CN109796892A - 一种纹路清晰的有机硅胶膜及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种纹路清晰的有机硅胶膜，包括有机硅胶膜，所述有机硅胶膜上表面设有热熔涂胶层，有机硅胶膜的下表面设置有光学纹理层，其制备方法，包括：步骤一、在基材薄膜上涂布UV胶；步骤二、在UV胶上压印纹路，制得表面具有光学视觉纹理的母模；步骤三、在母模具有光学视觉纹理的表面进行真空电镀，形成电镀基膜；步骤四、将液体硅胶涂布在电镀基膜，待液体硅胶固化后将其从母模上剥离，制得表面带有PET光学UV纹理的有机硅胶膜。在紫外光照射的环境中通过带有纹路压辊的压印机在UV胶层上压印出纹路，将液体硅胶涂布在UV胶层上拓印纹路，液体硅胶固化后剥离即可得到带有纹路的有机硅层。
Description
技术领域
本发明涉及有机硅皮革领域，尤指一种纹路清晰的有机硅胶膜及其制备方法。
背景技术
有机硅皮革作为一种新型的合成革，具有优异的耐候性，如超强耐水解、耐光照、耐盐雾，耐溶剂等、生产过程中无VOC释放，不会污染环境、具有非常好的防污性，很容易清理、优异的阻燃性以及良好的触感等，因此得到越来越广泛的应用，市面上带有纹路的有机硅皮革大都是通过在离型纸或PET膜上刻印出纹路，将液体硅胶涂布在离型纸或PET膜上拓印纹路，但由于在离型纸和PET膜上刻印的纹路很浅，拓印到有机硅层之后纹路就更加浅显，另外采用传统的离型纸很难重复使用及易于折伤离型纸，或剥离后导致纹路精度不清晰。硅胶直接涂布难以剥离。
发明内容
为解决上述问题，本发明提供一种纹路清晰的有机硅胶膜及其制备方法。
为实现上述目的，本发明采用如下的技术方案是：
一种纹路清晰的有机硅胶膜，其特征在于：包括有机硅胶膜层，有机硅胶膜的表面设置有光学纹理层。
优选地，所述有机硅胶膜远离光学纹理层的另一表表面设置有热熔涂胶层。
一种纹路清晰的有机硅胶膜的制备方法，包括如下步骤：
步骤一、准备表面带有光学视觉纹理的基材薄膜；
步骤二、使带有光学视觉纹理的基材薄膜表面具有易剥离功能，从而获得母模，易剥离功能使涂布硅胶在母模后易于剥离母模；
步骤三、将液体硅胶涂布在母模上，液体硅胶固化后将其从母模上剥离，制得表面带有光学纹理的有机硅胶膜。
优选地，步骤二中，带有光学视觉纹理的基材薄膜表面通过真空电镀，形成具有易剥离功能的电镀基膜。进行真空电镀的真空压力为0.001Pa，电镀基膜为镀铬基膜或镀铜基膜或镀镍基膜或镀铝基膜，镀镍基膜不易氧化，可重复使用数月，使用寿命最长，电镀基膜的光泽度为0-60，光泽度越小，硅胶剥离后的其表面纹路更细腻完整。
优选地，步骤二中，通过UV胶涂布在纳米级纹理的基材薄膜表面，使UV胶完整渗入基材表面纹路后，形成相对应的纹路，照射UV光使UV胶熟成硬化，基材表面的纹路即被完整的复制于UV胶，通过在UV胶中加滑剂助剂使基材薄膜表面形成具有易剥离功能的UV胶层。涂布UV胶时温度为40℃～80℃。
优选地，所述基材薄膜表面具有纳米级纹理，所述基材为塑胶薄膜或金属薄膜，所述塑胶薄膜为PC或PET，该塑胶薄膜的厚度为0.1mm～0.2mm。
优选地，所述涂布方式为刮涂、旋涂、刷涂、喷涂或辊涂中的任意一种。
优选地，还包括步骤四，在有机硅胶膜具有带有PET光学UV纹理的硅胶膜之另一表面涂热熔涂胶作为与其他制程用途。
本发明的有益效果在于：传统UV固化后需要离型剂才可与转印材料进行剥离，本发明通过利用UV胶涂布在具纳米级纹理的基材表面这UV胶固化后是带有可以剥离功能，使UV胶完整渗入基材表面纹路后形成相对应的纹路，照射UV光使UV胶熟成硬化，基材表面的纹路即被完整的复制于UV胶，形成表面具有光学视觉纹理的母模，再将母模做压印纹理到硅胶表面，滑顺剥离硅胶，使硅胶表面形成具有纳米级光学视觉纹理，对母模光学视觉纹理的表面进行真空电镀，降低硅胶与母模的剥离力，将液体硅胶涂布电镀基膜表面，液体硅胶固化后更容易剥离母模，使硅胶表面完全转印母模表面的纳米级光学视觉纹理，与传统通过离型剂或者直接剥离，本发明硅胶表面转印的纹理细腻清晰，由于UV胶层上的纹路是边固化边刻印，因此其纹路很深，且UV胶层可刻印各种各样的纹路，另外由于UV胶层在紫外光照射的环境下固化成型，成型速度快，提高了生产效率。
附图说明
图1为本发明的结构图；
图2为本发明实施例一的有机硅胶膜层转印基材薄膜上UV胶纹理示意图。
图3为本发明实施例二的有机硅胶膜层转印基材薄膜上UV胶纹理示意图。
标注说明：1.有机硅胶膜；2.热熔涂胶层；3.光学纹理层；4.基材薄膜；5.UV胶层；6.电镀基膜。
具体实施方式
本发明关于一种纹路清晰的有机硅胶膜，包括有机硅胶膜1，所述有机硅胶膜的上表面设置有热熔涂胶层2，有机硅胶膜的下表面设置有光学纹理层3。
一种纹路清晰的有机硅胶膜制备方法，包括如下步骤：
步骤一、准备表面带有光学视觉纹理的基材薄膜4；
步骤二、使带有光学视觉纹理的基材薄膜表面具有易剥离功能，从而获得母模，易剥离功能使涂布硅胶在母模后易于剥离母模；
步骤三、将液体硅胶涂布在母模上，液体硅胶固化后将其从母模上剥离，制得表面带有光学纹理的有机硅胶膜1。
优选地，步骤二中，带有光学视觉纹理的基材薄膜表面通过真空电镀，形成具有易剥离功能的电镀基膜6。进行真空电镀的真空压力为0.001Pa，电镀基膜为镀铬基膜或镀铜基膜或镀镍基膜或镀铝基膜，镀镍基膜不易氧化，可重复使用数月，使用寿命最长，电镀基膜的光泽度为0-60，光泽度越小，硅胶剥离后的其表面纹路更细腻完整。
优选地，步骤二中，通过UV胶涂布在纳米级纹理的基材薄膜表面，使UV胶完整渗入基材表面纹路后，形成相对应的纹路，照射UV光使UV胶熟成硬化，基材表面的纹路即被完整的复制于UV胶，通过在UV胶中加滑剂助剂使基材薄膜表面形成具有易剥离功能的UV胶层5。涂布UV胶时温度为40℃～80℃。
优选地，在步骤一和步骤四中所述涂布方式为刮涂、旋涂、刷涂、喷涂或辊涂中的任意一种。
优选地，所述的UV胶由以下步骤制备：将重量份数计的5～9％光引发剂、35～62％单体、25～55％寡聚合体、2～4％助剂、BD-3367有机硅滑剂。
混合搅拌，所述UV胶在紫外光的照射下逐渐固化成型，UV胶的光引发剂(或光敏剂)在紫外线的照射下吸收紫外光后产生活性自由基或阳离子，引发单体聚合、交联化学反应，使粘合剂由液态转化为固态。
光引发剂(photoinitiator)又称光敏剂(photosensitizer)或光固化剂(photocuring agent)，是一类能在紫外光区(250-420nm)或可见光区(400-800nm)吸收一定波长的能量，产生自由基、阳离子等，从而引发单体聚合交联固化的化合物，光引发剂负责接受到UV光照射后,启发连锁整个UV胶水光固化反应进行；目前用UV中长波,常用的有184光引发剂或1173光引发剂或819光引发剂等各种编号之型号产品；
单体又称为活性稀释剂,是一种含有可聚合不饱和官能基的小分子有机物,分子量通常在100-500之间,主要作用为稀释调整粘度及反应速度,光固化时会参与聚合反应,这是与一般的溶剂最大之差异处；依照可反应之官能基数目不同,常用的主要有IBOA单体或HDDA单体或TEGDA单体或DPGDA单体等；
寡聚合体主要功能是整个光反应后的各项性能如硬度/耐刮/耐磨等等；粘度较高,必须由单体来调整粘度；依照可反应之官能基数目不同,常用的是由2-6官能基之间,主要有丙烯酸酯,环氧丙烯酸酯,聚氨醋丙烯酸酯等等；
助剂，依据各項物理特性要求选择稳定剂或流平剂或消泡剂或滑剂或或其组合,如光滑性、附着性、抗靜电等,助剂占比极低。
BD-3367有机硅滑剂，其化学成分为端羟基聚醚改性聚二甲基硅氧烷，外观密度20℃,表面张力25℃mN/m。
优选地，所述基材薄膜4为塑胶薄膜或金属薄膜，所述塑胶薄膜为PC或PET，该塑胶薄膜的厚度为0.1mm～0.2mm。
优选地，还包括步骤四，在有机硅胶膜1具有带有PET光学UV纹理的另一表面涂热熔涂胶。
在有机硅胶膜表面粘接皮革，制成有机硅皮革，所述皮革通过粘接剂与有有机硅胶膜粘接，在皮革的表面涂布一层硅胶作为粘接层，皮革通过粘接层与有有机硅胶膜粘合，所述皮革的材料为超纤布、棉或人造革。
实施例一，1)选取厚度为0.1mm的PET基材，对带有纳米级光学纹理的PET基材表面进行真空电镀，制得母模，真空电镀时的真空压力为0.001Pa，使有有机硅胶膜与电镀基膜之间的剥离力小于25g，进行真空电镀的真空压力为0.001Pa，电镀基膜为镀铬基膜或镀铜基膜或镀镍基膜或镀铝基膜，镀镍基膜不易氧化，可重复使用数月，镀铜基膜可增加纹理亮度，使转印在硅胶表面的纹理更加炫目，电镀基膜的光泽度为0-60，光泽度越小，硅胶剥离后的其表面纹路更细腻完整，光泽度为60时，硅胶剥离后表面纹理不完整，硅胶略有残留在PET基材表面，光泽度接近为0时，硅胶剥离后的其表面纹路细腻完整。将液体硅胶涂布在电镀基膜，待液体硅胶固化后将其从母模上剥离，制得带有花纹的有机硅胶膜，经本发明处理工艺加工的有机硅胶膜表面具有纳米级PET光学UV纹理，纹理清晰。
实施例二，1)选取厚度为0.1mm的PET基材，对PET基材表面涂布UV胶5，涂布UV面漆时温度为40℃，利用UV胶涂5布在具纹路的基材薄膜4表面，使UV胶完整渗入基材薄膜4纹路后形成相对应的纹路，照射UV光使UV胶熟成硬化，基材表面的纹路即被完整的复制于UV胶，制得表面具有光学视觉纹理的母模，涂布的UV面漆厚度并不作限定，根据不同客户的不同需求而设定。待液体硅胶固化后将其从母模上剥离，制得带有花纹的有机硅胶膜，经本发明处理工艺加工的有机硅胶膜表面具有纳米级PET光学UV纹理，纹理清晰。
实施例三，1)选取厚度为0.2mm的PET基材，对PET基材表面涂布UV胶，涂布UV面漆时温度为80℃，利用电铸模具对UV胶表面进行压纹，使UV胶表面形成立体感较强的纹路，经低温光照固化后，制得表面具有光学视觉纹理的母模。涂布的UV面漆厚度并不作限定，根据不同客户的不同需求而设定。将液体硅胶涂布在电镀基膜，待液体硅胶固化后将其从母模上剥离，制得带有花纹的有机硅胶膜，经本发明处理工艺加工的有机硅胶膜表面具有纳米级PET光学UV纹理，转印效果好且降低转印不良率，纹理清晰。
以上实施方式仅仅是对本发明的优选实施方式进行描述，并非对本发明的范围进行限定，在不脱离本发明设计精神的前提下，本领域普通工程技术人员对本发明的技术方案作出的各种变形和改进，均应落入本发明的权利要求书确定的保护范围内。
Claims (8)
1.一种纹路清晰的有机硅胶膜，其特征在于：包括有机硅胶膜，有机硅胶膜的表面设置有光学纹理层。
2.根据权利要求1所述的一种纹路清晰的有机硅胶膜的制备方法，其特征在于：所述有机硅胶膜远离光学纹理层的另一表表面设置有热熔涂胶层。
3.一种纹路清晰的有机硅胶膜的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：
步骤一、准备表面带有光学视觉纹理的基材薄膜；
步骤二、使带有光学视觉纹理的基材薄膜表面具有易剥离功能，从而获得母模，易剥离功能使涂布硅胶在母模后易于剥离母模；
步骤三、将液体硅胶涂布在母模上，液体硅胶固化后将其从母模上剥离，制得表面带有光学纹理的有机硅胶膜。
4.根据权利要求3所述的一种纹路清晰的有机硅胶膜的制备方法，其特征在于：步骤二中，带有光学视觉纹理的基材薄膜表面通过真空电镀形成具有易剥离功能的电镀基膜。
5.根据权利要求3所述的一种纹路清晰的有机硅胶膜的制备方法，其特征在于：步骤二中，通过UV胶涂布在带有光学视觉纹理的基材薄膜，使UV胶完整渗入基材表面纹路后，形成相对应的纹路，照射UV光使UV胶熟成硬化，基材表面的纹路即被完整的复制于UV胶，形成具有易剥离功能的UV离型胶层。
6.根据权利要求3所述的一种纹路清晰的有机硅胶膜的制备方法，其特征在于：所述基材薄膜表面具有纳米级光学纹理，所述基材为塑胶薄膜或金属薄膜，所述塑胶薄膜为PC或PET，该塑胶薄膜的厚度为0.1mm～0.2mm。
7.根据权利要求5所述的一种纹路清晰的有机硅胶膜的制备方法，其特征在于：所述涂布方式为刮涂、旋涂、刷涂、喷涂或辊涂中的任意一种。
8.根据权利要求3所述的一种纹路清晰的有机硅胶膜的制备方法，其特征在于：还包括步骤四，在表面带有光学纹理的有机硅胶膜另一表面涂热熔涂胶。
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