CN206033864U - 一种开口掩膜板、掩膜板及基板 - Google Patents

Abstract

本实用新型实施例提供一种开口掩膜板、掩膜板及基板，涉及显示技术领域，该掩膜板既可以确保形成膜层的精确度，又可以确保在清洗掩膜板时，防止清洗药液和水残留在掩膜板上。该开口掩膜板上设置有第一凹槽，所述第一凹槽的底部设置有构图区域限定口，所述第一凹槽的底部还设置有通孔。用于形成OLED显示器件中的膜层。

Description

一种开口掩膜板、掩膜板及基板

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种开口掩膜板、掩膜板及基板。

背景技术

有机电致发光二极管(Organic Light Emitting，简称OLED)显示技术，由于具有自发光、反应速度快、视角广、成本低、制造工艺简单、分辨率高以及亮度高等优点，而使得OLED显示器件受到越来越广泛的应用。

OLED显示器件的结构包括阳极、发光层和阴极。其中，发光层一般通过蒸镀的方法形成，而用于真空蒸镀的精细金属掩膜板(Fine Metal Mask，简称FMM)是蒸镀过程中一项非常重要和关键的部件，该部件的质量和精度直接影响着蒸镀形成的发光层的质量，最终影响着OLED显示器件的良率和质量。

实用新型内容

本实用新型的实施例提供一种开口掩膜板、掩膜板及基板，该掩膜板既可以确保形成膜层的精确度，又可以确保在清洗掩膜板时，防止清洗药液和水残留在掩膜板上。

为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案：

第一方面，提供一种开口掩膜板，所述开口掩膜板上设置有第一凹槽，所述第一凹槽的底部设置有构图区域限定口，所述第一凹槽的底部还设置有通孔。

优选的，所述开口掩膜板的边缘区域还设置有第二凹槽，所述第二凹槽与所述第一凹槽位于所述开口掩膜板的同一侧，所述第二凹槽的底部设置有通孔。

优选的，所述开口掩膜板包括多个第一凹槽，每个所述第一凹槽的底部设置有一个所述构图区域限定口。

优选的，所述第一凹槽的形状为圆形或矩形。

优选的，所述第一凹槽的底部和所述第二凹槽的底部设置有多个所述通孔。

进一步优选的，所述通孔为圆形，且所述通孔的直径为600～800μm。

第二方面，提供一种掩膜板，包括：框架，固定设置在所述框架上、且相互贴合的开口掩膜板和精细掩膜板，所述开口掩膜板为上述开口掩膜板；第一凹槽的槽口朝向所述精细掩膜板，所述框架不遮挡所述开口掩膜板上的通孔。

优选的，所述精细掩膜板包括多个掩膜条，每个所述掩膜条对应一列所述第一凹槽；每个所述掩膜条覆盖所述第一凹槽；或者，每个所述掩膜条覆盖所述构图区域限定口，且不完全覆盖所述第一凹槽。

第三方面，提供一种开口掩膜板，所述开口掩膜板上设置有构图区域限定口，所述开口掩膜板的边缘区域设置有第二凹槽，所述第二凹槽的底部设置有通孔。

第四方面，提供一种掩膜板，包括：框架，固定设置在所述框架上、且相互贴合的开口掩膜板和精细掩膜板，所述开口掩膜板为上述的开口掩膜板；第二凹槽的槽口朝向所述精细掩膜板，所述框架不遮挡所述开口掩膜板上的通孔。

优选的，所述精细掩膜板包括多个掩膜条，所述多个掩膜条不完全覆盖所述第二凹槽。

第五方面，提供一种掩膜板，包括：框架，固定设置在所述框架上、且相互贴合的开口掩膜板和精细掩膜板，所述开口掩膜板上设置有第一凹槽，所述第一凹槽的底部设置有构图区域限定口；所述第一凹槽的槽口朝向所述精细掩膜板；所述精细掩膜板包括多个掩膜条，每个所述掩膜条对应一列所述第一凹槽，每个掩膜条覆盖所述第一凹槽底部的构图区域限定口，且不完全覆盖所述第一凹槽。

第六方面，提供一种基板，包括衬底基板和设置在所述衬底基板上的膜层，所述膜层通过上述的掩膜板形成。

本实用新型实施例提供一种开口掩膜板、掩膜板及基板，当开口掩膜板和精细掩膜板配合用于形成图案时，由于开口掩膜板上的构图区域限定口的形状即是要形成图案区域的形状，因而精细掩膜板上的构图区域可以设置成在精细掩膜板焊接时不影响精细掩膜板平坦度的任意形状，且精细掩膜板上的图案覆盖开口掩膜板的构图区域限定口，这样便可以确保利用开口掩膜板和精细掩膜板配合形成的图案的精确度。在此基础上，本实用新型实施例在开口掩膜板的第一凹槽的底部设置通孔，因而在清洗开口掩膜板和精细掩膜板配合形成的双层掩膜板时，药液和水可以从通孔中流出，从而避免了药液和水残留在第一凹槽内，从而确保了形成的图案的质量。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术提供一种掩膜板的清洗工艺流程示意图；

图2(a)为本实用新型提供的一种开口掩膜板的结构示意图一；

图2(b)为本实用新型提供的一种开口掩膜板的结构示意图二；

图2(c)为图2(a)的AA`向剖视示意图；

图3为本实用新型提供的一种开口掩膜板的结构示意图三；

图4为本实用新型提供的一种掩膜板包括开口掩膜板和精细掩膜板的结构示意图一；

图5为本实用新型提供的一种掩膜板包括开口掩膜板和精细掩膜板的结构示意图二；

图6(a)为本实用新型提供的一种掩膜板包括开口掩膜板和精细掩膜板的结构示意图三；

图6(b)为本实用新型提供的一种掩膜板包括开口掩膜板和精细掩膜板的结构示意图四；

图7为本实用新型提供的一种掩膜板包括开口掩膜板和精细掩膜板的结构示意图五；

图8为本实用新型提供的一种掩膜板包括开口掩膜板和精细掩膜板的结构示意图六；

图9为本实用新型提供的一种掩膜板包括开口掩膜板和精细掩膜板的结构示意图七。

附图标记：

01-开口掩膜板；02-精细掩膜板；03-框架；10-第一凹槽；101-构图区域限定口；102-通孔；20-第二凹槽。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

现有技术中，在利用精细掩膜板进行蒸镀时，必须将精细掩膜板焊接在框架上才能放在蒸镀腔室里面使用。然而，若精细掩膜板上的构图区域为圆形，在将精细掩膜板焊接在框架上时，由于圆形的构图区域会受力不均，因而常会导致精细掩膜板的构图区域发生褶皱，从而影响了精细掩膜板的平坦度。考虑到上述问题，因而本实用新型通过将开口掩膜板和精细掩膜板配合使用，开口掩膜板上设置有构图区域限定口，精细掩膜板上的图案与开口掩膜板上的构图区域限定口对应，这样精细掩膜板上的构图区域可以设置成任意的形状，只要不影响精细掩膜板焊接时构图区域的平坦度即可，因而开口掩膜板和精细掩膜板配合使用，可以确保精细掩膜板的平坦度，从而可以确保形成的膜层精确度。

在此基础上，当掩膜板包括开口掩膜板和精细掩膜板时，一方面，考虑到在使用时，由于重力的原因，开口掩膜板可能会向下弯曲，从而导致开口掩膜板上的构图区域限定口弯曲；另一方面，考虑到在利用掩膜板进行蒸镀时，构图区域限定口周围受到的力可能会使得构图区域限定口的形状发生变化。基于上述两个方面的考虑，本实用新型实施例在开口掩膜板上设置第一凹槽，在第一凹槽的底部设置构图区域限定口，这样一来，第一凹槽不仅可以减小开口掩膜板的重力，而且第一凹槽还可以形成应力缓冲区，防止在蒸镀时开口掩膜板上的构图区域限定口变形。

同理，为了减小开口掩膜板的重力，以及防止将开口掩膜板或精细掩膜板焊接在框架上时，开口掩膜板边缘区域受力不均，而影响开口掩膜板构图区域限定口的形状，因而还可以在开口掩膜板的边缘区域设置第二凹槽，这样不仅可以减小开口掩膜板的重力，而且还可以形成应力缓冲区，防止将开口掩膜板或精细掩膜板焊接在框架上时，开口掩膜板边缘区域受力不均。

现有技术中，掩膜板在蒸镀循环使用的过程中会不断有蒸镀材料沉积在掩膜板上，影响掩膜板的使用，因而在每次使用掩膜板进行蒸镀之前都必须对掩膜板进行清洗，清洗后的掩膜板需要干燥处理。通常掩膜板的清洗工艺流程如图1所示，先利用药液对掩膜板进行清洗，所选药液例如可以是N-甲基吡咯烷酮，再进行漂洗，例如可以利用去离子水进行漂洗，之后，再利用电解液进行清洗，电解液例如可以是KOH(氢氧化钾)，再进行漂洗，最后再利用易挥发液体进行清洗，易挥发液体在挥发时可以携带掩膜板上的液体并使其蒸发掉，易挥发液体例如可以是异丙醇或乙醇等，在完成上述清洗过程后，便可以将掩膜板上的蒸镀材料清洗掉。

此处，需要说明的是，对于本实用新型实施例提供的包括开口掩膜板和精细掩膜板的双层掩膜板，在进行蒸镀之前也必须对双层掩膜板进行清洗。然而，由于本实用新型实施例提供的包括开口掩膜板和精细掩膜板的双层掩膜板中开口掩膜板上还设置有第一凹槽和/或第二凹槽，而精细掩膜板又贴合在开口掩膜板上，这样精细掩膜板便会挡住第一凹槽和/或第二凹槽的槽口，因而在清洗该掩膜板时，药液和水便会残留在开口掩膜板中。若药液和水残留在双层掩膜板中，在利用该双层掩膜板进行蒸镀时，药液若挥发混入有机材料中，会大大缩短OLED显示器件的性能；若水残留在开口掩膜板中，水以及水中混入的氧气会较大地影响OLED显示器件的寿命，氧气的渗入使得有机功能层发光量子效率明显下降，氧气对有机发光层的氧化会产生羟基化合物，也会显著降低有机功能发光层的发光量子效率；而水汽会导致导电层与有机化合物水解，使OLED显示器件的稳定性大大降低，这些都会影响OLED显示器件的寿命，因此双层掩膜板必须干燥，避免药液和水残留在双层掩膜板中，影响OLED显示器件的性能。

基于上述，本实用新型实施例提供一种开口掩膜板01，如图2(a)、图2(b)和图2(c)所示，开口掩膜板01上设置有第一凹槽10，第一凹槽10的底部设置有构图区域限定口101，第一凹槽10的底部还设置有通孔102。

需要说明的是，第一，对于开口掩膜板01上第一凹槽10的形状、尺寸和数量不进行限定，可以根据需要进行设置。示例的，第一凹槽10的形状可以是如图2(a)所示为矩形，也可以是如图2(b)所示为圆形。

第二，对于第一凹槽10的底部设置的构图区域限定口101的尺寸和形状不进行限定，具体可以根据需要形成的图案区域的尺寸和形状进行相应设置。示例的，当利用开口掩膜板01与精细掩膜板配合形成手表中的发光层时，此时，构图区域限定口101的形状可以为圆形，直径为40mm。

第三，对于第一凹槽10的底部设置的通孔102的尺寸和数量不进行限定，可以根据第一凹槽10的尺寸和构图区域限定口101的尺寸进行相应设置，且通孔102的尺寸至少应保证药液和水可以流出。此处，优选通孔102均匀设置在第一凹槽10内。

本领域技术人员应该明白，通孔102不可能设置在构图区域限定口101内。

本实用新型实施例提供一种开口掩膜板01，当开口掩膜板01和精细掩膜板配合用于形成图案时，由于开口掩膜板01上的构图区域限定口的形状即是要形成图案区域的形状，因而精细掩膜板上的构图区域可以设置成在精细掩膜板焊接时不影响精细掩膜板平坦度的任意形状，且精细掩膜板上的图案覆盖开口掩膜板01的构图区域限定口101，这样便可以确保利用开口掩膜板01和精细掩膜板配合形成的图案的精确度。在此基础上，本实用新型实施例在开口掩膜板01的第一凹槽10的底部设置通孔102，因而在清洗开口掩膜板01和精细掩膜板配合形成的双层掩膜板时，药液和水可以从通孔中流出，从而避免了药液和水残留在第一凹槽10内，从而确保了形成的图案的质量。当该开口掩膜板01与精细掩膜板配合用于形成OLED显示器件中的发光层时，可以提升OLED显示器件的良品率。

为了进一步减轻开口掩膜板01的重力以及防止将开口掩膜板01和/或精细掩膜板焊接在框架上时，开口掩膜板01边缘区域受力不均，因而优选的，如图3所示，开口掩膜板01的边缘区域还设置有第二凹槽20，第二凹槽20与第一凹槽10位于开口掩膜板01的同一侧，第二凹槽20的底部设置有通孔102。

其中，可以在开口掩膜板01的一个边缘设置第二凹槽20，也可以在开口掩膜板01的二个或三个或四个边缘均设置第二凹槽20。需要说明的是，当精细掩膜板包括多个掩膜条时，由于掩膜条焊接在框架的一组对边上，为了避免掩膜条焊接在框架上时，开口掩膜板01边缘区域受力不均，因而优选的，如图3所示，可以仅在开口掩膜板01的一对相互平行的边缘设置第二凹槽20，且该对边缘与掩膜条焊接在框架上的边平行。

此外，对于第二凹槽20的底部设置的通孔102的数量和通孔102的尺寸不进行限定，可以根据需要进行相应设置，对于通孔102的尺寸至少应保证药液和水可以从通孔102中流出。

本实用新型实施例，在开口掩膜板01的边缘区域设置第二凹槽20，不仅可以减轻开口掩膜板01的重力，而且还可以形成应力缓冲区，防止将开口掩膜板01和/或精细掩膜板焊接在框架上时，开口掩膜板01边缘区域受力不均。在此基础上，在第二凹槽20的底部还设置有通孔102，因而可以避免在清洗开口掩膜板01和精细掩膜板配合形成的双层掩膜板上，药液和水残留在第二凹槽20内，进而避免了药液和水对形成的图案质量的影响。

优选的，如图2(a)、图2(b)以及图3-图9所示，开口掩膜板01包括多个第一凹槽10，每个第一凹槽10的底部设置有一个构图区域限定口101。

本实用新型实施例，由于开口掩膜板01包括多个第一凹槽10，且每个第一凹槽10的底部均设置有一个构图区域限定口101，因而利用该开口掩膜板01可以同时在多个区域形成图案。

为了便于在开口掩膜板01上形成第一凹槽10，因而优选的，第一凹槽10的形状可以如图2(a)、图3-图5、图6(a)以及图7-图9所示为矩形，也可以是如图2(b)以及图6(b)所示为圆形。

进一步优选的，如图2(a)、图2(b)和图3-图7所示，第一凹槽10的底部和第二凹槽20的底部设置有多个通孔102。

本实用新型实施例，由于第一凹槽10的底部和第二凹槽20的底部有多个通孔102，因而在清洗开口掩膜板01与精细掩膜板配合形成的双层掩膜板时，残留在第一凹槽10和第二凹槽20中药液和水可以快速流出。

优选的，通孔102为圆形，且通孔102的直径为600～800μm。

本实用新型实施例，当通孔102的直径太小时，残留在第一凹槽10和/或第二凹槽20内的药液和水可能流不出去；当通孔102的直径太大时，可能会影响开口掩膜板01上构图区域限定口101的平坦度，因而优选通孔102的直径为600～800μm。

本实用新型实施例还提供一种掩膜板，如图4-图7所示，包括：框架03，固定设置在框架03上、且相互贴合的开口掩膜板01和精细掩膜板02，开口掩膜板01为上述开口掩膜板01；第一凹槽10的槽口朝向精细掩膜板02，框架03不遮挡开口掩膜板01上的通孔102。

其中，对于精细掩膜板02不进行限定，精细掩膜板02可以是一整张，也可以由多个掩膜条组成(本实用新型实施例附图中均以精细掩膜板02包括多个掩膜条为例进行示意，附图4-图6中仅示意出一个掩膜条)。

需要说明的是，由于精细掩膜板02的构图区域形成有图案，因而精细掩膜板02的构图区域应覆盖开口掩膜板01的构图区域。此外，对于精细掩膜板02上构图区域的形状，应防止将精细掩膜板02固定在框架03上时，精细掩膜板02上的构图区域受力不均，而导致构图区域的图案发生褶皱。优选的，精细掩膜板02上的构图区域为矩形。

此处，在形成双层掩膜板时，可以先将开口掩膜板01固定在框架03上，再将精细掩膜板02固定在框架03上。此外，对于开口掩膜板01和精细掩膜板02如何固定在框架03不进行限定，例如可以将开口掩膜板01和精细掩膜板02焊接在框架03上。

本实用新型提供一种掩膜板，由于掩膜板包括固定设置在框架03上、且相互贴合的开口掩膜板01和精细掩膜板02，由于开口掩膜板01上的构图区域限定口的形状即是要形成图案区域的形状，因而精细掩膜板上的构图区域可以设置成在精细掩膜板焊接时不影响精细掩膜板平坦度的任意形状，进而利用该掩膜板可以确保形成的图案的精确度。在此基础上，开口掩膜板01的第一凹槽10的底部设置有通孔102，因而可以避免在清洗掩膜板时，药液和水残留在第一凹槽10内，从而避免了影响形成的图案的质量。当该开口掩膜板01与精细掩膜板配合用于形成OLED显示器件中的发光层时，可以提升OLED显示器件的良品率。

优选的，如图4-图7所示，精细掩膜板02包括多个掩膜条，每个掩膜条对应一列第一凹槽10(附图4-图6中仅示意出一条掩膜条)；如图4和图5所示，每个掩膜条覆盖第一凹槽10；或者，如图6(a)、图6(b)以及图7所示，每个掩膜条覆盖构图区域限定口101，且不完全覆盖第一凹槽10。

本实用新型实施例，当掩膜条覆盖第一凹槽10时，可以防止在利用掩膜板蒸镀时，蒸镀材料较多地残留在第一凹槽10中；当掩膜板覆盖构图区域限定口101，且不完全覆盖第一凹槽10时，在清洗掩膜板时，药液和水还可以从第一凹槽10未被掩膜条覆盖的部分流出，从而进一步地避免了药液和水残留在第一凹槽10中。

进一步地，当开口掩膜板还包括第二凹槽20时，如图7所示，多个掩膜条可以不完全覆盖第二凹槽20，这样在清洗掩膜板时，药液和水还可以从第二凹槽20未被掩膜条覆盖的部分流出。

本实用新型实施例提供一种开口掩膜板01，如图3所示，开口掩膜板01上设置有构图区域限定口101，开口掩膜板01的边缘区域设置有第二凹槽20，第二凹槽20的底部设置有通孔102。

其中，可以在开口掩膜板01的一个或多个边缘设置第二凹槽20。需要说明的是，当精细掩膜板02包括多个掩膜条时，由于掩膜条焊接在框架的一组对边上，为了避免掩膜条焊接在框架上时，开口掩膜板01边缘区域受力不均，因而优选的，如图3所示，可以仅在开口掩膜板01的一对相互平行的边缘设置第二凹槽20，且该对边缘与掩膜条焊接在框架上的边平行。

此外，对于第二凹槽20的底部设置的通孔102的数量和通孔102的尺寸不进行限定，可以根据需要进行相应设置。

本实用新型实施例提供一种开口掩膜板01，由于开口掩膜板01的边缘区域设置有第二凹槽20，因而不仅可以减轻开口掩膜板01的重力，而且还可以防止将开口掩膜板01或精细掩膜板02焊接在框架上时，开口掩膜板01边缘区域受力不均，而影响开口掩膜板01构图区域限定口101的形状。在此基础上，在第二凹槽20的底部还设置有通孔102，因而在清洗开口掩膜板01和精细掩膜板02配合形成的双层掩膜板上，药液和水可以从通孔102中流出，从而避免了药液和水残留在第二凹槽20内，进而避免了药液和水对形成图案质量的影响。

优选的，如图7所示，精细掩膜板02包括多个掩膜条，多个掩膜条不完全覆盖第二凹槽20。

本实用新型实施例，由于掩膜条不完全覆盖第二凹槽20，因而在清洗开口掩膜板01和精细掩膜板02配合形成的双层掩膜板时，第二凹槽20中残留的药液和水还可以从第二凹槽20未被掩膜条覆盖的部分流出，从而进一步避免了药液和水残留在第二凹槽20内。

本实用新型实施例提供一种掩膜板，如图8和图9所示，包括：框架03，固定设置在框架03上、且相互贴合的开口掩膜板01和精细掩膜板02，开口掩膜板01上设置有第一凹槽10，第一凹槽10的底部设置有构图区域限定口101；第一凹槽10的槽口朝向精细掩膜板02；精细掩膜板02包括多个掩膜条，每个掩膜条对应一列第一凹槽10，每个掩膜条覆盖第一凹槽10底部的构图区域限定口101，且不完全覆盖第一凹槽10。

本实用新型实施例提供一种掩膜板，由于掩膜板包括固定设置在框架03上、且相互贴合的开口掩膜板01和精细掩膜板02，由于开口掩膜板01上设置有第一凹槽10，因而不仅可以减轻开口掩膜板01的重力，而且第一凹槽10还可以形成应力缓冲区，防止在蒸镀时开口掩膜板01上的构图区域限定口101变形。在此基础上，由于精细掩膜板02包括多个掩膜条，且掩膜条不完全覆盖第一凹槽10，因而在清洗掩膜板时，药液和水可以从第一凹槽10未被掩膜条覆盖的部分流出，从而防止了药液和水残留在第一凹槽10内，而影响形成图案的质量。

优选的，如图9所示，开口掩膜板01的边缘区域设置有第二凹槽20，多个掩膜条不完全覆盖第二凹槽20。

本实用新型实施例中，由于精细掩膜板02包括多个掩膜条。且多个掩膜条不完全覆盖第二凹槽20，因而在清洗掩膜板时，药液和水可以从第二凹槽20未被掩膜条覆盖的部分流出，从而防止了药液和水残留在第二凹槽20内，而影响形成图案的质量。

本实用新型实施例还提供一种基板，包括衬底基板和设置在衬底基板上的膜层，所述膜层通过上述的掩膜板形成。

本实用新型实施例提供一种基板，由于该基板是通过上述的掩膜板形成的，而上述的掩膜板包括固定在框架03上，且相互贴合的开口掩膜板01和精细掩膜板02，且开口掩膜板01上形成有第一凹槽10和/或第二凹槽20，因而形成的第一凹槽10和/或第二凹槽20不仅可以减轻开口掩膜板01的重力，还可以起到应力缓冲的作用，因而通过该掩膜板形成的膜层的精确度更高。在此基础上，当开口掩膜板01上的第一凹槽10和/或第二凹槽20上还形成有通孔102，或者，当精细掩膜板02包括多个掩膜条，每个掩膜条不完全覆盖第一凹槽10和/或第二凹槽20时，因而在清洗掩膜板时，还可以避免药液和水残留在第一凹槽10和/或第二凹槽20内，从而可以使得形成的膜层的质量更高。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (15)

1.一种开口掩膜板，其特征在于，所述开口掩膜板上设置有第一凹槽，所述第一凹槽的底部设置有构图区域限定口，所述第一凹槽的底部还设置有通孔。

2.根据权利要求1所述的开口掩膜板，其特征在于，所述开口掩膜板的边缘区域还设置有第二凹槽，所述第二凹槽与所述第一凹槽位于所述开口掩膜板的同一侧，所述第二凹槽的底部设置有通孔。

3.根据权利要求1所述的开口掩膜板，其特征在于，所述开口掩膜板包括多个第一凹槽，每个所述第一凹槽的底部设置有一个所述构图区域限定口。

4.根据权利要求1所述的开口掩膜板，其特征在于，所述第一凹槽的形状为圆形或矩形。

5.根据权利要求1-4任一项所述的开口掩膜板，其特征在于，所述第一凹槽的底部设置有多个所述通孔。

6.根据权利要求5所述的开口掩膜板，其特征在于，所述通孔为圆形，且所述通孔的直径为600～800μm。

7.根据权利要求2所述的开口掩膜板，其特征在于，所述第二凹槽的底部设置有多个所述通孔。

8.根据权利要求7所述的开口掩膜板，其特征在于，所述通孔为圆形，且所述通孔的直径为600～800μm。

9.一种掩膜板，其特征在于，包括：框架，固定设置在所述框架上、且相互贴合的开口掩膜板和精细掩膜板，所述开口掩膜板为权利要求1-8任一项所述开口掩膜板；

第一凹槽的槽口朝向所述精细掩膜板，所述框架不遮挡所述开口掩膜板上的通孔。

10.根据权利要求9所述的掩膜板，其特征在于，所述精细掩膜板包括多个掩膜条，每个所述掩膜条对应一列所述第一凹槽；

每个所述掩膜条覆盖所述第一凹槽；或者，每个所述掩膜条覆盖所述构图区域限定口，且不完全覆盖所述第一凹槽。

11.一种开口掩膜板，其特征在于，所述开口掩膜板上设置有构图区域限定口，所述开口掩膜板的边缘区域设置有第二凹槽，所述第二凹槽的底部设置有通孔。

12.一种掩膜板，其特征在于，包括：框架，固定设置在所述框架上、且相互贴合的开口掩膜板和精细掩膜板，所述开口掩膜板为权利要求11所述的开口掩膜板；

第二凹槽的槽口朝向所述精细掩膜板，所述框架不遮挡所述开口掩膜板上的通孔。

13.根据权利要求12所述的掩膜板，其特征在于，所述精细掩膜板包括多个掩膜条，所述多个掩膜条不完全覆盖所述第二凹槽。

14.一种掩膜板，其特征在于，包括：框架，固定设置在所述框架上、且相互贴合的开口掩膜板和精细掩膜板，所述开口掩膜板上设置有第一凹槽，所述第一凹槽的底部设置有构图区域限定口；所述第一凹槽的槽口朝向所述精细掩膜板；

所述精细掩膜板包括多个掩膜条，每个所述掩膜条对应一列所述第一凹槽，每个掩膜条覆盖所述第一凹槽底部的构图区域限定口，且不完全覆盖所述第一凹槽。

15.一种基板，包括衬底基板和设置在所述衬底基板上的膜层，其特征在于，所述膜层通过权利要求9-10任一项所述的掩膜板或权利要求12-13任一项所述的掩膜板或权利要求14所述的掩膜板形成。