CN109817676A - 显示面板及触控显示器 - Google Patents

Abstract

本申请提供一种显示面板及触控显示器，通过在显示面板中设置黑色像素限定层以吸收射入至显示面板中的入射光，使得显示面板和触控显示器在强环境光下显示时具有良好的对比度的同时，显示面板和触控显示器的出光率不会降低。

Description

显示面板及触控显示器

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及触控显示器。

背景技术

目前，有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,OLED)显示器作为用于显示图像的显示设备已备受关注。与液晶显示器(Liquide Crystal Display,LCD)不同，OLED显示器具有自发光特性、低功耗、高亮度、高响应速度等高质量特性的同时，还具有更容易实现可折叠的特性。

如图1所示，传统OLED显示器包括依次设置的基板10、发光器件11、封装层12以及偏光片13(Polarizer)，偏光片13能有效地降低强环境光入射至OLED显示器后的出光率以提高OLED显示器的对比度，却导致OLED损失接近58％的出光率。对于OLED而言，一方面，偏光片的使用使OLED的出光率低极大地增加OLED的寿命负担；另一方面，偏光片厚度较大、材质脆，不利于动态弯折产品的开发。

因此，有必要提出一种技术方案以解决偏光片用于提高OLED显示器的对比度时存在的问题。

发明内容

本申请的目的在于提供一种显示面板及触控显示器，该显示面板及触控显示器在强环境光下显示时具有良好的对比度的同时，显示面板和触控显示器的出光率不会降低。

为实现上述目的，技术方案如下。

一种显示面板，所述显示面板包括：

一阵列基板；

一平坦化层，所述平坦化层设置于所述阵列基板上；

一第一电极，所述第一电极设置于所述平坦化层上且通过所述平坦化层上的过孔与所述阵列基板接触；

一黑色像素定义层，所述黑色像素定义层设置于所述平坦化层上，所述黑色像素定义层用于定义所述显示面板的发光区并吸收射入所述显示面板中的入射光；

一有机发光层，所述有机发光层设置于所述第一电极上且位于所述显示面板的发光区；

一第二电极，所述第二电极设置于所述有机发光层上且位于所述显示面板的发光区；

其中，所述第一电极、所述有机发光层及所述第二电极构成发光器件。

在上述显示面板中，所述显示面板还包括滤光层，所述滤光层包括彩色膜层和黑色矩阵，所述彩色膜层包括多个滤光单元，相邻两个所述滤光单元之间设置有所述黑色矩阵。

在上述显示面板中，所述显示面板还包括封装层，所述封装层位于所述滤光层和所述黑色像素定义层之间，所述封装层用于封装所述发光器件。

在上述显示面板中，所述滤光层设置于所述阵列基板远离所述发光器件的一侧。

在上述显示面板中，所述黑色矩阵的厚度为2微米-5微米。

在上述显示面板中，所述彩色膜层的厚度为2微米-5微米。

在上述显示面板中，所述黑色像素定义层的制备材料包括有机材料和黑色填料。

在上述显示面板中，所述黑色填料包括黑色颜料。

在上述显示面板中，所述黑色像素定义层的厚度为1.0微米-2.0微米。

一种触控显示器，所述触控显示器包括上述显示面板及触控阵列器件，所述触控阵列器件设置于所述显示面板的表面，或，所述触控阵列器件设置于所述显示面板的内部。

有益效果：本申请提供一种显示面板及触控显示器，通过在显示面板中设置黑色像素限定层以吸收射入至显示面板中的入射光，使得显示面板和触控显示器在强环境光下显示时具有良好的对比度的同时，显示面板和触控显示器的出光率不会降低。

附图说明

图1为传统OLED的结构示意图；

图2为本申请第一实施例显示面板的结构示意图；

图3为本申请第二实施例显示面板的结构示意图。

附图标注：

10基板；20，30显示面板；11、23、33发光器件；12、26封装层；13偏光片；21、31阵列基板；22平坦化层；231、331第一电极；24黑色像素定义层；232、332有机发光层；233、333第二电极；衬底210；缓冲层211；沟道层212；第一栅极绝缘层213；第一栅极214；第二栅极绝缘层215；第二栅极216；第一层间绝缘层217；第二层间绝缘层218；源电极2191；漏电极2192；251、351黑色矩阵；252、352彩色膜层

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

请参阅图2，其为本申请第一实施例显示面板20的结构示意图，该显示面板20包括阵列基板21、平坦化层22、第一电极231、黑色像素定义层24、有机发光层232、第二电极233，第一电极231、有机发光层232及第二电极233构成发光器件23，

平坦化层22设置于阵列基板21上；

第一电极231设置于平坦化层22上且通过平坦化层22上的过孔与阵列基板21接触；

黑色像素定义层24设置于平坦化层22上，黑色像素定义层24用于定义显示面板20的发光区并吸收射入显示面板20中的入射光；

有机发光层232设置于第一电极231上且位于显示面板20的发光区；

第二电极233设置于有机发光层232上且位于显示面板20的发光区。

上述方案通过在显示面板中设置黑色像素定义层以吸收射入至显示面板中的入射光，使得显示面板在强环境光下显示时具有良好的对比度的同时，显示面板的出光率不会降低。

在本实施例中，阵列基板21为薄膜晶体管阵列基板，其包括一衬底210、于衬底210上设置的缓冲层211、于缓冲层211上设置的沟道层212、于沟道层212和缓冲层211上形成的第一栅极绝缘层213、于第一栅极绝缘层213上形成的第一栅极214、于第一栅极214和第一栅极绝缘层213上形成的第二栅极绝缘层215、于第二栅极绝缘层215上形的第二栅极216、于第二栅极216和第二栅极绝缘层215上形成的第一层间绝缘层217、于第一层间绝缘层217上形成的第二层间绝缘层218、以及于第二层间绝缘层218上形成且依次贯穿第二层间绝缘层218、第一层间绝缘层217、第二栅极绝缘层215以及第一栅极绝缘层213以与沟道层212连接的源电极2191和漏电极2192。衬底210可以为柔性基板、玻璃基板或可挠性基板，其中，柔性基板的制备材料包括但不限于聚酰亚胺(Polyamide,PI)以及聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene Terephthalate，PET)；缓冲层211用于保温，其厚度为2500埃-3500埃，其为氮化硅层、氧化硅层或者氮化硅和氧化硅的交叠层中的任意一种；沟道层212用于传导载流子，其制备材料可以为多晶硅、单晶硅或氧化物半导体；第一栅极绝缘层213的厚度为1000埃-1500埃，第一栅极绝缘213为氮化硅层、氧化硅层或者氮化硅和氧化硅的交叠层中的任意一种；第一栅极214的厚度为1500埃-3000埃，其制备材料包括钼、铝、钛、铬以及铜中的至少一种；第二栅极绝缘层215用于增大第一栅极214和第二栅极216之间的电容以改善薄膜晶体管的电性，其厚度为1000埃-1500埃，其为氮化硅层、氧化硅层或者氮化硅和氧化硅的交叠层中的一种；第二栅极216用于与第一栅极214形成电容，其厚度为1500埃-3000埃，其制备材料包括钼、铝、钛、铬以及铜中的至少一种；第一层间绝缘层217和第二层间绝缘层218用于使源电极2191和漏电极2192与其他导电层之间绝缘。

在本实施例中，平坦化层(Planarizationlayer,PLN)22用于平整阵列基板21的表面平整，平坦化层22的制备材料为有机材料，通过旋转涂布(Spin Coating)或蒸镀(Evaporation)的方式形成于阵列基板21上，其厚度为20000埃-35000埃。

在本实施例中，发光器件23包括第一电极231、有机发光层232以及第二电极233。其中，第一电极231为阳极，第一电极231通过平坦化层22上的过孔与阵列基板21的漏电极2192电连接，第一电极231的制备方法包括但不限于等离子体化学气相沉积(PlasmaChemical Vapor Deposition，PCVD)、化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)以及溅射沉积；第二电极233为阴极，其制备方法包括但不限于等离子体化学气相沉积(Plasma Chemical Vapor Deposition，PCVD)、化学气相沉积(Chemical VaporDeposition，CVD)以及溅射沉积；有机发光层232是通过蒸镀或喷墨打印的方式形成于第一电极231上且位于显示面板20的发光区，有机发光层232包括红色有机发光单元、绿色有机发光单元以及蓝色有机发光单元。第一电极231注入有机发光层232中的空穴和第二电极233注入有机发光层232中的电子在有机发光层232中复合后激发有机层中的有机分子产生不同颜色的光，红色有机发光单元受激发后产生红色光，绿色有机发光单元受激发后产生绿色光，蓝色有机发光单元受激发后产生蓝色光。

在本实施例中，一方面通过在黑色像素定义层(Piexl Define Layer,PDL)24上设置开口以定义显示面板的发光区，另一方面利用黑色像素定义层24具有吸光性从而能够吸收射入至显示面板20内的环境光，避免环境光经反射后射出而影响显示面板显示时的对比度。黑色像素定义层24的制备材料包括有机材料和黑色填料，有机材料包括但不限于聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯以及酚醛树脂，黑色填料包括但不限于黑色颜料，例如炭黑。黑色像素定义层的制备黑色像素定义层的厚度为1.0微米-2.0微米。

进一步地，显示面板20还包括滤光层，滤光层用于减少环境光在显示面板20表面的反射光且透过发光器件23产生的光。滤光层包括黑色矩阵251(Black Matrix)和彩色膜层(Color Filter)252，彩色膜层252包括多个滤光单元，相邻两个滤光单元之间设置有黑色矩阵251。滤光单元包括红色滤光单元2521、绿色滤光单元2522以及蓝色滤光单元2523，红色滤光单元2521位于红色有机发光单元的上方，绿色滤光单元2522位于绿色有机发光单元的上方，蓝色滤光单元2523位于蓝色有机发光单元的上方，而黑色矩阵251位于显示面板的非发光区，黑色矩阵251可以吸收入射至显示面板表面的环境光，而红色滤光单元2521可以使红色有机发光单元发出的红光透过而吸收其他颜色的光，绿色滤光单元2522可以使绿色有机发光单元发出的绿光透过而吸收其他颜色的光，蓝色滤光单元可以是蓝色有机发光单元发出的蓝光透过而吸收其他颜色的光。彩色膜层252的制备材料包括有机材料和无机颜料，黑色矩阵251的制备材料包括但不限于黑色金属(例如铬)、有机材料与黑色颜料的混合物；彩色膜层252的厚度为2-5微米，例如2.5微米，4微米；黑色矩阵251的厚度为2-5微米，例如2.5微米，4微米。

进一步地，显示面板还包括封装层26，封装层26位于滤光层和黑色像素定义层24之间，封装层26用于封装发光器件23以避免发光器件23中的活泼金属电极以及有机发光层与空气中的水、氧气接触而缩短显示面板20的使用寿命。封装层26为无机层、有机层或者无机层与有机层的交叠层，无机层的制备材料包括但不限于氮化硅、氧化硅或者氮氧化硅，有机层的制备材料包括但不限于聚丙烯酸酯。

请参阅图3，其为本申请第二实施例的显示面板30，其与第一实施例的显示面板20基本相似，不同之处在于，滤光层设置于阵列基板31远离发光器件33的一侧，即第一实施例的显示面板为顶发射型显示面板，而第二实施例的显示面板为底发射型显示面板，发光器件33包括第一电极331、有机发光层332以及第二电极333；滤光层包括黑色矩阵351以及彩色膜层352，彩色膜层352包括红色滤光单元3521、绿色滤光单元3522以及蓝色滤光单元3523。

本申请的显示面板通过设置黑色像素限定层以吸收射入至显示面板的环境光从而避免射入至显示面板中的环境光经反射后射出显示面板而影响显示面板显示时的对比度，再通过在显示面板的非发光区设置黑色矩阵以吸收射入至显示面板表面的环境光从而减小显示面板对环境光的反射，同时于显示面板的发光区设置彩色膜层以透过发光器件产生的光，故本申请的显示面板在强光照射时具有良好的对比度的同时，显示面板的出光率不会降低。

本申请还提供一种触控显示面板，触控显示面板包括上述显示面板以及触控阵列器件，触控阵列器件设置于显示面板的表面，或，触控阵列器件设置于显示面板的内部。

本申请的触控显示面板通过在显示面板中设置黑色像素限定层以吸收射入至显示面板的环境光从而避免射入至显示面板中的环境光经反射后射出显示面板而影响显示面板显示时的对比度，再通过在显示面板的非发光区设置黑色矩阵以吸收射入至显示面板表面的环境光从而减小显示面板对环境光的反射，同时于显示面板的发光区设置彩色膜层以透过发光器件产生的光，故本申请的显示面板在强光照射时具有良好的对比度的同时，显示面板的出光率不会降低。此外，相对于偏光片，黑色像素限定层具有柔性，能够适用于开发动态弯折产品。

以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：

一阵列基板；

一平坦化层，所述平坦化层设置于所述阵列基板上；

一第一电极，所述第一电极设置于所述平坦化层上且通过所述平坦化层上的过孔与所述阵列基板接触；

一黑色像素定义层，所述黑色像素定义层设置于所述平坦化层上，所述黑色像素定义层用于定义所述显示面板的发光区并吸收射入所述显示面板中的入射光；

一有机发光层，所述有机发光层设置于所述第一电极上且位于所述显示面板的发光区；

一第二电极，所述第二电极设置于所述有机发光层上且位于所述显示面板的发光区；

其中，所述第一电极、所述有机发光层及所述第二电极构成发光器件。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括滤光层，所述滤光层包括彩色膜层和黑色矩阵，所述彩色膜层包括多个滤光单元，相邻两个所述滤光单元之间设置有所述黑色矩阵。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括封装层，所述封装层位于所述滤光层和所述黑色像素定义层之间，所述封装层用于封装所述发光器件。

4.根据权利要求2所示的显示面板，其特征在于，所述滤光层设置于所述阵列基板远离所述发光器件的一侧。

5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述黑色矩阵的厚度为2微米-5微米。

6.根据权利要求2所示的显示面板，其特征在于，所述彩色膜层的厚度为2微米-5微米。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述黑色像素定义层的制备材料包括有机材料和黑色填料。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述黑色填料包括黑色颜料。

9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述黑色像素定义层的厚度为1.0微米-2.0微米。

10.一种触控显示器，其特征在于，所述触控显示器包括权利要求1-9任一项所述的显示面板及触控阵列器件，所述触控阵列器件设置于所述显示面板的表面，或，所述触控阵列器件设置于所述显示面板的内部。