CN109881147A - 蒸镀用掩膜板、制备方法、oled显示基板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种蒸镀用掩膜板、制备方法、OLED显示基板及显示装置。该蒸镀用掩膜板包括掩膜板本体及设置于掩膜板本体上的绝缘膜层，掩膜板本体上开设若干第一开口，绝缘膜层包括若干预设开口，预设开口在掩膜板本体上的正投影落入第一开口内，掩膜板本体与绝缘膜层可分离设置，本发明中掩膜板本体与绝缘膜层可分离设置，在张网工序中，本发明中的蒸镀用掩膜板可先对掩膜板本体进行张网，再将绝缘膜层粘附于掩膜板本体上，从而避免因掩膜板本体与绝缘膜层两者泊松系数的不同所导致的拉伸量不同，最终避免了第一开口与预设开口之间的错位现象。

Description

蒸镀用掩膜板、制备方法、OLED显示基板及显示装置

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种蒸镀用掩膜板、制备方法、OLED显示基板及显示装置。

背景技术

近年来，有机电致发光显示器(以下简称OLED)成为国内外非常热门的平面显示器产品，与现有的液晶显示器相比，其具有自主发光、视角宽、低电压直流驱动、全固化、重量轻、组成和工艺简单等一系列的优点，并且响应速度可达液晶显示器的1000倍，但制造成本却低于同等分辨率的液晶显示器，因此，有机电致发光器件具有广阔的应用前景。

在制备OLED显示基板过程，要用到掩膜板在待蒸镀基板上蒸镀发光材料，从而形成像素区域，但是，在实际操作中，例如在张网工艺中，掩膜板上的蒸镀口易出现错位。

发明内容

本发明的目的在于解决在实际操作中，现有掩膜板上的蒸镀口易出现错位的缺陷，进而提供一种蒸镀用掩膜板及其制备方法。

本发明的上述目的是通过以下技术方案实现的：

一种蒸镀用掩膜板，包括掩膜板本体及设置于所述掩膜板本体上的绝缘膜层，所述掩膜板本体上开设若干第一开口，所述绝缘膜层包括，

若干预设开口，所述预设开口在所述掩膜板本体上的正投影落入所述第一开口内，所述掩膜板本体与所述绝缘膜层可分离设置。

优选地，所述绝缘膜层为有机膜层。

进一步地，还包括若干支撑柱，间隔设置于所述绝缘膜层远离所述掩模板本体的一侧上，优选地，以所述绝缘膜层为基准面，所述支撑柱的高度相同。

进一步地，所述支撑柱的个数与所述预设开口的个数之比为1：(6-36)；

相邻第一开口之间的间距为12.4-37μm，第一开口的尺寸为18-40μm，形状为菱形或矩形，此处的尺寸是指第一开口的长或宽，优选地，所述第一开口成排间隔排布于所述掩膜板本体上，相邻排之间的间距为12.4-37μm；

预设开口的尺寸为3-40μm，形状为菱形或矩形，此处的尺寸是指预设开口的长或宽。

进一步地，所述绝缘膜层与所述掩膜板本体存在重叠区域，所述支撑柱垂直设置于所述重叠区域内的绝缘膜层上；

在所述第一开口内至少存在两个所述预设开口在所述掩膜板本体上的正投影。

进一步地，所述支撑柱的长度为0.3-2.6μm。

进一步地，所述绝缘膜层的张数与所述第一开口的个数相同，且每张绝缘膜层均设置于对应的第一开口上方，相邻的绝缘膜层间无重叠；此处“所述绝缘膜层的张数与所述第一开口的个数相同”是指一个掩膜板本体上开设若干第一开口，每一第一开口对应一张绝缘膜层，该绝缘膜层粘结于掩膜板本体上，且位于对应第一开口正上方。

所述预设开口的尺寸等于子像素开口尺寸。

进一步地，靠近所述绝缘膜层的边缘在所述绝缘膜层靠近所述掩膜板本体的一侧上设置粘结层，以将所述绝缘膜层粘结于所述掩膜板本体上。

此外，本发明还提供了一种蒸镀用掩膜板的制备方法，包括，

在绝缘膜层上预先间隔开设若干预设开口；

将所述绝缘膜层的一侧粘贴于开设若干第一开口的掩膜板本体上，并使所述预设开口在所述掩膜板本体上的正投影落入所述第一开口内，制得所述蒸镀用掩膜板。

进一步地，还包括在所述绝缘膜层的一侧上间隔设置若干支撑柱，并将未设置所述支撑柱的所述绝缘膜层的一侧粘贴于掩膜板本体上的步骤，优选地，在该步骤中，以所述绝缘膜层为基准面，保持所述支撑柱的高度相同；

优选地，通过刻蚀在所述绝缘膜层上形成所述预设开口；

通过光刻在所述绝缘膜层上形成所述支撑柱。

此外，本发明还提供了一种OLED显示基板，采用上述蒸镀用掩膜板或上述述的制备方法制得的蒸镀用掩膜板蒸镀发光材料后得到。

此外，本发明还提供了一种显示装置，包括上述OLED显示基板。

本发明的技术方案具有以下有益效果：

(1)本发明所提供的蒸镀用掩膜板，包括掩膜板本体及设置于掩膜板本体上的绝缘膜层，掩膜板本体上开设若干第一开口，绝缘膜层包括若干预设开口，预设开口在掩膜板本体上的正投影落入第一开口内，掩膜板本体与绝缘膜层可分离设置，本发明中掩膜板本体与绝缘膜层可分离设置，在张网工序中，本发明中的蒸镀用掩膜板可先对掩膜板本体进行张网，再将绝缘膜层粘附于掩膜板本体上，从而避免因掩膜板本体与绝缘膜层两者泊松系数的不同所导致的拉伸量不同，最终避免了第一开口与预设开口之间的错位现象。

(2)本发明所提供的蒸镀用掩膜板，在绝缘膜层远离掩模板本体的一侧上间隔设置若干支撑柱，进一步地以绝缘膜层为基准面，支撑柱的高度相同，这样设置可避免掩膜板本体直接碰撞或接触到基板，提高了基板的平整度。

(3)本发明所提供的蒸镀用掩膜板的制备方法，先在绝缘膜层上预先间隔开设若干预设开口，通过在绝缘膜层上预先间隔设置若干预设开口，避免直接在掩膜板本体上先形成绝缘膜层，再在绝缘膜层上开口所导致的精度差的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本发明具体实施方式中的技术方案，下面将对具体实施方式描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为采用本发明实施例中的蒸镀用掩膜板进行蒸镀时的装置截面图；

图2为本发明实施例中蒸镀用掩膜板的一种结构的俯视图；

图3为本发明实施例中蒸镀用掩膜板的另一种结构的俯视图；

附图标记说明如下：

101-待蒸镀基板；102-绝缘膜层；103-掩膜板本体；104-蒸镀源；105-第一开口；106-预设开口；107-支撑柱。

具体实施方式

下面将对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。此外，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。

下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。此外，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“上”、“内”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

本发明提供了一种蒸镀用掩膜板，如图1所示，包括掩膜板本体103及设置于掩膜板本体103上的绝缘膜层102，掩膜板本体103上开设若干第一开口105，绝缘膜层102包括，

若干预设开口106，预设开口106在掩膜板本体103上的正投影落入第一开口105内，掩膜板本体103与绝缘膜层102可分离设置；优选地，绝缘膜层102为有机膜层。

上述蒸镀用掩膜板中，掩膜板本体103与绝缘膜层102可分离设置，在张网工序中，本发明中的蒸镀用掩膜板可先对掩膜板本体103进行张网，再将绝缘膜层102粘附于掩膜板本体103上，从而避免因掩膜板本体103与绝缘膜层102两者泊松系数的不同所导致的拉伸量不同，最终避免了第一开口105与预设开口106之间的错位现象。

进一步地，还包括若干支撑柱107，间隔设置于绝缘膜层102远离掩膜板本体103的一侧上，优选地，以绝缘膜层102为基准面，支撑柱107的高度相同，这样设置可避免掩膜板本体103直接碰撞或接触到基板，提高了基板的平整度。

同时，本发明分别制备掩膜板本体103与绝缘膜层102，并将掩膜板本体103与绝缘膜层102可分离设置，一则保证第一开口和预设开口的精准定位，避免掩膜板本体与绝缘膜层之间发生移位或脱离；二则在后续对蒸镀用掩膜板进行清洗的过程中，可先将绝缘膜层102取下，再清洗，避免绝缘膜层102在清洗过程中的形变不可恢复所导致的Mask报废问题。

进一步地，相邻第一开口105之间的间距为12.4-37μm，第一开口的尺寸为18-40μm，形状为菱形或矩形，此处的尺寸是指第一开口105的长或宽；优选地，第一开口105成排间隔排布于掩膜板本体103，相邻排之间的间距为12.4-37μm；通过该设置能使掩膜板本体103上具有间距、大小、形状合适的第一开口105，利于后续在待蒸镀基板101上均匀蒸镀发光材料，形成像素区，同时有利于提高基板的平整度；

预设开口106的尺寸为3-40μm，形状为菱形或矩形，此处的尺寸是指预设开口106的长或宽。通过该特定设置的预设开口106，与第一开口105配合，利于后续在待蒸镀基板101上均匀蒸镀发光材料，形成像素区，同时有利于提高基板的平整度；

进一步地，支撑柱107的个数与预设开口106的个数之比为1：(6-36)，通过合理设置支撑柱107的个数与预设开口106的个数，在保证预设开口106精度、减少阴影效应，进而能够获得更小的像素尺寸，提升蒸镀得到的显示基板像素数目的同时，还能有效避免掩膜板本体103直接碰撞或接触到基板。同时还解决了由于金属掩膜板开口精度有限而导致的色斑、混色等问题。优选地，支撑柱107的长度为0.3-2.6μm，通过优选该特定长度的支撑柱107，能有效避免掩膜板本体103直接碰撞或接触到基板。

进一步地，绝缘膜层102与掩膜板本体103存在重叠区域，支撑柱107垂直设置于重叠区域内的绝缘膜层102上，利用支撑柱107可直接阻止掩膜板本体103碰撞或接触到基板，同时在保证该效果的前提下，降低了支撑柱107设置数量，从而能腾出更多空间来在绝缘膜层102上开设更多的预设开口106，简化了工艺，最终提高了基板的显示基板像素数目(PPI)。

在第一开口105内至少存在两个预设开口106在掩膜板本体103上的正投影。这样设置能提升蒸镀得到的显示基板像素数目。

进一步地，如图2所示，绝缘膜层102的张数与第一开口105的个数相同，且每张绝缘膜层均设置于对应的第一开口上方，相邻的绝缘膜层间无重叠；该能够最大限度的减小因绝缘膜层与掩膜板本体应力不同而在后期处理和使用过程中所导致的开口变形，掩膜板寿命缩短的问题。当然，作为可变型的实施方式，如图3，在掩膜板本体103上只铺设一张绝缘膜层102，该绝缘膜层覆盖所有的第一开口10。

预设开口106的尺寸等于子像素开口尺寸。这样设置能准确地通过蒸镀源104在待蒸镀基板101上蒸镀发光材料，从而形成子像素，最终构成像素区域。

进一步地，靠近绝缘膜层102的边缘在绝缘膜层102靠近掩膜板本体103的一侧上设置粘结层，以将绝缘膜层102粘结于掩膜板本体103上。

此外，本发明还提供了一种蒸镀用掩膜板的制备方法，包括，

在绝缘膜层102上预先间隔开设若干预设开口106；

将绝缘膜层102的一侧粘贴于开设若干第一开口105的掩膜板本体103上，并使预设开口106在掩膜板本体103上的正投影落入第一开口105内，制得蒸镀用掩膜板。

更具体地，在绝缘膜层上预先间隔开设若干预设开口，并在绝缘膜层的一侧上间隔设置若干支撑柱，以所述绝缘膜层为基准面，所述支撑柱的高度相同；

将未设置支撑柱的所述绝缘膜层的一侧粘贴于开设若干第一开口的掩膜板本体上，并使预设开口在掩膜板本体上的正投影落入所述第一开口内，制得蒸镀用掩膜板。

本发明所提供的掩膜板制备方法，可实现刻蚀精准化、制备模块化，所得到的掩膜板稳定性高、寿命长久，在使用完成后，将绝缘膜层剥离，即可对掩膜板本体清洗，进行二次利用。并且，即使在使用过程中个别绝缘膜层遭到损坏，也能够及时的进行替换和修补。最大程度减少掩膜板上绝缘膜层的损耗，从而降低生产成本。

此外，通过在绝缘膜层102上预先间隔开设若干预设开口106，避免直接在掩膜板本体103上先形成绝缘膜层，再在绝缘膜层上开口所导致的精度差的问题。

进一步通过刻蚀在绝缘膜层上形成预设开口；

通过光刻在绝缘膜层上形成支撑柱。

此外，本发明还提供了一种OLED显示基板，采用上述蒸镀用掩膜板或上述述的制备方法制得的蒸镀用掩膜板蒸镀发光材料后得到。

此外，本发明还提供了一种显示装置，包括上述OLED显示基板。

下面以具体实施方式来说明本发明的技术方案：

实施例1

本实施例提供了一种蒸镀用掩膜板及其制备方法。如图1所示，该蒸镀用掩膜板包括掩膜板本体103及设置于掩膜板本体103上的绝缘膜层102，掩膜板本体103上开设若干第一开口105，例如掩膜板本体103的材质为金属材质；第一开口105成排间隔排布于掩膜板本体103，相邻排之间的间距为20μm，相邻第一开口105之间的间距为20μm，第一开口的形状为矩形，第一开口的长为35μm，宽为20μm；每排上第一开口105的个数可根据实际需要进行选择，例如可为726个；

绝缘膜层102包括若干预设开口106，预设开口106在掩膜板本体103上的正投影落入第一开口105内，掩膜板本体103与绝缘膜层102可分离设置；具体地，绝缘膜层102上的材质为聚酰亚胺；预设开口106的形状为菱形，预设开口106的边长为6μm；在第一开口105内存在三个预设开口106在掩膜板本体103上的正投影；绝缘膜层102的张数与第一开口105的个数相同；靠近绝缘膜层102的边缘在绝缘膜层102靠近掩膜板本体103的一侧上设置粘结层，以将绝缘膜层102粘结于掩膜板本体103上，例如可以在绝缘膜层102的边缘涂抹粘性胶，从而形成一圈粘结层，预设开口106的尺寸等于子像素开口尺寸；

若干支撑柱107，间隔设置于绝缘膜层102远离掩膜板本体103的一侧上，且以绝缘膜层102为基准面，支撑柱107的高度相同；具体地，支撑柱107的个数与预设开口106的个数之比为1：27，支撑柱107的长度为2.6μm；绝缘膜层102与掩膜板本体103存在重叠区域，支撑柱107垂直设置于重叠区域内的绝缘膜层102上；

上述蒸镀用掩膜板的制备方法，包括如下步骤：

(1)首先，选取衬底，并对其进行清洗，通过下表面平整度及清洁度检测后待用。本实施例中采用的衬底为玻璃材质，当然也可以选用其它有利于剥离的材质作为衬底；

(2)选用聚酰亚胺作为绝缘膜层的材质，对其进行水氧含量等指标的检测，并进行除泡处理；

(3)采用狭缝涂布(split+span)将上述聚酰亚胺涂布于处理后的衬底之上，并烘干成膜；

(4)对上述成有绝缘膜层的衬底进行光刻胶涂布、曝光、显影，光刻蚀形成预设开口106和支撑柱107；

(5)将衬底翻转，并采用激光剥离技术将上述绝缘膜层从衬底上剥离取下；

(6)利用掩膜板本体和基底上所做标记采用对位贴合的方式将绝缘膜层粘合于掩膜板本体之上，在第一开口105内存在三个预设开口106在掩膜板本体103上的正投影，蒸镀用掩膜板张网后使用。

实施例2

本实施例提供了一种蒸镀用掩膜板及其制备方法。该蒸镀用掩膜板包括掩膜板本体103及设置于掩膜板本体103上的绝缘膜层102，掩膜板本体103上开设若干第一开口105，例如掩膜板本体103的材质为金属材质；第一开口105成排间隔排布于掩膜板本体103，相邻排之间的间距为37μm，相邻第一开口105之间的间距为12.4μm，第一开口的形状为菱形，第一开口的边长为40μm；每排上第一开口105的个数可根据实际需要进行选择，例如可为1030个；

绝缘膜层102包括若干预设开口106，预设开口106在掩膜板本体103上的正投影落入第一开口105内，掩膜板本体103与绝缘膜层102可分离设置；具体地，绝缘膜层102上的材质为不与光刻显影液反应的非感光有机材料；预设开口106的形状为矩形，预设开口106的长为10μm，宽为6μm；在第一开口105内存在四个预设开口106在掩膜板本体103上的正投影；在掩膜板本体103上只铺设一张绝缘膜层102，该绝缘膜层覆盖所有的第一开口10；靠近绝缘膜层102的边缘在绝缘膜层102靠近掩膜板本体103的一侧上设置粘结层，以将绝缘膜层102粘结于掩膜板本体103上；

若干支撑柱107，间隔设置于绝缘膜层102远离掩膜板本体103的一侧上，且以绝缘膜层102为基准面，支撑柱107的高度相同；具体地，支撑柱107的个数与预设开口106的个数之比为1：6，支撑柱107的长度为1μm，绝缘膜层102与掩膜板本体103存在重叠区域，支撑柱107垂直设置于重叠区域内的绝缘膜层102上；

上述蒸镀用掩膜板的制备方法，包括如下步骤：

(1)首先，选取衬底，并对其进行清洗，通过下表面平整度及清洁度检测后待用。本实施例中采用的衬底为玻璃材质，当然也可以选用其它有利于剥离的材质作为衬底；

(2)选用非感光有机材料作为绝缘膜层的材质，对其进行水氧含量等指标的检测，并进行除泡处理；

(3)采用狭缝涂布(split+span)将上述聚酰亚胺涂布于处理后的衬底之上，并烘干成膜；

(4)对上述成有绝缘膜层的衬底进行光刻胶涂布、曝光、显影后刻蚀，形成预设开口106和支撑柱107；

(5)加光罩，在该绝缘膜层上制备带有保护膜的粘结层；

(6)将衬底翻转，并采用激光剥离技术将上述绝缘膜层从衬底上剥离取下；

(7)将掩膜板本体张网在框架上，撕下绝缘膜层粘性层表面的保护膜，利用掩膜板上所做标记将绝缘膜层粘贴于掩膜板本体之上，在第一开口105内存在四个预设开口106在掩膜板本体103上的正投影。

实施例3

本实施例提供了一种蒸镀用掩膜板及其制备方法。该蒸镀用掩膜板包括掩膜板本体103及设置于掩膜板本体103上的绝缘膜层102，掩膜板本体103上开设若干第一开口105，例如掩膜板本体103的材质为金属材质；第一开口105成排间隔排布于掩膜板本体103，相邻排之间的间距为15μm，相邻第一开口105之间的间距为28μm，第一开口的形状为矩形，第一开口的长为26μm，宽为20μm；每排上第一开口105的个数可根据实际需要进行选择，例如可为2200个；

绝缘膜层102包括若干预设开口106，预设开口106在掩膜板本体103上的正投影落入第一开口105内，掩膜板本体103与绝缘膜层102可分离设置；具体地，绝缘膜层102上的材质为感光有机材料；预设开口106的形状为矩形，预设开口106的长为23μm，宽为15μm；在第一开口105内存在一个预设开口106在掩膜板本体103上的正投影；绝缘膜层102的张数与第一开口105的个数相同；靠近绝缘膜层102的边缘在绝缘膜层102靠近掩膜板本体103的一侧上设置粘结层，以将绝缘膜层102粘结于掩膜板本体103上；

若干支撑柱107，间隔设置于绝缘膜层102远离掩膜板本体103的一侧上，且以绝缘膜层102为基准面，支撑柱107的高度相同；具体地，支撑柱107的个数与预设开口106的个数之比为1：32，支撑柱107的长度为0.3μm；绝缘膜层102与掩膜板本体103存在重叠区域，支撑柱107垂直设置于重叠区域内的绝缘膜层102上；

上述蒸镀用掩膜板的制备方法，包括如下步骤：

(1)首先，选取衬底，并对其进行清洗，通过下表面平整度及清洁度检测后待用。本实施例中采用的衬底为玻璃材质，当然也可以选用其它有利于剥离的材质作为衬底；

(2)选用感光有机材料作为绝缘膜层的材质，对其进行水氧含量等指标的检测，并进行除泡处理；

(3)采用狭缝涂布(split+span)将上述聚酰亚胺涂布于处理后的衬底之上，并烘干成膜；

(4)对上述成有绝缘膜层的衬底直接进行曝光和显影，形成预设开口106和支撑柱107；

(5)加光罩，在该绝缘膜层上制备带有保护膜的粘结层；

(6)将衬底翻转，并采用激光剥离技术将上述绝缘膜层从衬底上剥离取下；

(7)将掩膜板本体张网在框架上，撕下绝缘膜层粘性层表面的保护膜，利用掩膜板上所做标记将绝缘膜层粘贴于掩膜板本体之上，在第一开口105内存在一个预设开口106在掩膜板本体103上的正投影。

实施例4

本实施例提供一种OLED显示基板，采用实施例1所提供的方法制备得到的蒸镀用掩膜板蒸镀得到。

实施例5

本实施例提供一种OLED显示基板，采用实施例2所提供的方法制备得到的蒸镀用掩膜板蒸镀得到。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种蒸镀用掩膜板，包括掩膜板本体及设置于所述掩膜板本体上的绝缘膜层，所述掩膜板本体上开设若干第一开口，其特征在于，所述绝缘膜层包括，

若干预设开口，所述预设开口在所述掩膜板本体上的正投影落入所述第一开口内，所述掩膜板本体与所述绝缘膜层可分离设置。

2.根据权利要求1所述的蒸镀用掩膜板，其特征在于，还包括，

若干支撑柱，间隔设置于所述绝缘膜层远离所述掩模板本体的一侧上，优选地，以所述绝缘膜层为基准面，所述支撑柱的高度相同。

3.根据权利要求2所述的蒸镀用掩膜板，其特征在于，所述支撑柱的个数与所述预设开口的个数之比为1：(6-36)；

相邻第一开口之间的间距为12.4-37μm，第一开口的尺寸为18-40μm，优选地，所述第一开口成排间隔排布于所述掩膜板本体上，相邻排之间的间距为12.4-37μm；

所述预设开口的尺寸为3-40μm。

4.根据权利要求2或3所述的蒸镀用掩膜板，其特征在于，所述绝缘膜层与所述掩膜板本体存在重叠区域，所述支撑柱垂直设置于所述重叠区域内的绝缘膜层上；

在所述第一开口内至少存在两个所述预设开口在所述掩膜板本体上的正投影。

5.根据权利要求4所述的蒸镀用掩膜板，其特征在于，所述支撑柱的长度为0.3-2.6μm。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的蒸镀用掩膜板，其特征在于，所述绝缘膜层的张数与所述第一开口的个数相同，且每张绝缘膜层均设置于对应的第一开口上方，相邻的绝缘膜层间无重叠；

所述预设开口的尺寸等于子像素开口尺寸。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的蒸镀用掩膜板，其特征在于，在所述绝缘膜层靠近所述掩膜板本体的一侧上设置粘结层，以将所述绝缘膜层粘结于所述掩膜板本体上。

8.一种蒸镀用掩膜板的制备方法，其特征在于，包括，

在绝缘膜层上预先间隔开设若干预设开口；

将所述绝缘膜层的一侧粘贴于开设若干第一开口的掩膜板本体上，并使所述预设开口在所述掩膜板本体上的正投影落入所述第一开口内，制得所述蒸镀用掩膜板。

9.一种OLED显示基板，其特征在于，采用权利要求1-6任一项所述的蒸镀用掩膜板或权利要求7-8任一项所述的制备方法制得的蒸镀用掩膜板蒸镀发光材料后得到。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的OLED显示基板。