CN109830620A - 显示基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，采用该制备方法形成的显示基板具有较为平坦的表面。该制备方法包括以下步骤：S1：在衬底基板上依次形成像素界定层、辅助界定层；像素界定层具有多个间隔设置的第一开口部，辅助界定层具有多个间隔设置的第二开口部；S2：在第一开口部内打印墨水，并对墨水进行第一热处理，以去除墨水中的溶剂；像素界定层与辅助界定层的厚度之和，大于墨水去除溶剂后聚集在第一开口部内的最大厚度；S3：至少对辅助界定层进行第二热处理，以使辅助界定层熔化，形成覆盖墨水的覆盖层；S4：对覆盖层进行冷却处理，以使覆盖层固化。用于显示基板及包括该显示基板的显示装置的制备。

Description

显示基板及其制备方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

显示基板(例如为彩膜基板)通常包括：像素界定层以及通过像素界定层上的多个开口部分隔出的各个子像素区域，每个子像素区域内形成有滤光层。

在现有技术中，滤光层的一种制备方式为：采用喷墨打印的方式，在每个子像素区域内打印墨水，并对墨水进行干燥、固化处理，以形成上述的滤光层。

然而，由于墨水在像素界定层表面的润湿性较差，使得墨水经过干燥、固化处理后形成的滤光层呈现中间厚、四周薄的结构，导致滤光层中不同区域的断差较大，无法为后续工艺提供一个较为平坦的表面，难以满足工艺设计的需求。

发明内容

鉴于此，为解决现有技术的问题，本发明的实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，采用该制备方法形成的显示基板表面较为平坦，可以为后续工艺提供较为平坦的衬底，从而为后续工艺提供便利，满足工艺设计的需要。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例一方面提供一种显示基板的制备方法，包括以下步骤：S1：在衬底基板上依次形成像素界定层、辅助界定层；所述像素界定层具有多个间隔设置的第一开口部，所述辅助界定层具有与所述第一开口部一一对应的多个间隔设置的第二开口部；S2：在所述第一开口部内打印墨水，并对所述墨水进行第一热处理，以去除所述墨水中的溶剂；沿所述衬底基板的垂直方向，所述像素界定层与所述辅助界定层的厚度之和，大于所述墨水去除溶剂后聚集在所述第一开口部内的最大厚度；S3：至少对所述辅助界定层进行第二热处理，以使所述辅助界定层熔化，形成覆盖所述墨水的覆盖层；S4：对所述覆盖层进行冷却处理，以使所述覆盖层固化。

在本发明一些实施例中，在步骤S1中，形成的所述像素界定层包括像素分隔墙，所述像素分隔墙围设成多个所述第一开口部；形成的所述辅助界定层包括辅助分隔墙，所述辅助分隔墙围设成多个所述第二开口部；其中，所述像素分隔墙包括：与所述辅助分隔墙相接触的第一表面、相对于所述第一表面的第二表面；每个所述第二开口部露出对应的所述第一开口部以及所述第一表面上靠近该第一开口部的区域。

在本发明一些实施例中，所述墨水中的溶剂为水和/或水溶性溶剂；所述辅助分隔墙与所述第一表面均具有疏水性，所述像素分隔墙朝向所述第一开口部的侧壁具有亲水性。

在本发明一些实施例中，所述墨水中的溶剂为非溶性溶剂；所述辅助分隔墙与所述第一表面均具有亲水性，所述像素分隔墙朝向所述第一开口部的侧壁具有疏水性。

在本发明一些实施例中，所述像素界定层的厚度大于所述辅助界定层的厚度。

在本发明一些实施例中，步骤S1还包括：在所述衬底基板上形成包围所述像素界定层和所述辅助界定层的围挡。

在本发明一些实施例中，所述围挡的部分覆盖在所述像素界定层上；其中，沿所述衬底基板的垂直方向，所述围挡的高度与所述辅助界定层的厚度相等。

在本发明一些实施例中，制成所述像素界定层的材料包括：黑矩阵材料。

在本发明一些实施例中，制成所述辅助界定层的材料包括：热塑性聚合物和/或热固性聚合物。

在本发明一些实施例中，步骤S3包括：对去除溶剂后的所述墨水与所述辅助界定层同时进行第二热处理，以使去除溶剂后的所述墨水固化、所述辅助界定层熔化，形成覆盖所述墨水的覆盖层。

在本发明一些实施例中，形成所述辅助界定层包括：在形成有所述像素界定层的所述衬底基板上涂布负性光刻胶；对所述负性光刻胶依次进行曝光处理、显影处理，以形成所述辅助界定层。

本发明实施例再一方面提供一种显示基板，包括：设置在衬底基板上的像素界定层，所述像素界定层具有多个间隔设置的第一开口部；设置在所述第一开口部内的由固化的墨水构成的滤光层；覆盖所述滤光层和所述像素界定层的覆盖层。

在本发明一些实施例中，所述墨水为量子点墨水。

本发明实施例另方面提供一种显示装置，包括上述所述的显示基板。

基于此，通过本发明实施例提供的上述显示基板的制备方法，通过将用于界定墨水打印区域的两层界定层中，上方的辅助界定层熔化，以使其流平、覆盖在墨水表面形成覆盖层，减少墨水在下方的像素界定层上的第一开口部内聚集后的断差，从而为显示基板提供一个较为平坦的上表面(即远离衬底基板的表面)，进而为后续工艺提供便利，满足工艺设计的需要。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为相关技术中采用喷墨打印后形成的膜层厚度分布示意图；

图2为本发明实施例提供的一种显示基板的制备方法流程示意图；

图3(a)为图2中步骤S1形成的剖视结构示意图；

图3(b)为图2中步骤S2形成的剖视结构示意图；

图3(c)为图2中步骤S3形成的剖视结构示意图；

图4为图3(a)对应的俯视结构示意图；

图5为本发明实施例提供的一种显示基板的俯视结构示意图；

图6为本发明实施例提供的一种显示装置的剖视结构示意图。

附图标记：

01-显示基板；02-显示装置；10-衬底基板；

20-像素界定层；21-第一开口部；

22-像素分隔墙；22a-第一表面；22b-第二表面；22c-侧壁；

30’-辅助界定层；31’-第二开口部；32’-辅助分隔墙；

30-覆盖层；40’-墨水；40-滤光层；50-围挡。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

以下，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请实施例的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

需要指出的是，除非另有定义，本发明实施例中所使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员共同理解的相同含义。还应当理解，诸如在通常字典里定义的那些术语应当被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义相一致的含义，而不应用理想化或极度形式化的意义来解释，除非这里明确地这样定义。

例如，本发明说明书以及权利要求书中所使用的术语“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“上/上方”、“下/下方”、“行/行方向”以及“列/列方向”等指示的方位或位置关系的术语为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于说明本发明的技术方案的简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本发明各实施例中，当一个组件被称为“在…上”时，它可泛指该组件直接设置在其他组件上，也可以是有其他组件存在于两者之中。

例如，在某些情况下，涉及“行方向”的实施例可以在“列方向”的情况下实施等等，相反亦如此。将本专利所述方案进行90°旋转或镜像后亦属本专利权利范畴。

随着显示技术的不断发展和进步，显示器能否最大范围地呈现自然的色彩，并给观看者带来更为真实震撼的视觉体验非常重要。在广色域的实现方式中，一种可选的方式是采用量子点((Quantum dots，缩写为QD)发光，该种实现方式借助量子点发光光谱窄，色纯度高的有点，能够使得显示的画面色彩更为丰富。相关技术中，领用在显示领域的量子点，其发光方式可分为光致发光和电致发光这两类。

其中应用更为广泛的为光致发光量子点，一种具体的实现方式为量子点彩膜(Quantum dots-Color film，缩写为QD-CF)。QD-CF可搭载LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示)、OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机电致发光二极管)、micro LED(micro Light Emitting Diode，微型发光二极管)等各种蓝光背光源，利用蓝光波长较短(430nm～470nm)、具有的能量大，可以激发量子点发出波长较长的光(即被激发所需的能量较小)的激发原理，使蓝光通过分别由红色量子点、绿色量子点组成的彩色滤光片，激发彩色滤光片中的红色量子点、绿色量子点分别发出红光(波长为620nm～780nm)、绿光(波长为500nm～560nm)，从而实现全彩显示，

目前，QD-CF的制备方式主要采用量子点光刻胶(Quantum dots-Photoresist，以下简称为QD-PR)和量子点墨水(Quantum dots-Ink，以下简称为QD-Ink)这两种工艺路线。其中，QD-PR是将量子点分散在光刻胶中，涂布到基板表面后，通过曝光、显影的方式形成所需的彩色滤光片；QD-Ink是将量子点分散在相应的溶剂中形成墨水，通过打印的方式直接打印在基板上的各个子像素区域内，通过对墨水进行干燥、固化，即可形成所需的彩色滤光片。由于QD-PR工艺需要经过图案化处理，受限于掩膜板(Mask)的图案精度，难以形成图案精度非常高的彩色滤光片，无法满足高分辨率的显示需求，因此，相关技术中通常采用QD-Ink工艺来制备上述QD-CF。

QD-Ink工艺采用的墨水具体可分为热固化墨水和紫外光固化墨水这两种类型。现阶段热固化墨水技术发展相对成熟，应用更为广泛。稳定的热固化QD-Ink中，墨水中的溶剂含量比例非常高(高达70％以上)，固化时需要分两步进行，第一次采用较低温度对打印出的墨水进行烘干，以去除墨水中的溶剂；第二次采用较高温度对烘干后的墨水进行固化，以使墨水组分中的不饱和单体发生交联反应，固化成膜。

墨水固化成型后需要具有一定的膜厚(通常为6μm～8μm)，以降低QD-CF对蓝光的透过率，提高色纯度，从而使得蓝光能够充分照射到膜层中的量子点上，以激发量子点发出相应的光，QD-Ink在打印时通常通过多次打印、干燥；一次高温固化成型的工艺路线来进行打印。

然而，墨水经过多次打印并最终固化成型后，由于像素界定层具有一定的疏水性，导致墨水固化成膜后形成的滤光层呈现中间厚、四周薄的结构，如图1所示，断差可达1μm～2μm，其中，虚线圆框处表示像素界定层的分隔墙(Bank)高度，横坐标与纵坐标的长度单位为

由于在相关技术中，需要采用压印工艺在QD-CF表面形成偏光片等结构，压印工艺对下方衬底的平坦性要求极高，1μm～2μm的断差会严重影响压印结果，难以满足工艺设计的需求。

基于此，为解决上述技术问题，本发明实施例提供一种显示基板的制备方法，如图2所示，该制备方法包括以下步骤S1-S4：

S1：如图3(a)所示，在衬底基板10上依次形成像素界定层20、辅助界定层30’；该像素界定层20具有多个间隔设置的第一开口部21，该辅助界定层30’具有与上述的多个第一开口部21一一对应的多个间隔设置的第二开口部31’；

S2：如图3(b)所示，在第一开口部21内打印墨水40’，并对墨水40’进行第一热处理，以去除墨水40’中的溶剂；沿衬底基板10的垂直方向Z-Z’，像素界定层20与辅助界定层30’的厚度之和，大于墨水40’去除溶剂后聚集在第一开口部21内的最大厚度；

S3：如图3(c)所示，至少对辅助界定层30’进行第二热处理，以使辅助界定层30’熔化，形成覆盖墨水40’的覆盖层30；

S4：对覆盖层进行冷却处理，以使覆盖层固化。

下面对上述各步骤进行详细说明。

针对上述步骤S1，请继续参阅图3(a)，本发明实施例仅以像素界定层20直接设置在衬底基板10(即像素界定层20与衬底基板10相接触)为例进行说明，本发明实施例对此不作限定，像素界定层20与衬底基板10之间根据待形成的显示基板的结构设计不同，还可以设置有其他结构层。

例如，当上述显示基板还包括有形成OLED器件的步骤时，可以在像素界定层20与衬底基板10之间设置OLED器件，以使该OLED器件发出的光能够透过固化后的墨水形成的滤光层显示相应的颜色。

或者，像素界定层20与衬底基板10之间还可以设置有一些功能层，如指纹触控层等。

本发明实施例对像素界定层20、辅助界定层30’的具体形成方法不作限定，可以采用涂布、图案化处理等相关制备工艺。像素界定层20中各个第一开口部21的间距可根据上述显示基板所需达到的显示分辨率设置，本发明实施例对此不作限定。

可以理解的是，为了使得后续步骤S2能够在每个第一开口部21内打印相应的墨水40’，在上述步骤S1中，位于上方的辅助界定层30’中的每个第二开口部31’均露出对应的像素界定层20上的各个第一开口部21。

在步骤S1中，形成的各个第一开口部21用于限定出各个子像素区域。

针对上述步骤S2，由于墨水40’中的溶剂比例较多，因此，步骤S2具体可以参考图3(b)所示，包括：在第一开口部21内重复进行打印墨水40’，并对墨水40’进行第一热处理的操作。

打印和去除溶剂的重复的次数以经过多次打印并去除溶剂后的墨水40’聚集在第一开口部21内的最大厚度L4，小于像素界定层20的厚度L2与辅助界定层30’的厚度L3之和L为准，从而保证后续步骤S3将辅助界定层30’能够熔化、流平到墨水40’表面，从而形成覆盖墨水40’的覆盖层30。

可以理解的是，上述沿衬底基板10的垂直方向Z-Z’，即指的是垂直于该衬底基板10的板面的方向。

这里，由于像素界定层20的厚度L2与辅助界定层30’的厚度L3均为可控的参数，同时，墨水40’经过第一热处理去除溶剂后，体积的收缩率也是可以根据墨水40’中溶剂的比例计算得出，因此，可以通过计算确定，使得最大厚度L4小于L的合适打印次数。

可以理解的是，由于墨水40’通常需要经过多次打印，相应地，也需要经过多次第一热处理，以通过加热的方式、蒸发去除每次打印的墨水40’中的溶剂。为了使得辅助界定层30’不会在第一热处理的过程中发生熔化，用于制备辅助界定层30’的材料的熔融温度T_f(即材料熔化时的峰值温度)应小于第一热处理的温度T1。

针对上述步骤S3，可以理解的是，为使得辅助界定层30’能够发生熔化，以覆盖住墨水40’表面，第二热处理的温度T2应大于或等于用于制备辅助界定层30’的材料的熔融温度T_f。

针对上述步骤S4，对熔化后形成的覆盖层30进行冷却处理的温度，可根据用于制备辅助界定层30’的材料熔化后再次固化的温度灵活设置，由于第一热处理的温度T1通常较低，示例的，可以将熔化后形成的覆盖层30冷却至温度T1(及以下)，以使其固化、成型。

基于此，通过本发明实施例提供的上述显示基板的制备方法，通过将用于界定墨水打印区域的两层界定层中，上方的辅助界定层熔化，以使其流平、覆盖在墨水表面形成覆盖层，减少墨水在下方的像素界定层上的第一开口部内聚集后的断差，从而为显示基板提供一个较为平坦的上表面(即远离衬底基板的表面)，进而为后续工艺提供便利，满足工艺设计的需要。

并且，辅助界定层在墨水打印前可起到界定墨水打印区域的作用，在墨水打印后熔化可形成较为平坦的覆盖层，有利于简化显示基板的制备工艺。

请继续参阅图3(a)，在步骤S1中，形成的像素界定层20具体包括像素分隔墙22，该像素分隔墙22围设成多个上述的第一开口部21；形成的辅助界定层30’包括辅助分隔墙32’，该辅助分隔墙32’围设成多个上述的第二开口部31’。

其中，上述的像素分隔墙22包括：与辅助分隔墙32’相接触的第一表面22a、相对于第一表面22a的第二表面22b；每个第二开口部31’露出对应的第一开口部21以及第一表面22a上靠近该第一开口部21的区域，即第二开口部31’的开口区域大于第一开口部21的开口区域，从而使得每个第二开口部31’与对应的第一开口部21呈现开口区域上大、下小的结构，以便于打印时容纳更多的墨水。

图4为图3(a)对应的俯视示意图，图3(a)及后续的图3(b)、图3(c)的剖视方向如图4中的A-A’方向所示，以沿衬底基板10板面的方向上，第一开口部21的截面图形为矩形为例，每个第二开口部31’露出第一表面22a上靠近该第一开口部21的区域可以是如图4中虚线框示意出的四侧中的至少一侧处。

请继续参阅图3(a)和图3(b)，当墨水40’中的溶剂为水和/或水溶性溶剂，即为水性墨水时，辅助分隔墙32’与第一表面22a均具有疏水性，像素分隔墙22朝向第一开口部21的侧壁22c具有亲水性。

这样，当墨水40’打印到第一开口部21内时，由于墨水40’为水性墨水，可以在第一开口部21的侧壁22c表面充分润湿，即能够使得墨水40’充分铺展到第一开口部21；同时，由于辅助分隔墙32’与第一表面22a具有疏水性，受表面张力的作用，墨水40’会尽量向第一开口部21中心内缩，从而可以增加墨水单次打印的最大墨水容纳量，减少打印次数，提高上述制备方法的工艺效率。

同理，请继续参阅图3(a)和图3(b)，当墨水40’中的溶剂为非水溶性溶剂，即为油性墨水时，辅助分隔墙32’与第一表面22a均具有亲水性，像素分隔墙22朝向第一开口部21的侧壁22c具有疏水性。

这样，当墨水40’打印到第一开口部21内时，由于墨水40’为油性墨水，可以在第一开口部21的侧壁22c表面充分润湿，即能够使得墨水40’充分铺展到第一开口部21；同时，由于辅助分隔墙32’与第一表面22a具有亲水性，受表面张力的作用，墨水40’会尽量向第一开口部21中心内缩，从而可以增加墨水单次打印的最大墨水容纳量，减少打印次数，提高上述制备方法的工艺效率。

这里，使辅助分隔墙32’具有亲水性或疏水性的方式，例如可以是在用于制备辅助分隔墙32’的主体材料中加入适量亲水纳米颗粒或疏水纳米颗粒，以起到相应的亲水或疏水作用。

使像素分隔墙22的第一表面22a与侧壁22c具有不同亲疏水性的方式，例如可以是对第一表面22a与侧壁22c进行不同的表面改性，以使第一表面22a与侧壁22c具有不同亲疏水性。

进一步的，由于辅助界定层30’在后续步骤S3中通过加热被熔化，墨水40’能够被第一开口部21所容纳的量取决于像素界定层20的厚度，因此，为使得像素界定层20上的第一开口部21容纳尽可能多的墨水40’，像素界定层20的厚度L2应大于辅助界定层30’的厚度L3。

示例的，像素界定层20的厚度L2为4μm-8μm，辅助界定层30’的厚度L3为1μm-2μm。

在上述基础上，由于像素界定层20与辅助界定层30’通常设置在显示区内，由于显示区之外的非显示区还设置有电路等其他结构，电路等其他结构与显示区之间的间距非常小，为避免墨水打印时打印到周边的非显示区，进一步的，请继续参阅图3(a)至图4，上述步骤S1还包括：在衬底基板10上形成包围像素界定层20和辅助界定层30’的围挡(Dam)50。

本发明实施例对围挡50的制备方法不作限定，以围挡50采用光刻胶制成为例，可以通过涂布光刻胶，并使用掩膜板对光刻胶进行曝光后显影的方式形成。

请继续参阅图3(a)至图3(c)，当围挡50的部分覆盖在像素界定层20上时，为提高形成的显示基板的表面(该表面通常是指位于显示区内的表面)平坦性，沿衬底基板10的垂直方向Z-Z’，围挡50的高度L5与辅助界定层30’的厚度L3相等或接近(即略大于或略小于厚度L3)。

这里，围挡50可以选用与辅助界定层30’相同的材料，由于围挡50的高度L5与辅助界定层30’的厚度L3相等或接近，因此，当对辅助界定层30’进行第二热处理时，由于高温的影响，围挡50也会发生熔化后，经冷却处理可再次固化、塑型，重新形成围挡50，不会受到辅助界定层30’熔化后流平的影响。

示例的，围挡50的高度L5为1μm-2μm，宽度不作限定。

进一步的，由于墨水40’固化干燥后用于形成滤光层，为避免相邻的第一开口部21内固化的墨水40’形成的滤光层发生混光，制成像素界定层20的材料包括：黑矩阵(BlackMatrix，简称为BM)材料。

当BM材料为掺杂有黑色吸光颗粒的光刻胶时，可以采用旋涂或刮涂等方式在衬底基板10表面上涂布BM光刻胶，并对衬底基板10进行前烘烤(以提高膜层附着性)，之后对BM光刻胶进行曝光后显影，从而形成像素界定层20。当然，BM材料也可以为遮光金属，可以通过相应的图案化处理形成所需的图案，具体工艺过程此处不再赘述。

示例的，制成辅助界定层30’的材料包括：热塑性聚合物和/或热固性聚合物，以使其能够经过高温发生熔化、冷却后再次固化。

这里，热塑性聚合物是指在加热时能发生流动变形，冷却后可以保持一定形状的聚合物，通常为线形或支链型聚合物。

热固性聚合物是指第一次加热时可以软化流动，加热到一定温度后，该聚合物内部发生交联固化而变硬，这种变化是不可逆的，再次加热时，已不能再变软流动。热固性聚合物固化前的结构为线型或带支链，固化后分子链之间形成化学键，成为三维的网状结构，不仅不能再熔触，在大多数溶剂中也不能溶解。热固性聚合物通常包括：酚醛树脂、脲醛树脂、三聚氰胺树脂、不饱和聚酯树脂、环氧树脂、有机硅树脂、聚氨酯等。

在上述基础上，由于墨水40’经过第一热处理去除其中的溶剂后，需要经过高温固化，为提高上述制备方法的工艺效率，上述步骤S3包括：对去除溶剂后的墨水40’与辅助界定层30’同时进行第二热处理，以使去除溶剂后的墨水40’固化、辅助界定层30’熔化，形成覆盖墨水40’的覆盖层30。

可以理解的是，由于墨水40’固化与辅助界定层30’熔化是在同一个热处理工艺下进行的，因此，形成的覆盖层30覆盖的墨水40’即为固化后的墨水40’。

这里，以上述墨水40’为量子点墨水为例，可以选用常规技术中的量子点墨水，前烘温度(即上述的第一热处理的温度T1)通常为80～120℃，目的在于去除量子点墨水中的溶剂；后烘温度T2’高于前烘温度，通常为160～200℃，目的在于使量子点墨水中的组分在高温下发生交联反应而固化；量子点墨水中的量子点耐受温度T3通常在200～240℃，即高于后烘温度，以避免受到后烘温度的影响。

由于墨水40’固化与辅助界定层30’熔化是同时进行的，第二热处理的温度T2在T2’～T3之间即可，具体温度数值可根据用于制备辅助界定层30’的材料的熔融温度T_f灵活调整，本发明实施例对此不作限定。

用于制成像素界定层20和围挡50的材料的各自耐受温度小于T3即可，即在量子点耐受温度下材料的性质不会发生改变。

进一步的，本发明实施例采用负性光刻胶制备辅助界定层30’，具体如下所述。

形成辅助界定层30’可以包括如下过程：

在形成有像素界定层20的衬底基板10上涂布负性光刻胶；

对负性光刻胶依次进行曝光处理、显影处理，以形成辅助界定层30’。

负性光刻胶具有曝光前能够溶解于显影液，经过紫外线曝光后，转变为不能够溶解于显影液，从而使得未被曝光的部分得以去除的特性。

负性光刻胶的主要组分为：不饱和单体、溶剂、引发剂、少量的添加剂(如流平剂、表面流动控制剂等)，曝光部分的光刻胶合成高分子聚合物，例如为聚甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯类树脂。

该高分子聚合物的特征为热塑性树脂，熔融温度T_f大于T2’且小于T3，熔融状态下粘性小，流平性好，并且在T2’温度以下即可急速固化，工艺效率更高。

本发明实施例再一方面还提供了一种采用上述制备方法形成的显示基板，参考图3(c)所示，该显示基板01包括：设置在衬底基板10上的像素界定层20，该像素界定层20具有多个间隔设置的第一开口部21；设置在第一开口部21内的由固化的墨水41’构成的滤光层40；覆盖滤光层40和像素界定层20的覆盖层30。

上述显示基板01所能实现的有益效果与本发明实施例第一方面所提供的显示基板01的制备方法所能实现的有益效果相同，此处不再赘述。

对显示基板01中各结构的具体说明也请参阅上述说明，此处不再赘述。

示例的，衬底基板10可以为玻璃基板、石英基板或透明树脂基板等。

示例的，用于固化形成滤光层40的墨水41’为量子点墨水。

如图5所示，各个滤光层40可呈阵列排布，分为红色滤光层、绿色滤光层和蓝色滤光层，其中，红色滤光层、绿色滤光层可采用红色量子点墨水、绿色量子点墨水固化而制成；由于可见光波段中，能够同时激发红色量子点、绿色量子点发光的光源通常为蓝光光源，因此，用于固化形成蓝色滤光层的墨水中可以加入反射颗粒(如二氧化钛颗粒)，以提高蓝光光源从蓝色滤光层透过后的发散角度。

为方便说明起见，上述图5中并未示意出覆盖滤光层40和像素界定层20的覆盖层30，仅示意出该显示基板01中的衬底基板10、围挡50、滤光层40、像素分隔墙22、第一开口部21以及像素界定层20结构。

示例的，上述显示基板01为彩膜基板。

进一步的，当上述显示基板01为彩膜基板上，该彩膜基板中还可集成有阵列结构层或OLED发光层。

本发明实施例另一方面还提供了一种显示装置，如图6所示，该显示装置02包括上述任一实施例提供的显示基板01。

为方便说明起见，上述图6中仅以单一层体示意出显示基板01，并未实际绘制出其中的各层具体结构，详细的结构请参阅前述说明。

当该显示基板01中的滤光层40由量子点墨水固化而成时，该显示装置02还包括为显示基板01提供光源的结构，该光源例如可以为LCD、OLED、LED等，发出的光例如可以为蓝光，具体发光原理此处不再赘述。

上述显示装置02均还可以包括驱动电路部分、触控结构、指纹识别结构等部件，具体结构可参见相关技术，本发明实施例对此不再赘述。

在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (14)

1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：在衬底基板上依次形成像素界定层、辅助界定层；所述像素界定层具有多个间隔设置的第一开口部，所述辅助界定层具有与所述第一开口部一一对应的多个间隔设置的第二开口部；

S2：在所述第一开口部内打印墨水，并对所述墨水进行第一热处理，以去除所述墨水中的溶剂；沿所述衬底基板的垂直方向，所述像素界定层与所述辅助界定层的厚度之和，大于所述墨水去除溶剂后聚集在所述第一开口部内的最大厚度；

S3：至少对所述辅助界定层进行第二热处理，以使所述辅助界定层熔化，形成覆盖所述墨水的覆盖层；

S4：对所述覆盖层进行冷却处理，以使所述覆盖层固化。

2.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在步骤S1中，形成的所述像素界定层包括像素分隔墙，所述像素分隔墙围设成多个所述第一开口部；形成的所述辅助界定层包括辅助分隔墙，所述辅助分隔墙围设成多个所述第二开口部；

其中，所述像素分隔墙包括：与所述辅助分隔墙相接触的第一表面、相对于所述第一表面的第二表面；

每个所述第二开口部露出对应的所述第一开口部以及所述第一表面上靠近该第一开口部的区域。

3.根据权利要求2所述的显示基板的制备方法，其特征在于，

所述墨水中的溶剂为水和/或水溶性溶剂；

所述辅助分隔墙与所述第一表面均具有疏水性，所述像素分隔墙朝向所述第一开口部的侧壁具有亲水性。

4.根据权利要求2所述的显示基板的制备方法，其特征在于，

所述墨水中的溶剂为非溶性溶剂；

所述辅助分隔墙与所述第一表面均具有亲水性，所述像素分隔墙朝向所述第一开口部的侧壁具有疏水性。

5.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述像素界定层的厚度大于所述辅助界定层的厚度。

6.根据权利要求1至5任一项所述的显示基板的制备方法，其特征在于，步骤S1还包括：

在所述衬底基板上形成包围所述像素界定层和所述辅助界定层的围挡。

7.根据权利要求6所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述围挡的部分覆盖在所述像素界定层上；

其中，沿所述衬底基板的垂直方向，所述围挡的高度与所述辅助界定层的厚度相等。

8.根据权利要求1至5任一项所述的显示基板的制备方法，其特征在于，制成所述像素界定层的材料包括：黑矩阵材料。

9.根据权利要求1至5任一项所述的显示基板的制备方法，其特征在于，制成所述辅助界定层的材料包括：热塑性聚合物和/或热固性聚合物。

10.根据权利要求1至5任一项所述的显示基板的制备方法，其特征在于，步骤S3包括：

对去除溶剂后的所述墨水与所述辅助界定层同时进行第二热处理，以使去除溶剂后的所述墨水固化、所述辅助界定层熔化，形成覆盖所述墨水的覆盖层。

11.根据权利要求10所述的显示基板的制备方法，其特征在于，形成所述辅助界定层包括：

在形成有所述像素界定层的所述衬底基板上涂布负性光刻胶；

对所述负性光刻胶依次进行曝光处理、显影处理，以形成所述辅助界定层。

12.一种显示基板，其特征在于，包括：

设置在衬底基板上的像素界定层，所述像素界定层具有多个间隔设置的第一开口部；

设置在所述第一开口部内的由固化的墨水构成的滤光层；

覆盖所述滤光层和所述像素界定层的覆盖层。

13.根据权利要求12所述的显示基板，其特征在于，所述墨水为量子点墨水。

14.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求12或13所述的显示基板。