CN109885206A - 透明导电膜结构及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种透明导电膜结构及其制备方法，透明导电膜结构包括：第一金属网格，包括若干条平行间隔排布的第一金属线及若干条平行间隔排布的第二金属线，第一金属线沿第一方向延伸，第二金属线沿第二方向延伸；第一金属线的宽度大于第二金属线的宽度；第二金属网格，位于第一金属网格上，第二金属网格包括若干条平行间隔排布的第三金属线及若干条平行间隔排布的第四金属线，第三金属线沿第一方向延伸，第四金属线沿第二方向延伸；第三金属线的宽度小于第四金属线的宽度。本发明的透明导电膜结构可以有效抑制摩尔纹，从而在透明导电膜结构用于金属网格触摸屏时确保金属网格触摸屏具有较好的光学效果。
Description
技术领域
本发明属于金属网格技术领域，特别是涉及一种透明导电膜结构及其制备方法。
背景技术
金属网格触摸屏一般是有金属网格构成通道而具备功能。金属网格多为规则图形，如矩形、菱形或六边形等等。现有的金属网格触摸屏一般包括驱动层和感应层，驱动层及感应层内均具有金属网格作为导线层，并且驱动层及感应层内的金属网格中的金属线的线宽相同。然而，上述金属网格触摸屏中，驱动层及感应层容易与LCD(液晶显示屏)的R(红)G(绿)B(蓝)像素结构产生摩尔纹现象，而摩尔纹现象的存在必然会严重影响金属网格触摸屏的光学效果。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种透明导电膜结构及其制备方法，用于解决现有技术中的金属网格触摸屏存在的驱动层及感应层容易与LCD的RGB像素结构产生摩尔纹现象，从而严重影响金属网格触摸屏的光学效果的问题。
为实现上述目的及其他相关目的，本发明提供一种透明导电膜结构，所述透明导电膜结构包括：
第一金属网格，包括若干条平行间隔排布的第一金属线及若干条平行间隔排布的第二金属线，所述第一金属线沿第一方向延伸，所述第二金属线沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向具有预设夹角，以使得所述第一金属线与所述第二金属线交叉连接成网格状；所述第一金属线的宽度大于所述第二金属线的宽度；
第二金属网格，位于所述第一金属网格上，所述第二金属网格包括若干条平行间隔排布的第三金属线及若干条平行间隔排布的第四金属线，所述第三金属线沿第一方向延伸，所述第四金属线沿第二方向延伸，所述第三金属线与所述第四金属线交叉连接成网格状；所述第三金属线的宽度小于所述第四金属线的宽度；各所述第三金属线在所述第一金属网格所在平面的正投影位于相邻所述第一金属线之间，各所述第四金属线在所述第一金属网格所在平面的正投影位于相邻所述第二金属线之间。
可选地，所述第一金属线的宽度与所述第四金属线的宽度相同，所述第二金属线的宽度与所述第三金属线的宽度相同。
可选地，所述第一金属线的宽度包括5微米～15微米，所述第二金属线的宽度包括1微米～10微米，所述第三金属线的宽度包括1微米～10微米，所述第四金属线的宽度包括5微米～15微米。
可选地，所述透明导电膜结构还包括：
第一柔性材料层，所述第一金属网格位于所述第一柔性材料层内；所述第一金属网格作为驱动层线路；
OCA光学胶层，位于所述第一柔性材料层及所述第一金属网格的上表面；
第二柔性材料层，位于所述OCA光学胶层上；所述第二金属网格位于所述第二柔性材料层内，所述第二金属网格作为感应层线路。
可选地，所述第一金属网格还包括第一种子层，所述第一种子层位于所述第一金属线与所述第一柔性材料层之间及所述第二金属线与所述第一柔性材料层之间；所述第二金属网格还包第二种子层，所述第二种子层位于所述第三金属线与所述第二柔性材料层之间及所述第四金属线与所述第二柔性材料层之间。
可选地，所述透明导电膜结构还包括：
第一基底，位于所述第一柔性材料层的下表面；
第二基底，位于所述OCA光学胶层的上表面；所述第二柔性材料层位于所述第二基底的上表面。
本发明还提供一种透明导电膜结构的制备方法，所述透明导电膜结构的制备方法包括步骤：
制备第一金属网格，所述第一金属网格包括若干条平行间隔排布的第一金属线及若干条平行间隔排布的第二金属线，所述第一金属线沿第一方向延伸，所述第二金属线沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向具有预设夹角，以使得所述第一金属线与所述第二金属线交叉连接成网格状；所述第一金属线的宽度大于所述第二金属线的宽度；
于所述第一金属网格上制备第二金属网格，所述第二金属网格包括若干条平行间隔排布的第三金属线及若干条平行间隔排布的第四金属线，所述第三金属线沿第一方向延伸，所述第四金属线沿第二方向延伸，所述第三金属线与所述第四金属线交叉连接成网格状；所述第三金属线的宽度小于所述第四金属线的宽度；各所述第三金属线在所述第一金属网格所在平面的正投影位于相邻所述第一金属线之间，各所述第四金属线在所述第一金属网格所在平面的正投影位于相邻所述第二金属线之间。
可选地，制备所述第一金属网格包括如下步骤：
提供第一基底；
于所述第一基底的上表面形成第一柔性材料层；
于所述第一柔性材料层的上表面形成若干条平行间隔排布的第一沟槽及若干条平行间隔排布的第二沟槽；所述第一沟槽沿第一方向延伸，所述第二沟槽沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向具有预设夹角，以使得所述第一沟槽与所述第二沟槽交叉连接成网格状；所述第一沟槽的宽度大于所述第二沟槽的宽度；
于所述第一沟槽内及所述第二沟槽内形成第一种子层；
于所述第一沟槽内形成第一金属线，并于所述第二沟槽内形成第二金属线，所述第一金属线与所述第二金属线交叉连接成网格状以构成所述第一金属网格。
可选地，于所述第一金属网格上制备所述第二金属网格包括如下步骤：
提供第二基底；
于所述第二基底的上表面形成第二柔性材料层；
于所述第二柔性材料层的上表面形成若干条平行间隔排布的第三沟槽及若干条平行间隔排布的第四沟槽，所述第三沟槽沿所述第一方向延伸，所述第四沟槽沿所述第二方向延伸，所述第三沟槽与所述第四沟槽交叉连接成网格状；所述第三沟槽的宽度小于所述第四沟槽的宽度；各所述第三沟槽在所述第一金属网格所在平面的正投影位于相邻所述第一金属线之间，各所述第四沟槽在所述第一金属网格所在平面的正投影位于相邻所述第二金属线之间；
于所述第三沟槽及所述第四沟槽内形成第二种子层；
于所述第三沟槽内形成第三金属线，并于所述第四沟槽内形成第四金属线，所述第三金属线与所述第四金属线交叉连接成网格状以构成所述第二金属网格；
于所述第一柔性材料层及所述第一金属网格的上表面形成OCA光学胶层；
将所述第二基底及所述第二柔性材料层贴置于所述OCA光学胶层的上表面，所述第二基底的下表面与所述OCA光学胶层的上表面相接触。
可选地，所述第一沟槽的宽度、所述第四沟槽的宽度、所述第一金属线的宽度及所述第四金属线的宽度均相同；所述第二沟槽的宽度、所述第三沟槽的宽度、所述第二金属线的宽度及所述第三金属线的宽度均相同。
可选地，所述第一沟槽的宽度包括5微米～15微米，所述第二沟槽的宽度包括1微米～10微米，所述第三沟槽的宽度包括1微米～10微米，所述第四沟槽的宽度包括5微米～15微米；所述第一金属线的宽度包括5微米～15微米，所述第二金属线的宽度包括1微米～10微米，所述第三金属线的宽度包括1微米～10微米，所述第四金属线的宽度包括5微米～15微米。
如上所述，本发明的透明导电膜结构及其制备方法，具有以下有益效果：
本发明的透明导电膜结构通过将第一金属网格中沿第一方向及第二方向两个不同方向延伸的第一金属线及第二金属线的宽度设置为不同，且将第二金属网格中沿第一方向及第二方向两个不同方向延伸的第三金属线及第四金属线的宽度设置为不同，可以达到有效抑制摩尔纹的效果，从而在透明导电膜结构用于金属网格触摸屏时确保金属网格触摸屏具有较好的光学效果。
附图说明
图1显示为本发明实施例一中提供的透明导电膜结构的制备方法的流程图。
图2至图8显示为本发明实施例一中提供的透明导电膜结构的制备方法中步骤1)所得结构的示意图。
图9至图18显示为本发明实施例一中提供的透明导电膜结构的制备方法中步骤2)所得结构的示意图。
元件标号说明
10 第一基底
11 第一柔性材料层
111 第一沟槽
112 第二沟槽
12 第一种子层
13 第一金属网格
131 第一金属线
132 第二金属线
14 第二柔性材料层
141 第一沟槽
142 第二沟槽
15 第二种子层
16 第二金属网格
161 第三金属线
162 第四金属线
17 第二基底
18 OCA光学胶层
具体实施方式
以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。
请参阅图1～图18。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本发明的基本构想，虽图示中仅显示与本发明中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。
实施例一
请图1，本实施例提供一种透明导电膜结构的制备方法，所述透明导电膜结构的制备方法包括步骤：
1)制备第一金属网格，所述第一金属网格包括若干条平行间隔排布的第一金属线及若干条平行间隔排布的第二金属线，所述第一金属线沿第一方向延伸，所述第二金属线沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向具有预设夹角，以使得所述第一金属线与所述第二金属线交叉连接成网格状；所述第一金属线的宽度大于所述第二金属线的宽度；
2)于所述第一金属网格上制备第二金属网格，所述第二金属网格包括若干条平行间隔排布的第三金属线及若干条平行间隔排布的第四金属线，所述第三金属线沿第一方向延伸，所述第四金属线沿第二方向延伸，所述第三金属线与所述第四金属线交叉连接成网格状；所述第三金属线的宽度小于所述第四金属线的宽度；各所述第三金属线在所述第一金属网格所在平面的正投影位于相邻所述第一金属线之间，各所述第四金属线在所述第一金属网格所在平面的正投影位于相邻所述第二金属线之间。
在步骤1)中，请参阅图1中的S1步骤及图2至图8，制备第一金属网格13，所述第一金属网格13包括若干条平行间隔排布的第一金属线131及若干条平行间隔排布的第二金属线132，所述第一金属线131沿第一方向延伸，所述第二金属线132沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向具有预设夹角，以使得所述第一金属线131与所述第二金属线132交叉连接成网格状；所述第一金属线131的宽度大于所述第二金属线132的宽度。
作为示例，步骤1)可以包括如下步骤：
1-1)提供第一基底10，如图2所示；
1-2)于所述第一基底10的上表面形成第一柔性材料层11，如图3所示；
1-3)于所述第一柔性材料层11的上表面形成若干条平行间隔排布的第一沟槽111及若干条平行间隔排布的第二沟槽112；所述第一沟槽111沿第一方向延伸，所述第二沟槽112沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向具有预设夹角，以使得所述第一沟槽111与所述第二沟槽112交叉连接成网格状；所述第一沟槽111的宽度大于所述第二沟槽112的宽度，如图4及图5所示，其中，图4为步骤1-3)所得结构的俯视结构示意图，图5为沿图4中AA’方向的截面结构示意图；
1-4)于所述第一沟槽111内及所述第二沟槽112内形成第一种子层12，如图6所示；
1-5)于所述第一沟槽111内形成第一金属线131，并于所述第二沟槽112内形成第二金属线132，所述第一金属线131与所述第二金属线132交叉连接成网格状以构成所述第一金属网格13，如图7及图8所示，其中，图7显示为步骤1-5)所得结构的俯视结构示意图，图8为沿图7中AA’方向的截面结构示意图。
作为示例，步骤1-1)中提供的所述第一基底10可以包括刚性基底或柔性基底，所述刚性基底可以包括但不仅限于玻璃基底，所述柔性基底包括但不仅限于聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基底、聚酰亚胺(PI)基底、聚碳酸酯(PC)基底或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基底。所述第一基底10的厚度可以根据实际需要进行设定，此处不做限定。
作为示例，步骤1-2)中形成的所述第一柔性材料层11可以包括但不仅限于UV树脂层，譬如，聚丙烯酸系的UV树脂层等等；具体的，可以采用旋涂法于所述第一基底10的表面旋涂形成所述第一柔性材料层11。需要说明的是，所述UV树脂层又称为光敏树脂层、紫外光固化树脂层，它可以作为油漆、涂料、油墨等的胶料使用。UV是英文Ultraviolet Rays的缩写，即紫外线。紫外线是肉眼看不见的，是可见光以外的一段电磁辐射，波长在10nm～400nm的范围。所述UV树脂层的固化原理是所述UV树脂中的光引发剂(或光敏剂)在紫外线的照射下吸收紫外光后产生活性自由基或阳离子，引发单体聚合、交联和接支化学反应，使得所述UV树脂层在数秒钟内由液态转化为固态。
需要进一步说明的是，该步骤中形成于所述第一基底10表面的所述第一柔性材料层11未经过紫外光照射，仍然呈液态。
作为示例，步骤1-3)中，可以采用压印工艺于所述第一柔性材料层11的上表面形成所述第一沟槽111及所述第二沟槽112。具体的，可以提供一表面具有凸起结构的模具(未示出)，所述凸起结构的形状与所述第一沟槽111及所述第二沟槽112的形状完全相匹配；使用所述模具形成有所述凸起结构的一面挤压所述第一柔性材料层11的上表面，使得所述凸起结构陷入于所述第一柔性材料层11内以形成所述第一沟槽111及所述第二沟槽112；使用紫外光照射所述第一柔性材料层11以使所述第一柔性材料层11固化后移除所述模具即可。
作为示例，步骤1-3)中所述第一柔性材料层11的上表面形成的沟槽可以相互连通呈菱形网格状、矩形网格状、五边形网格状或六边形网格状等等，即当所述第一柔性材料层11的上表面形成的所述沟槽呈菱形网格状或矩形网格状时，所述第一柔性材料层11的上表面形成所述第一沟槽111及所述第二沟槽112，所述第一沟槽111及所述第二沟槽112可以相互连通呈菱形网格状或矩形网格状；当所述第一柔性材料层11的上表面形成的所述沟槽呈五边形网格状或六边形网格状时，所述第一柔性材料层11的上表面除了形成所述第一沟槽111及所述第二沟槽112之外，还形成有与所述第一沟槽111及所述第二沟槽112相连通的其他沟槽，所有的沟槽相互连通呈五边形网格状或六边形网格状。
作为示例，所述第一沟槽111的宽度可以包括5微米～15微米，所述第二沟槽112的宽度可以包括1微米～10微米；优选地，本实施例中，所述第一沟槽111的宽度包括8微米～10微米，所述第二沟槽112的宽度包括6微米～8微米。
作为示例，步骤1-4)中，可以采用溅射工艺或刮印工艺于所述第一沟槽111及所述第二沟槽112内形成所述第一种子层12，所述第一种子层12的材料可以包括银、铜、金、金属催化油墨或可被光还原的溴化银等等；需要说明的是，所述第一种子层12可以仅形成于各所述第一沟槽111的底部及各所述第二沟槽112的底部，也可以同时形成于各所述第一沟槽111及所述第二沟槽112的底部及侧壁。
作为示例，步骤1-5)中，可以采用电镀工艺或化学镀工艺形成所述第一金属线131及所述第二金属线132。
作为示例，所述第一金属线131的材料可以包括铜、金、银、镍等等，所述第二金属线132的材料可以包括铜、金、银、镍等等。
作为示例，所述第一金属线131的上表面不高于所述第一柔性材料层11的上表面，所述第二金属线132的上表面不高于所述第一柔性材料层11的上表面；优选地，本实施例中，所述第一金属线131的上表面与所述第一柔性材料层11的上表面相平齐，所述第二金属线132的上表面与所述第一柔性材料层11的上表面相平齐。
作为示例，所述第一金属线131的宽度包括5微米～15微米，所述第二金属线132的宽度包括1微米～10微米；优选地，本实施例中，所述第一金属线131的宽度包括8微米～10微米，所述第二金属线132的宽度包括6微米～8微米。
作为示例，所述第一金属网格13可以包括菱形网格、矩形网格、五边形网格或六边形网格等等，即所述第一金属网格13包括菱形网格或矩形网格时，所述第一金属网格13可以由所述第一金属线131及所述第二金属线132构成，所述第一金属线131与所述第二金属线132可以相互连接呈菱形网格或矩形网格；所述第一金属网格13包括五边形网格或六边形网格时，所述第一金属网格13除了包括所述第一金属线131及所述第二金属线132之外，还包括与所述第一金属线131及所述第二金属线132相连接的其他金属线，所有的所述金属线相互连接共同构成为五边形网格或六边形网格的所述第一金属网格13。
作为示例，所述第一金属网格13可以作为驱动层线路。
在步骤2)中，请参阅图1中的S2步骤及图9至图18，于所述第一金属网格13上制备第二金属网格16，所述第二金属网格16包括若干条平行间隔排布的第三金属线161及若干条平行间隔排布的第四金属线162，所述第三金属线161沿第一方向延伸，所述第四金属线162沿第二方向延伸，所述第三金属线161与所述第四金属线162交叉连接成网格状；所述第三金属线161的宽度小于所述第四金属线162的宽度；各所述第三金属线161在所述第一金属网格13所在平面的正投影位于相邻所述第一金属线131之间，各所述第四金属线162在所述第一金属网格13所在平面的正投影位于相邻所述第二金属线132之间。
作为示例，步骤2)可以包括如下步骤：
2-1)提供第二基底17，如图9所示；
2-2)于所述第二基底17的上表面形成第二柔性材料层14，如图10所示；
2-3)于所述第二柔性材料层14的上表面形成若干条平行间隔排布的第三沟槽141及若干条平行间隔排布的第四沟槽142，所述第三沟槽141沿所述第一方向延伸，所述第四沟槽142沿所述第二方向延伸，所述第三沟槽141与所述第四沟槽142交叉连接成网格状；所述第三沟槽141的宽度小于所述第四沟槽142的宽度；各所述第三沟槽141在所述第一金属网格13所在平面的正投影位于相邻所述第一金属线131之间，各所述第四沟槽142在所述第一金属网格13所在平面的正投影位于相邻所述第二金属线132之间，如图11及图12所示，其中，图11为步骤2-3)所得结构的俯视结构示意图，图12为沿图11中BB’方向的截面结构示意图；
2-4)于所述第三沟槽141及所述第四沟槽142内形成第二种子层15，如图13所示；
2-5)于所述第三沟槽141内形成第三金属线161，并于所述第四沟槽142内形成第四金属线162，所述第三金属线161与所述第四金属线162交叉连接成网格状以构成所述第二金属网格16，如图14至图15，其中，图14为步骤2-5)所得结构的俯视结构示意图，图15为沿图13中BB’方向的截面结构示意图；
2-6)于所述第一柔性材料层11及所述第一金属网格13的上表面形成OCA(Optically Clear Adhesive)光学胶层18，如图16所示；
2-7)将步骤2-5)所得结构贴置于所述OCA光学胶层18的上表面，所述第二基底17的下表面与所述OCA光学胶层18的上表面相接触，如图17及图18所示，其中，图17为步骤2-7)所得结构的截面结构示意图，图18为步骤2-4)所得结构仅示意出所述第一金属网格13及所述第二金属网格16的俯视结构示意图。
作为示例，步骤2-1)中提供的所述第二基底17可以包括刚性基底或柔性基底，所述刚性基底可以包括但不仅限于玻璃基底，所述柔性基底包括但不仅限于聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基底、聚酰亚胺(PI)基底、聚碳酸酯(PC)基底或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基底。所述第二基底17的厚度可以根据实际需要进行设定，此处不做限定。
作为示例，步骤2-2)中形成的所述第二柔性材料层14的材料可以与所述第一柔性材料层11的材料相同，譬如，所述第二柔性材料层14可以包括但不仅限于UV树脂层。
作为示例，可以采用旋涂工艺于所述第一柔性材料层11的上表面及所述第一金属网格13的上表面形成所述第二柔性材料层14，所述第二柔性材料层14完全覆盖所述第一金属网格13。
作为示例，步骤2-3)中，可以采用压印工艺于所述第二柔性材料层14的上表面形成所述第三沟槽141及所述第四沟槽142。具体的，可以提供一表面具有凸起结构的模具(未示出)，所述凸起结构的形状与所述第三沟槽141及所述第四沟槽142的形状完全相匹配；使用所述模具形成有所述凸起结构的一面挤压所述第二柔性材料层14的上表面，使得所述凸起结构陷入于所述第二柔性材料层14内以形成所述第三沟槽141及所述第四沟槽142；使用紫外光照射所述第二柔性材料层14以使所述第二柔性材料层14固化后移除所述模具即可。当然，在其他示例中也可以采用刻蚀工艺于所述第二柔性材料层14的上表面形成所述第三沟槽141及所述第四沟槽142。
作为示例，所述第三沟槽141的深度及所述第四沟槽142的深度可以小于所述第二柔性材料层14的厚度，也可以等于所述第二柔性材料层14的厚度，优选地，本实施例中，所述第三沟槽141的深度及所述第四沟槽142的深度均小于所述第二柔性材料层14的厚度。
作为示例，步骤2-3)中，所述第二柔性材料层14的上表面形成的沟槽可以相互连通呈菱形网格状、矩形网格状、五边形网格状或六边形网格状等等，即所述第二柔性材料层14的上表面形成的所述沟槽呈菱形网格状或矩形网格状时，所述第二柔性材料层14的上表面形成所述第三沟槽141及所述第四沟槽142，所述第三沟槽141与所述第四沟槽142可以相互连通呈菱形网格状或矩形网格状；当所述第二柔性材料层14的上表面形成的所述沟槽呈五边形网格状或六边形网格状时，所述第二柔性材料层14的上表面除了形成所述第三沟槽141及所述第四沟槽142之外，还形成有与所述第三沟槽141及所述第四沟槽142相连通的其他沟槽，所有的沟槽相互连通呈五边形网格状或六边形网格状。
作为示例，所述第三沟槽141的宽度可以包括1微米～10微米，所述第四沟槽142的宽度可以包括5微米～15微米；优选地，本实施例中，所述第三沟槽141的宽度包括1微米～10微米，所述第四沟槽142的宽度包括8微米～10微米。
作为示例，步骤2-4)中，可以采用溅射工艺或刮印工艺于所述第三沟槽141及所述第四沟槽142内形成所述第二种子层15，所述第二种子层15的材料可以包括银、铜、金、金属催化油墨或可被光还原的溴化银等等；需要说明的是，所述第二种子层15可以仅形成于所述第三沟槽141及所述第四沟槽142的底部，也可以同时形成于所述第三沟槽141与所述第四沟槽142的底部及侧壁。
作为示例，步骤2-5)中，可以采用电镀工艺或化学镀工艺形成所述第三金属线161及所述第四金属线162。
作为示例，所述第三金属线161的材料可以包括铜、金、银、镍等等，所述第四金属线162的材料可以包括铜、金、银、镍等等。
作为示例，所述第三金属线161的上表面不高于所述第二柔性材料层14的上表面，所述第四金属线层162的上表面不高于所述第二柔性材料层14的上表面；优选地，本实施例中，所述第三金属线161的上表面与所述第二柔性材料层14的上表面相平齐，所述第四金属线162的上表面与所述第二柔性材料层14的上表面相平齐。
作为示例，所述第三金属线161的宽度包括1微米～10微米，所述第四金属线162的宽度包括5微米～15微米；优选地，本实施例中，所述第三金属线161的宽度包括6微米～8微米，所述第四金属线162的宽度包括8微米～10微米。
作为示例，所述第二金属网格16可以包括菱形网格、矩形网格、五边形网格或六边形网格等等，即所述第二金属网格16包括菱形网格或矩形网格时，所述第二金属网格16可以由所述第三金属线161及所述第四金属线162构成，所述第三金属线161与所述第二金属线162可以相互连通呈菱形网格或矩形网格；所述第二金属网格16包括五边形网格或六边形网格时，所述第二金属网格16除了包括所述第三金属线161及所述第四金属线162之外，还包括与所述第三金属线161及所述第四金属线162相连接的其他金属线，所有的所述金属线相互连接共同构成为五边形网格或六边形网格的所述第二金属网格16。
作为示例，所述第三沟槽141的宽度小于所述第一沟槽111的宽度，所述第四沟槽142的宽度大于所述第二沟槽112的宽度，所述第一金属线131的宽度大于所述第三金属线161的宽度，所述第二金属线132的宽度小于第四金属线162的宽度；优选地，本实施例中，所述第一沟槽111的宽度、所述第四沟槽142的宽度、所述第一金属线131的宽度及所述第四金属线162的宽度均相同；所述第二沟槽112的宽度、所述第三沟槽141的宽度、所述第二金属线132的宽度及所述第三金属线161的宽度均相同。
作为示例，所述第二金属网格16可以作为感应层线路。
作为示例，步骤2-6)中，可以采用但不仅限于旋涂工艺于所述第一柔性材料层11及所述第一金属网格13的上表面形成所述OCA光学胶层18。
作为示例，步骤2-7)中，可以采用激光剥离、刻蚀剥离工艺等去除所述第二基底17。
作为示例，如图18所示，各所述第三金属线161在所述第一金属网格13所在平面的正投影位于相邻所述第一金属线131之间，各所述第四金属线162在所述第一金属网格13所在平面的正投影位于相邻所述第二金属线132之间。
本实施例制备的所述透明导电膜结构通过将所述第一金属网格13中沿第一方向及第二方向两个不同方向延伸的所述第一金属线131及所述第二金属线132的宽度设置为不同，且将所述第二金属网格16中沿第一方向及第二方向两个不同方向延伸的所述第三金属线161及所述第四金属线162的宽度设置为不同，可以达到有效抑制摩尔纹的效果，从而在所述透明导电膜结构用于金属网格触摸屏时确保金属网格触摸屏具有较好的光学效果。
实施例二
请结合图2至图18，本实施例还提供一种透明导电膜结构，所述透明导电膜结构包括：第一金属网格13，所述第一金属网格13包括若干条平行间隔排布的第一金属线131及若干条平行间隔排布的第二金属线132，所述第一金属线131沿第一方向延伸，所述第二金属线132沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向具有预设夹角，以使得所述第一金属线131与所述第二金属线132交叉连接成网格状；所述第一金属线131的宽度大于所述第二金属线132的宽度；第二金属网格16，所述第二金属网格16位于所述第一金属网格13上，所述第二金属网格16包括若干条平行间隔排布的第三金属线161及若干条平行间隔排布的第四金属线162，所述第三金属线161沿第一方向延伸，所述第四金属线162沿第二方向延伸，所述第三金属线161与所述第四金属线162交叉连接成网格状；所述第三金属线161的宽度小于所述第四金属线162的宽度；各所述第三金属线161在所述第一金属网格13所在平面的正投影位于相邻所述第一金属线131之间，各所述第四金属线162在所述第一金属网格13所在平面的正投影位于相邻所述第二金属线132之间。
作为示例，所述第一金属线131的宽度大于所述第三金属线161的宽度，所述第二金属线132的宽度小于第四金属线162的宽度；优选地，本实施例中，所述第一金属线131的宽度与所述第四金属线162的宽度相同；所述第二金属线132的宽度与所述第三金属线161的宽度相同。
作为示例，所述第一金属线131的材料可以包括铜、金、银、镍等等，所述第二金属线132的材料可以包括铜、金、银、镍等等。
作为示例，所述第一金属线131的宽度包括5微米～15微米，所述第二金属线132的宽度包括1微米～10微米；优选地，本实施例中，所述第一金属线131的宽度包括8微米～10微米，所述第二金属线132的宽度包括6微米～8微米。
作为示例，所述第一金属网格13可以包括菱形网格、矩形网格、五边形网格或六边形网格等等，即所述第一金属网格13包括菱形网格或矩形网格时，所述第一金属网格13可以由所述第一金属线131及所述第二金属线132构成，所述第一金属线131与所述第二金属线132可以相互连接呈菱形网格或矩形网格；所述第一金属网格13包括五边形网格或六边形网格时，所述第一金属网格13除了包括所述第一金属线131及所述第二金属线132之外，还包括与所述第一金属线131及所述第二金属线132相连接的其他金属线，所有的所述金属线相互连接共同构成为五边形网格或六边形网格的所述第一金属网格13。
作为示例，所述第一金属网格13可以作为驱动层线路。
作为示例，所述第三金属线161的材料可以包括铜、金、银、镍等等，所述第四金属线162的材料可以包括铜、金、银、镍等等。
作为示例，所述第三金属线161的宽度包括1微米～10微米，所述第四金属线162的宽度包括5微米～15微米；优选地，本实施例中，所述第三金属线161的宽度包括6微米～8微米，所述第四金属线162的宽度包括8微米～10微米。
作为示例，所述第二金属网格16可以包括菱形网格、矩形网格、五边形网格或六边形网格等等，即所述第二金属网格16包括菱形网格或矩形网格时，所述第二金属网格16可以由所述第三金属线161及所述第四金属线162构成，所述第三金属线161与所述第二金属线162可以相互连通呈菱形网格或矩形网格；所述第二金属网格16包括五边形网格或六边形网格时，所述第二金属网格16除了包括所述第三金属线161及所述第四金属线162之外，还包括与所述第三金属线161及所述第四金属线162相连接的其他金属线，所有的所述金属线相互连接共同构成为五边形网格或六边形网格的所述第二金属网格16。
作为示例，所述第二金属网格16可以作为感应层线路。
作为示例，所述透明导电膜结构还包括：第一柔性材料层11，所述第一金属网格13位于所述第一柔性材料层11内；所述第一金属网格13作为驱动层线路；OCA光学胶层18，所述OCA光学胶层18位于所述第一柔性材料层11及所述第一金属网格13的上表面；第二柔性材料层14，所述第二柔性材料层14位于所述OCA光学胶层18上；所述第二金属网格16位于所述第二柔性材料层14内，所述第二金属网格16作为感应层线路。
所述第一柔性材料层11可以包括但不仅限于UV树脂层，譬如，聚丙烯酸系的UV树脂层等等。需要说明的是，所述UV树脂层又称为光敏树脂层、紫外光固化树脂层，它可以作为油漆、涂料、油墨等的胶料使用。UV是英文Ultraviolet Rays的缩写，即紫外线。紫外线是肉眼看不见的，是可见光以外的一段电磁辐射，波长在10nm～400nm的范围。所述UV树脂层的固化原理是所述UV树脂中的光引发剂(或光敏剂)在紫外线的照射下吸收紫外光后产生活性自由基或阳离子，引发单体聚合、交联和接支化学反应，使得所述UV树脂层在数秒钟内由液态转化为固态。
所述第二柔性材料层14的材料可以与所述第一柔性材料层11的材料相同，即所述第二柔性材料层14可以包括柔性材料层，譬如，所述第二柔性材料层14可以包括但不仅限于UV树脂层。所述第二金属网格16位于所述第二柔性材料层14内。
作为示例，所述第一金属线131的上表面不高于所述第一柔性材料层11的上表面，所述第二金属线132的上表面不高于所述第一柔性材料层11的上表面；优选地，本实施例中，所述第一金属线131的上表面与所述第一柔性材料层11的上表面相平齐，所述第二金属线132的上表面与所述第一柔性材料层11的上表面相平齐。
作为示例，所述第三金属线161的上表面不高于所述第二柔性材料层14的上表面，所述第四金属线层162的上表面不高于所述第二柔性材料层14的上表面；优选地，本实施例中，所述第三金属线161的上表面与所述第二柔性材料层14的上表面相平齐，所述第四金属线162的上表面与所述第二柔性材料层14的上表面相平齐。
作为示例，所述第一金属网格13还包括第一种子层12，所述第一种子层12位于所述第一金属线131与所述第一柔性材料层11之间及所述第二金属线132与所述第一柔性材料层11之间；所述第二金属网格16还包第二种子层15，所述第二种子层15位于所述第三金属线161与所述第二柔性材料层14之间及所述第四金属线162与所述第二柔性材料层14之间。
作为示例，所述第一种子层12的材料可以包括银、铜、金、金属催化油墨或可被光还原的溴化银等等。
作为示例，所述第二种子层15的材料可以包括银、铜、金、金属催化油墨或可被光还原的溴化银等等。
作为示例，所述透明导电膜结构还包括：第一基底10，所述第一基底10位于所述第一柔性材料层11的下表面；第二基底17，所述第二基底17位于所述OCA光学胶层18的上表面；所述第二柔性材料层14位于所述第二基底17的上表面。
作为示例，所述第一基底10可以包括刚性基底或柔性基底，所述刚性基底可以包括但不仅限于玻璃基底，所述柔性基底包括但不仅限于聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基底、聚酰亚胺(PI)基底、聚碳酸酯(PC)基底或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基底。所述第一基底10的厚度可以根据实际需要进行设定，此处不做限定。
作为示例，所述第二基底17可以包括刚性基底或柔性基底，所述刚性基底可以包括但不仅限于玻璃基底，所述柔性基底包括但不仅限于聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基底、聚酰亚胺(PI)基底、聚碳酸酯(PC)基底或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基底。所述第二基底17的厚度可以根据实际需要进行设定，此处不做限定。
综上所述，本发明的透明导电膜结构及其制备方法，所述透明导电膜结构包括：第一金属网格，包括若干条平行间隔排布的第一金属线及若干条平行间隔排布的第二金属线，所述第一金属线沿第一方向延伸，所述第二金属线沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向具有预设夹角，以使得所述第一金属线与所述第二金属线交叉连接成网格状；所述第一金属线的宽度大于所述第二金属线的宽度；第二金属网格，位于所述第一金属网格上，所述第二金属网格包括若干条平行间隔排布的第三金属线及若干条平行间隔排布的第四金属线，所述第三金属线沿第一方向延伸，所述第四金属线沿第二方向延伸，所述第三金属线与所述第四金属线交叉连接成网格状；所述第三金属线的宽度小于所述第四金属线的宽度；各所述第三金属线在所述第一金属网格所在平面的正投影位于相邻所述第一金属线之间，各所述第四金属线在所述第一金属网格所在平面的正投影位于相邻所述第二金属线之间。本发明的透明导电膜结构通过将第一金属网格中沿第一方向及第二方向两个不同方向延伸的第一金属线及第二金属线的宽度设置为不同，且将第二金属网格中沿第一方向及第二方向两个不同方向延伸的第三金属线及第四金属线的宽度设置为不同，可以达到有效抑制摩尔纹的效果，从而在透明导电膜结构用于金属网格触摸屏时确保金属网格触摸屏具有较好的光学效果。
上述实施例仅例示性说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本发明的权利要求所涵盖。
Claims (11)
1.一种透明导电膜结构，其特征在于，所述透明导电膜结构包括：
第一金属网格，包括若干条平行间隔排布的第一金属线及若干条平行间隔排布的第二金属线，所述第一金属线沿第一方向延伸，所述第二金属线沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向具有预设夹角，以使得所述第一金属线与所述第二金属线交叉连接成网格状；所述第一金属线的宽度大于所述第二金属线的宽度；
第二金属网格，位于所述第一金属网格上，所述第二金属网格包括若干条平行间隔排布的第三金属线及若干条平行间隔排布的第四金属线，所述第三金属线沿第一方向延伸，所述第四金属线沿第二方向延伸，所述第三金属线与所述第四金属线交叉连接成网格状；所述第三金属线的宽度小于所述第四金属线的宽度；各所述第三金属线在所述第一金属网格所在平面的正投影位于相邻所述第一金属线之间，各所述第四金属线在所述第一金属网格所在平面的正投影位于相邻所述第二金属线之间。
2.根据权利要求1所述的透明导电膜结构，其特征在于：所述第一金属线的宽度与所述第四金属线的宽度相同，所述第二金属线的宽度与所述第三金属线的宽度相同。
3.根据权利要求1所述的透明导电膜结构，其特征在于：所述第一金属线的宽度包括5微米～15微米，所述第二金属线的宽度包括1微米～10微米，所述第三金属线的宽度包括1微米～10微米，所述第四金属线的宽度包括5微米～15微米。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的透明导电膜结构，其特征在于：所述透明导电膜结构还包括：
第一柔性材料层，所述第一金属网格位于所述第一柔性材料层内；所述第一金属网格作为驱动层线路；
OCA光学胶层，位于所述第一柔性材料层及所述第一金属网格的上表面；
第二柔性材料层，位于所述OCA光学胶层上；所述第二金属网格位于所述第二柔性材料层内，所述第二金属网格作为感应层线路。
5.根据权利要求4所述的透明导电膜结构，其特征在于：所述第一金属网格还包括第一种子层，所述第一种子层位于所述第一金属线与所述第一柔性材料层之间及所述第二金属线与所述第一柔性材料层之间；所述第二金属网格还包第二种子层，所述第二种子层位于所述第三金属线与所述第二柔性材料层之间及所述第四金属线与所述第二柔性材料层之间。
6.根据权利要求4所述的透明导电膜结构，其特征在于：所述透明导电膜结构还包括：
第一基底，位于所述第一柔性材料层的下表面；
第二基底，位于所述OCA光学胶层的上表面；所述第二柔性材料层位于所述第二基底的上表面。
7.一种透明导电膜结构的制备方法，其特征在于，所述透明导电膜结构的制备方法包括步骤：
制备第一金属网格，所述第一金属网格包括若干条平行间隔排布的第一金属线及若干条平行间隔排布的第二金属线，所述第一金属线沿第一方向延伸，所述第二金属线沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向具有预设夹角，以使得所述第一金属线与所述第二金属线交叉连接成网格状；所述第一金属线的宽度大于所述第二金属线的宽度；
于所述第一金属网格上制备第二金属网格，所述第二金属网格包括若干条平行间隔排布的第三金属线及若干条平行间隔排布的第四金属线，所述第三金属线沿第一方向延伸，所述第四金属线沿第二方向延伸，所述第三金属线与所述第四金属线交叉连接成网格状；所述第三金属线的宽度小于所述第四金属线的宽度；各所述第三金属线在所述第一金属网格所在平面的正投影位于相邻所述第一金属线之间，各所述第四金属线在所述第一金属网格所在平面的正投影位于相邻所述第二金属线之间。
8.根据权利要求7所述的透明导电膜结构的制备方法，其特征在于：制备所述第一金属网格包括如下步骤：
提供第一基底；
于所述第一基底的上表面形成第一柔性材料层；
于所述第一柔性材料层的上表面形成若干条平行间隔排布的第一沟槽及若干条平行间隔排布的第二沟槽；所述第一沟槽沿第一方向延伸，所述第二沟槽沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向具有预设夹角，以使得所述第一沟槽与所述第二沟槽交叉连接成网格状；所述第一沟槽的宽度大于所述第二沟槽的宽度；
于所述第一沟槽内及所述第二沟槽内形成第一种子层；
于所述第一沟槽内形成第一金属线，并于所述第二沟槽内形成第二金属线，所述第一金属线与所述第二金属线交叉连接成网格状以构成所述第一金属网格。
9.根据权利要求8所述的透明导电膜结构的制备方法，其特征在于：于所述第一金属网格上制备所述第二金属网格包括如下步骤：
提供第二基底；
于所述第二基底的上表面形成第二柔性材料层；
于所述第二柔性材料层的上表面形成若干条平行间隔排布的第三沟槽及若干条平行间隔排布的第四沟槽，所述第三沟槽沿所述第一方向延伸，所述第四沟槽沿所述第二方向延伸，所述第三沟槽与所述第四沟槽交叉连接成网格状；所述第三沟槽的宽度小于所述第四沟槽的宽度；各所述第三沟槽在所述第一金属网格所在平面的正投影位于相邻所述第一金属线之间，各所述第四沟槽在所述第一金属网格所在平面的正投影位于相邻所述第二金属线之间；
于所述第三沟槽及所述第四沟槽内形成第二种子层；
于所述第三沟槽内形成第三金属线，并于所述第四沟槽内形成第四金属线，所述第三金属线与所述第四金属线交叉连接成网格状以构成所述第二金属网格；
于所述第一柔性材料层及所述第一金属网格的上表面形成OCA光学胶层；
将所述第二基底及所述第二柔性材料层贴置于所述OCA光学胶层的上表面，所述第二基底的下表面与所述OCA光学胶层的上表面相接触。
10.根据权利要求9所述的透明导电膜结构的制备方法，其特征在于：所述第一沟槽的宽度、所述第四沟槽的宽度、所述第一金属线的宽度及所述第四金属线的宽度均相同；所述第二沟槽的宽度、所述第三沟槽的宽度、所述第二金属线的宽度及所述第三金属线的宽度均相同。
11.根据权利要求9所述的透明导电膜结构的制备方法，其特征在于：所述第一沟槽的宽度包括5微米～15微米，所述第二沟槽的宽度包括1微米～10微米，所述第三沟槽的宽度包括1微米～10微米，所述第四沟槽的宽度包括5微米～15微米；所述第一金属线的宽度包括5微米～15微米，所述第二金属线的宽度包括1微米～10微米，所述第三金属线的宽度包括1微米～10微米，所述第四金属线的宽度包括5微米～15微米。
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