设施，该密封设施包括一排喷嘴或者一个或多个喷嘴，所述喷嘴配置成将一个或多个流体(优选气体)射流在第一喷射方向上、并随后在第二喷射方向上引向输送平面。
优选地，浮槽包括用于使一个或多个流体射流朝向输送平面偏转的设施，使得第一喷射方向不同于相应流体射流的第二喷射方向。
优选地，至少一个喷嘴具有缝孔。
优选地，浮槽包括在出口设施下游的至少一个障碍物，该至少一个障碍物配置成将第一流体射流的方向从第二方向变化到第三方向。在使用中，该障碍物优选地是辊或者玻璃带的上表面。
本发明的第四方面还提供了一种用于减少从浮槽的出口端损失的浮槽气氛的体积的组件，该组件包括用于浮槽的挡板以及包括一排喷嘴或一个或多个喷嘴的密封设施，该喷嘴配置成在挡板的方向上引导一个或多个流体(优选气体)射流，该组件配置成使得所述一个或多个流体射流具有第一喷射速度、随后具有第二喷射速度，通过所述一个或多个射流偏离挡板和/或偏离挡板下游的偏转表面而使第一喷射速度不同于第二喷射速度。
该组件可以在将玻璃带输送远离浮槽的出口端时使用。
如果在没有将玻璃带输送远离浮槽的出口端时使用该组件，则优选地该组件包括位于挡板下游的障碍物，用于使所述一个或多个流体射流的速度从第二速度变化到第三速度。
附图说明
现在参照附图仅通过示例来描述本发明的实施方式，其中：
图1示出了浮法玻璃制造炉的示意性平面视图；
图2示出了通过线X-X’的图1中示出的浮法玻璃制造炉的示意性侧视图；
图3示出了浮槽出口端的一部分的示意性横截面视图；
图4示出了包括用于实施根据本发明的方法的设备的浮槽出口端的示意性横截面视图；
图5示出了图4中示出的浮槽出口端的示意性平面视图；
图6示出了包括用于实施根据本发明的方法的另一设备的浮槽出口端的示意性横截面视图；
图7示出了包括用于实施根据本发明的方法的另一设备的浮槽出口端的示意性横截面视图。
具体实施方式
参见图1和2，浮法玻璃制造炉1包括与炉5联通的给料部段3。玻璃制造原材料4被供给到给料部段3以在炉5中被转化成熔融玻璃6。在炉5中可以对熔融玻璃6进行精炼(消泡)和调节(使其能够冷却到适合于成型的温度)，或者炉5可以包括相连接的用于对熔融玻璃单独进行精炼和调节的部段。
熔融玻璃6经由通道7离开炉5并进入浮槽9。浮槽9包括含有一池熔融锡10的封装件9’，该池熔融锡10用于将熔融玻璃11’支撑在其上面。正如本领域中已知的，熔融玻璃11’散开在熔融锡10的表面上以形成玻璃带11。包括氮气和氢气的浮槽气氛12被保持在熔融锡10的表面上方以防止熔融锡氧化。浮槽气氛具有微小的正压，一般在1和30Pa之间，以有助于防止空气进入到浮槽中。一般地，浮槽9还包括通风口(未示出)，以有助于控制浮槽内部的压力和/或浮槽气氛的成分。在本领域中，“浮槽气氛”通常称作“槽气氛”。
玻璃带11通过封装件中的开口离开浮槽的出口端9a并且转移到辊子输送机部段13a上，该辊子输送机部段包括封闭在护罩部段9b中的提升辊。提升辊是辊子输送机台面的一部分，输送机台面包括输送机辊子部段13a和整体由13b和13c表示的输送机辊子部段。提升辊主要将玻璃带11从熔融锡的表面转移到辊子输送机台面上，用于输送到浮法玻璃制造炉的其他下游部件。玻璃带11在辊子输送机台面上被沿着箭头25的方向(表示输送方向)输送，其中每个部段包括多个间隔开的输送机辊15(图1中仅标出了其中两个)。输送机辊15横向延伸并且具有基本垂直于玻璃带11的输送方向25的纵向轴线。输送机辊限定了输送平面，浮法玻璃带在输送时位于输送平面上。一般地，输送平面平行于水平面。
玻璃带11被输送通过退火炉17，以将玻璃带冷却到环境状态。然后玻璃带11从切割部段19下方通过，切割部段19配置成将玻璃带切割成单独的玻璃板21、23。
为了避免疑义，退火炉17在浮槽9的下游。
图3示出了浮槽9的出口端的一部分的示意性横截面视图。浮槽9包括封装件，该封装件具有顶部部段30、与熔融锡10接触的底部部段32以及侧壁(未示出)，因此该封装件基本上是箱形的(见图2)。在熔融锡10上方存在浮槽气氛12。正如本领域中已知的，在熔融锡10的表面上成型的玻璃带11在属于输送机辊子部段13a的一部分的提升辊15a、15b和15c上从浮槽9移除。
浮槽9具有出口端9a，其配置成使玻璃带从所述封装件离开浮槽，以被在辊子输送机台面(在图3中仅示出了其一部分并且标记为13’)上输送。辊子输送机台面部段13a具有三个输送机提升辊15a、15b和15c，每个提升辊在相应的箭头16a、16b和16c的方向上转动，使得输送方向为箭头25的方向。与提升辊15a、15b和15c切向接触的线位于由提升辊的上玻璃接触部限定的输送平面内。当玻璃带离开浮槽时，玻璃带位于输送平面上或输送平面内。
在提升辊15a、15b和15c上方是用于包含浮槽气氛护罩部段9b，护罩部段包括难熔的顶部部段9c和自顶部部段9b朝向输送平面/浮法玻璃带11向下延伸的出口挡板9d，以在出口挡板9d的下端9f与辊15c的上输送表面之间限定开口9e。开口9e的大小足以使得玻璃带11能够从中通过，用于随后在输送机辊15d、15e等上面被输送到退火炉17(以阴影示出)中。
正如本领域中已知的，浮槽的出口端可以包括许多横跨浮槽的宽度(即在侧壁之间)和/或在护罩部段的壁之间延伸的挡板，以在通过开口9e转移玻璃带时减少经由开口9e而损失的浮槽气氛。
在本领域中，出口挡板9d可以称作帘板。一般地，出口挡板9d是合适的耐热材料制成的板。出口挡板9d可以相对于提升辊15c移动，使得可以改变开口9e的高度。
出口挡板9d具有两个相对的主表面，一个主表面面对浮槽9，另一个相对的主表面面对退火炉17。出口挡板9d的一个或两个主表面可以是平坦的或具有波纹的。
在图3中示出的示例中，出口挡板9d的下端9f面对提升辊15c的上面对部分，不过出口挡板9d可以间隔开地布置在如图3所示的出口挡板9d的位置的上游或下游。在这些后面的实施方式中，出口挡板9d仍然可以在提升辊15c上方或者在提升辊15c与相邻的上游辊15b或下游辊15d之间的空间上方。
优选地，辊15c的转动轴线基本与出口挡板的下端9f对准。优选地，出口挡板9d基本平行于竖直方向布置。
玻璃带11的下表面11a与辊15c通过其之间的接触而形成密封，从而防止或减少从玻璃带下方损失的浮槽气氛。出口挡板9d布置在辊15c上玻璃接触点的部位的下游或上游可以影响与玻璃带的下表面的这种密封的质量。
考虑到在浮槽9内部存在正压，所以浮槽气氛12可以经由出口端部段9a中的开口9e从浮槽逃逸。
当在箭头25的方向上输送玻璃带11时，在通过开口9e之后，玻璃带上方的气氛从浮槽气氛变化为空气气氛。
使用图4和图5来描述用于实施根据本发明的第一方面的方法的设备的操作。浮槽9与参照图3描述的浮槽相同并且以相同方式操作。
浮槽9以通常的方式操作，以当在特定浮法玻璃制造炉上制造浮法玻璃带时确定通常的操作参数。
特定的浮槽9具有两个通风口(未示出)，对于通常的运行条件，这两个通风口以可操作的配置方式放置。使用压力计测量到的通过通风口的总流量是265Nm3/h。使用数字压力计在固定测量位置(大致在浮槽长度和宽度的中间位置)上测量浮槽9内部的压力。在这些条件(其中两个通风口是上述的可操作配置方式)下，测量到的浮槽内部的压力是15Pa。
然后将两个通风口关闭，以便于没有浮槽气氛能够经由这两个通风口从浮槽内部排出到其外部。因此通过这两个通风口的流量是0Nm3/h(因为它们被关闭)。在相同测量位置测量到的浮槽内部的压力是23Pa。正如所期望的，关闭通风口增大了浮槽内部的压力，在该示例中压力增量是8Pa。因此该压力增量相当于265Nm3/h的流量，因为该浮槽气氛的体积不再通过两个通风口排出(即逃逸/损失)。
为了减少从浮槽9的出口端9a损失的浮槽气氛的体积，在出口端9a的下游(即在开口9e的下游)设置了设备50。如图4和图5所示，设备50在浮槽9和出口端9a的外部或外侧。设备50位于开口9e与退火炉17的入口之间的空间内。通过将设备50定位在浮槽9和出口端9a的外部，设备50能够位于距离玻璃带11合适的距离处，以将与其接触的风险降到最低。
设备50包括一排10个喷嘴54(每个单独的喷嘴标记为i、ii、iii、iv、v、vi、vii、viii、ix和x来辅助识别)，每个喷嘴经由各自的管路56(为了清楚起见在图5中仅标示出了其中一个)与歧管52流体联通。
经由合适的软管或管路58向歧管52供应氮气(名义上是100％的氮气)，供应到歧管的氮气的压力可由阀59控制。合适地，每个喷嘴或喷嘴54的任意组合(i、ii、iii、iv、v、vi、vii、viii、ix和x)可以具有各自的用于控制通向其的气体流量的阀。可以使用其他惰性气体。优选地，不使用空气，由于空气在挡板9d下方可能通过开口9e进入，从而污染浮槽气氛12(即用氧气污染)。
在向歧管52供应氮气时，从每个喷嘴54(i、ii、iii、iv、v、vi、vii、viii、ix和x)的端部向挡板9d发射氮气射流60。
每个喷嘴54配置成在第一方向上朝向出口挡板9d发射各自的氮气射流(其中由箭头60表示第一喷射速度)，以通过冲击出口挡板9d来改变氮气射流的方向(变化到由箭头62表示的第二喷射速度)。这样造成了氮气射流在第二方向处(因此也是第二速度)朝向玻璃带11的上表面11b(即朝向输送平面)向下偏转。在本发明的上下文中，玻璃带的上表面是玻璃带的未与浮槽中的熔融锡(或其他合适的熔融金属)接触的主表面。结果，与玻璃带的上表面相对的表面与浮槽中的熔融锡接触，且一般称作玻璃带的下表面。由于玻璃带的下表面与浮槽中的熔融锡的接触，玻璃带的下表面通常在其表面中具有较高的锡含量。
在从出口挡板9d偏离时，氮气射流改变方向并且由于出口挡板9d的温度而被加热，该温度一般高于500℃，即大约500-700℃。
然后使具有各自的第二喷射速度的每个氮气射流再次改变速度，使得每个氮气射流的速度由于玻璃带的存在而变化到各自的第三速度，以在开口9e处提供密封，从而减少可能从开口9e损失的浮槽气氛的量。
目标是在出口挡板9d下端9f下方获得停滞点，即：使得每个氮气射流的第三喷射速度为零。然而，当氮气射流的第三喷射速度在由箭头25表示的输送方向上具有速度分量时，可以减少从出口端中的开口9e损失的浮槽气氛的体积。氮气射流具有足够的动量流量以减少可能从开口9e流出的浮槽气氛的量。
在某些流动条件下，具有各自的第三喷射速度的氮气射流在输送方向上行进并且可以在开口9e下游的某个点处冲击玻璃带的上表面。
在该示例中，相邻喷嘴54(即54i和54ii)之间的间距为大约25cm，不过这可以根据浮法玻璃带的宽度(因此也是浮槽9的出口端9a中的开口9e的宽度)进行改变。
在该示例中，每个喷嘴54是相同的类型且具有缝孔，各自的氮气射流穿过该缝孔发射。每个氮气射流具有大约60°的喷射角，这些喷嘴布置成使得来自于相邻喷嘴的射流的至少一部分在冲击出口挡板9d和/或玻璃带11的上表面时重叠。优选地使得来自于相邻喷嘴的射流的至少一部分重叠是因为至少两个相邻的流体射流于是被配置成使得相邻的射流在垂直于喷射方向的方向上彼此推动，这是由于在垂直于射流路径的方向上的射流动量的湍流扩散导致的。这有助于确保浮槽气氛不能优先从各个射流之间逃逸。缝孔可以基本是矩形的，其具有5mm和10mm之间的长度、以及0.05mm和0.5mm的宽度。
每个喷嘴54配置成以与竖直方向(标记为64)呈45°的角度α发射扁平射流。竖直方向与标记为65的水平方向垂直。在该示例中，水平方向平行于或者基本平行于玻璃带的上表面。对于扁平射流，流体以基本扁平流体层的形状从喷嘴发射，即：流体的扁平射流具有在第一方向上的速度曲线，该速度曲线显著长于在与第一方向垂直的第二方向上的速度曲线。扁平射流的速度曲线的第一方向可以平行于玻璃带的上表面。
在稳定运行条件下并且设备50没有接通的情况下，发现测量位置处的浮槽内部的压力是26Pa。
为了密封浮槽9的出口端9a使得从出口端损失的浮槽气氛的体积减少，供应给10个喷嘴54的氮气使用阀59慢慢增加，直到看不到火焰从开口9e出现为止。发现对于特别稳定的运行条件，当通过10个喷嘴的氮气的总体积为大约90Nm3/h时，浮槽内部的压力被发现(从26Pa)增加到33Pa，没有火焰从开口9e处出现。
在出口端被密封的情况下，由于玻璃带11的存在，每个氮气射流的速度已经从各自的第二喷射速度变化到各自的第三喷射速度。
考虑到在通常的运行条件下，浮槽内部8Pa的压力增量相当于大约265Nm3/h(源于通风口关闭时进行的试验)，浮槽内部7Pa的压力增量大致相当于230Nm3/h(7/8×265Nm3/h)的气氛体积，即这种量的浮槽气氛不会通过开口9e从浮槽9的出口端9a损失。因此，如果需要使浮槽在该更高的压力下运行，考虑进产生密封的氮气的流量(90Nm3/h)，浮槽气氛净节省大约140Nm3/h，因为由于由如上所述的设备50的操作形成的密封，浮槽气氛不会从浮槽的出口端损失。
具有这种密封的另外的益处是：在某些运行条件下(通常在浮槽出口端的维护过程中)，可以减少可以被吸入到浮槽中的空气的量，从而减少浮槽气氛的氧气含量。这是通过在浮槽封装件内部使用氧气探针确认的，其中浮槽封装件内部的氧气下降2-3倍，即相比于关掉射流并且降低浮槽内部的压力的时候，当如上所述利用来自于射流54的90Nm3/h的氮气流量密封开口9e时O2含量低两到三倍。
在该示例中，通过10个喷嘴54(i、ii、iii、iv、v、vi、vii、viii、ix和x)中的每个喷嘴的氮气的总流量是均匀的，不过优选地可以以不同方式改变每个喷嘴的氮气流量，例如喷嘴54(iv、v、vi和vii)的流速可以高于喷嘴(i、ii、iii、viii、ix和x，其中喷嘴i、ii、iii、viii、ix和x的流速相同)的流速。喷嘴流速的其他配置是可行的。
在相同的浮槽上实施第二系列测试。
在稳定操作情况下，在与先前的相同测量位置处测量到的浮槽内部的压力为大约15Pa。使用密封设备50，喷嘴的总的氮气流量增加，直到看不到火焰从浮槽出口(即在开口9e处)出现为止。在该点处，出口端9a已经密封。
测量到浮槽内部的压力为大约21Pa，压力的增加是由于缺少如上所述的从开口9e损失的浮槽气氛而造成的。然后将浮槽内部的压力减小到预密封压力(大约15Pa)，结果在该第二测试中，需要供应到浮槽气氛的氮气的体积减少230Nm3/h以在浮槽内部获得预密封压力。在该第二测试中，这是利用90Nm3/h的喷嘴总氮气流量实现的。因此，使用氮气的净减少量是140Nm3/h，由于为了在浮槽中获得相同的压力需要更少的氮气，所以降低了成本。
参见图4，如果在辊子输送机台面上没有将玻璃带11输送远离开口9e，那么仍然可以使用密封设备50来减少经由开口9e从浮槽损失的浮槽气氛的体积。
在这种情况下，由于提升辊15c的上表面的存在，使具有各自第二喷射速度62的每个氮气射流(来自于喷嘴54)从各自的第二喷射速度变化到各自的第三喷射速度，从而减少了经由开口9e从浮槽损失的浮槽气氛的体积。提升棍15c的上表面是辊的在玻璃带在辊子输送机台面上时配置成接触玻璃带的部分。
通过将提升辊15c适当地远离开口9e放置，可以在具有第二喷射速度62的氮气射流的路径上定位合适的障碍物(即难熔或金属架)，由于该障碍物的存在，使得具有各自的第二喷射速度的氮气射流变化到各自的第三喷射速度，以减少经由开口9e从浮槽损失的浮槽气氛的体积。显然，在玻璃带11不存在的情况下，提升辊15c起障碍物的作用。
可以用于实施根据本发明的第一方面的方法的另一种设备是使用气刀设计，其中，将长且薄形的喷嘴布置在浮槽的出口端中的开口的下游和上方，用于提供跨过开口的整个宽度的连续的薄气体射流。这在图6中示出，其中，包括一排这种喷嘴154的设备150布置在浮槽9出口端9a中的开口9e的下游。该排喷组154与歧管(未示出，但是参见图5中的歧管52)流体联通。
来自于喷嘴154的射流具有与最终的喷射方向162相同的第一喷射方向160，即：射流154未被偏转(直到由于开口9e附近和下游的玻璃带11的上表面11b的存在而使它们改变方向)。
气刀设计可以提供更均匀的背压，因此相比于成角度的射流可以提供更有效的密封。为了空气或更优选的惰性气体(即氮气)的均匀分布，需要长且薄的气刀，尤其装入到浮槽出口端下游且在退火部段17之前的相对小的空间中。这种薄的气刀由于浮槽出口端9a附近的相对热的环境而更易于变形，因此需要更多的耐热材料，从而潜在地增加了成本。
当氮气通过歧管到达喷嘴154时，氮气存在一定水平的预热，使得在使用冷的氮气冲击最终的出口挡板9d中存在更少的热损失。可以存在单独的气体预热阶段，或者可以使用来自于局部环境的热能来对氮气进行预热。
图7示出了本发明的另一个实施方式，其中密封设备250位于开口9e/出口挡板9d的下游。与图4中示出的(其中，如上所述使用出口挡板9d来通过使射流冲击出口挡板9d而将第一喷射速度变化到第二喷射速度)实施方式相反，密封设备250包括与所述一排喷嘴中的每个喷嘴54关联的单独的偏转器270。偏转器270提供了用于改变在其上冲击的气体射流的方向的偏转表面。
除了提供了偏转器270之外，所述一排喷嘴基本与参照图4和图5描述的相同。偏转器270可以是单个条带，以对所述一排喷嘴中的每个喷嘴提供偏转表面，或者每个喷嘴可以具有其自身的偏转器。这是有利的，因为提供给来自于每个喷嘴的每个射流的偏转量可以单独变化。
考虑单个喷嘴(即54(i))，来自于该喷嘴的气体射流以与竖直方向64呈第一角度α发射并且在由箭头260示出的第一方向上行进，即当射流在方向260上行进时，其具有第一速度。合适地，角度α为大约45°。具有第一速度260的射流冲击偏转器270并且向下偏转，由箭头262示出。在由箭头262示出的第二方向上行进的射流基本与竖直方向64平行(结果基本与水平方向65垂直)。在第二方向上移动的射流具有第二速度。
使射流262变化到优选地在输送方向25上的第三喷射方向(因此也是第三喷射速度)，不过目标是要在出口挡板9e的下端9f下方获得停滞点。具有第二和/或第三喷射方向的射流可以接触玻璃带的上表面11b，通常是在开口9e的下游。具有第三喷射速度的气体射流具有足够的动量流量来减少从浮槽9出口端9a中的开口9e损失的浮槽气氛的体积。
在该示例中，偏转器270通过臂272与喷嘴54机械联通，该臂具有与其垂直的成角度的部分，该臂自喷嘴54的本体延伸，使得偏转器270处于合适的位置以将从喷嘴54发射的气体射流从第一喷射方向260偏转到第二喷射方向262。偏转器270在出口挡板9d的下游。
替代性地，可以使用单独的框架来将与喷嘴关联的所述偏转器或每个偏转器定位在合适的位置，以将所述流体射流或每个流体射流从第一方向偏转到第二方向，即第一速度到第二速度。
虽然在附图中出口挡板9d被示出为具有相对的平坦主表面(一个主表面面对退火炉17，相对的主表面面对浮槽9的内部)，出口挡板9d的主表面可以是弯曲的或者波浪形的，使得出口挡板9d起皱。同样地，当引导流体射流冲击和冲撞出口挡板9d以改变流体射流的方向时，偏转表面可以不是平坦的，而是可以具有波纹形式，具有基本平行的脊和槽，尤其与竖直方向平行。
正如从图4、6和7显而易见的，玻璃带11的下表面与辊15c的接触表面形成密封，正如关于图3描述的。
同样显而易见的是，参见图6和7，如果没有玻璃带11在辊子输送机台面上被输送远离开口9e，则仍然可以使用密封设备150、250来减少经由开口9e从浮槽损失的浮槽气氛的体积。
关于图6，由于提升辊15c的上表面的存在，使具有第二喷射速度162的氮气射流(来自于喷嘴154)的速度变化到第三喷射速度，从而减少了经由开口9e从浮槽损失的浮槽气氛的体积。
关于图7，由于提升辊15c的上表面的存在，使具有第二喷射速度262的氮气射流(来自于喷嘴254)变化到第三喷射速度，以减少经由开口9e从浮槽损失的浮槽气氛的体积。
通过将提升辊15c远离开口9e合适地放置，可以在具有第二喷射速度162、262的氮气射流的路径上定位适当的障碍物(即难熔或金属架)，使得该障碍物造成氮气射流的速度变化到各自的第三喷射速度，以减少经由开口9e从浮槽损失的浮槽气氛的体积。
本发明提供了一种减少从浮槽的出口端损失的浮槽气氛的体积的方法，从而节省了成本并能够保持浮槽内部改进的气氛条件和控制。
因此，本发明提供了一种减少从浮槽的出口端中的开口损失的浮槽气氛的体积的方法。该方法包括将具有第一喷射速度、之后具有第二射流速度的第一流体射流引向用于输送浮法玻璃带的平面。第一流体射流路径上的障碍物使射流从第二喷射速度变化到第三喷射速度。该障碍物可以是位于开口外部的辊的一部分或者是已经在包含在浮槽内的熔融金属的表面上成型的浮法玻璃带，所述浮法玻璃带随后通过所述开口转移。

Claims (32)

1.一种减少从浮槽的出口端损失的浮槽气氛的体积的方法，包括步骤：
(i)向浮槽的入口端提供熔融玻璃的源；
(ii)在包含于浮槽内的一池熔融金属的表面上将熔融玻璃成型为玻璃带，使得玻璃带具有不与熔融金属接触的上表面；
(iii)通过浮槽的出口端中的开口将玻璃带从所述一池熔融金属的表面转移到输送设施上，所述输送设施用于沿着远离所述开口的第一输送方向输送玻璃带；以及
(iv)将至少一个(第一)流体射流引向玻璃带的上表面，所述第一流体射流具有第一喷射速度和随后的第二喷射速度，第一流体射流的第一喷射速度具有第一喷射速率和第一喷射方向，第一流体射流的第二喷射速度具有第二喷射速率和第二喷射方向；
其中，由于玻璃带的上表面的存在，具有第二喷射速度的第一流体射流从第二喷射速度变化到第三喷射速度，以减少经由所述开口从浮槽损失的浮槽气氛的体积。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，将具有第二喷射速度的第一流体射流引向所述开口的下游的玻璃带的上表面。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中，在所述开口的上游的玻璃带的上方是包括浮槽气氛的气氛，而在所述开口的下游的玻璃带的上方是空气气氛。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，在步骤(iv)处，通过设置在浮槽外部的喷射设施将第一流体射流引向玻璃带的上表面。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，通过冲击所述开口的下游的玻璃带的上表面来使具有第二喷射速度的第一流体射流的速度从第二喷射速度变化到第三喷射速度。
6.一种减少从浮槽的出口端损失的浮槽气氛的体积的方法，所述浮槽包括用于包含浮槽气氛的封装件，所述出口端包括开口，支撑在包含于所述封装件中的一池熔融金属上的玻璃带能够通过所述开口从所述封装件的内部到达位于所述封装件的外部的输送设施，所述输送设施配置成在远离所述封装件的第一方向上沿着输送平面输送玻璃带，该方法包括步骤：(i)将至少一个(第一)流体射流引向输送平面，所述第一流体射流具有第一喷射速度和随后的第二喷射速度，第一流体射流的第一喷射速度具有第一喷射速率和第一喷射方向，第一流体射流的第二喷射速度具有第二喷射速率和第二喷射方向；其中，由于在具有第二喷射速度的第一流体射流的路径上存在障碍物，具有第二喷射方向的第一流体射流从第二喷射速度变化到第三喷射速度，以减少经由所述开口从浮槽损失的浮槽气氛的体积。
7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述障碍物位于所述开口的外部。
8.根据权利要求6或权利要求7所述的方法，其中，所述障碍物包括辊的至少一部分，优选为属于所述输送设施的部件的辊。
9.根据权利要求6到8中任一项所述的方法，其中，所述障碍物包括远离所述开口延伸的偏转元件，优选地其中，所述偏转元件具有平坦表面以使第一流体射流从第二喷射速度变化到第三喷射速度。
10.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，第一流体射流的第一喷射方向和/或第一流体射流的第二喷射方向与竖直方向呈65°或更小的角度。
11.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，第一流体射流的第三喷射速度为零，或者其中，第一流体射流的第三喷射速度沿着输送方向。
12.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，第一流体射流的第一喷射方向或者第一流体射流的第二喷射方向与竖直方向平行。
13.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，使第一流体射流改变方向，以使得第一流体射流的第二喷射方向不同于第一流体射流的第一喷射方向。
14.根据权利要求13所述的方法，其中，通过冲击在偏转表面上而使第一流体射流的方向从第一喷射方向变化到第二喷射方向。
15.根据权利要求14所述的方法，其中，第一流体射流的第一喷射方向与竖直方向所呈的角度在30°和60°之间，优选在40°和50°之间，更优选在44°和46°之间，在冲击偏转表面之后，第一流体射流的第二喷射方向与竖直方向所呈的角度小于30°，优选与竖直方向所呈的角度小于20°，更优选与竖直方向所呈的角度小于10°，最优选与竖直方向所呈的角度小于5°。
16.根据权利要求14或权利要求15所述的方法，其中，第一流体射流在所述开口的上方的冲击区域处冲击偏转表面，所述冲击区域与玻璃带的上表面间隔开、或者如果没有玻璃带存在则与输送平面间隔开，优选地其中，所述冲击区域与玻璃带的上表面间隔开、或者如果没有玻璃带存在则与输送平面间隔开的距离为至少10mm、或者至少20mm、或者至少30mm、或者至少40mm、或者至少50mm、或者至少60mm、或者至少70mm、或者至少80mm、或者至少90mm、或者至少100mm，和/或其中，所述冲击区域与玻璃带的上表面间隔开、或者如果没有玻璃带存在则与输送平面间隔开的距离小于300mm、优选小于250mm、更优选小于200mm。
17.根据权利要求14到16中任一项所述的方法，其中，所述偏转表面包括加热设施以提供加热的偏转表面，和/或其中，所述偏转表面的温度高于400℃、更优选高于450℃、甚至更优选高于500℃。
18.根据权利要求14到17中任一项所述的方法，其中，所述偏转表面是配置成减少从浮槽的出口端中的所述开口损失的浮槽气氛的体积的挡板。
19.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，第一流体射流在沿着第一喷射方向和/或第二喷射方向移动之前和/或之后被加热。
20.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，当在沿着第一喷射方向和/或第二喷射方向移动之前和/或期间和/或之后移动时，第一流体射流的温度高于100℃、更优选地其温度在200℃和300℃之间。
21.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述流体是惰性流体或者还原性流体。
22.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述流体是气体，优选地其中，所述流体包括氮气，更优选地其中，所述流体是所包含的氮气体积高于90％的气体。
23.根据权利要求22所述的方法，其中，所述气体包括体积小于1％的氧气。
24.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述至少一个射流的流体流量在Fmin和Fmax之间，其中，Fmin<Fmax且Fmin在5Nm3/h和80Nm3/h之间，Fmax在90Nm3/h和500Nm3/h之间。
25.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，由具有缝孔的喷嘴和/或扁平的扇形喷嘴提供第一流体射流。
26.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，第一流体射流具有15°和130°之间的喷射角度。
27.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，第一流体射流的第一喷射速率和/或第一流体射流的第二喷射速率小于20℃下干燥空气中的音速，优选小于大约340m/s。
28.一种浮槽，包括用于包含还原性气氛的封装件，所述封装件具有用于将熔融玻璃引导到封装件内的入口设施、和用于使所成型的玻璃能够从封装件出来并到达封装件的外部的输送设施的出口设施，所述输送设施具有输送平面，所述出口设施包括挡板，所述挡板配置成使得所成型的玻璃通过由所述挡板的至少一部分限定的开口从所述封装件出来，其中，所述挡板的下游定位有密封设施，所述密封设施包括一排喷嘴或者一个或多个喷嘴，所述喷嘴配置成将一个或多个流体射流沿着第一喷射方向、并随后沿着第二喷射方向引向输送平面，流体优选为气体。
29.根据权利要求28所述的浮槽，包括用于将所述一个或多个流体射流朝向所述开口偏转的设施，使得第一喷射方向不同于相应流体射流的第二喷射方向，和/或其中，至少一个喷嘴具有缝孔。
30.根据权利要求28或权利要求29所述的浮槽，还包括在所述出口设施的下游的至少一个障碍物，所述至少一个障碍物配置成将第一流体射流的方向从第二喷射方向变化到第三喷射方向。
31.一种用于减少从浮槽的出口端损失的浮槽气氛的体积的组件，所述组件包括用于浮槽的挡板以及包括一排喷嘴或一个或多个喷嘴的密封设施，所述喷嘴配置成在所述挡板的方向上引导一个或多个流体射流，流体优选为气体，所述组件配置成使得所述一个或多个流体射流具有第一喷射速度、随后具有第二喷射速度，通过使所述一个或多个流体射流偏离所述挡板和/或偏离所述挡板的下游的偏转表面而使第一喷射速度与第二喷射速度不同。
32.根据权利要求31所述的组件，其中，在使用中，所述密封设施位于浮槽的外部。
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