CN109751861A - 一种二氧化硅烘干除杂系统 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种二氧化硅烘干除杂系统，涉及二氧化硅制造技术领域，基于二氧化硅生产过程中易残留铁屑等杂质，影响产品质量的问题而提出的，本发明包括机架、烘干装置、除杂装置；所述除杂装置包括第一除杂装置和第二除杂装置；所述烘干装置位于机架上，所述烘干装置包括烘干箱体，所述烘干箱体的顶部设有进料口，所述烘干箱体上设有出料口，二氧化硅从所述出料口落入所述第一除杂装置上。本发明的有益效果在于：二氧化硅物料经过干燥和二次除杂，去除二氧化硅生产过程中易残留的铁屑和其他大颗粒杂质，干燥、除杂一次性完成，无需将二氧化硅重新运输至其他设备或装置，可以提高工作效率，同时干燥效率较高，除杂效果较好。
Description
技术领域
本发明涉及二氧化硅制造技术领域，具体涉及一种二氧化硅烘干除杂系统。
背景技术
二氧化硅是一种白色、五毒、无定型微状粉状物，其质轻、化学稳定性好、耐高温，二氧化硅用途广泛，主要用于制玻璃、水玻璃、陶器、搪瓷、耐火材料、气凝胶毡、硅铁、型砂、单质硅、水泥等。
二氧化硅在制备过程中需要对其进行干燥，且二氧化硅在制备过程中易混入铁屑和其他杂质，使产品质量下降，在对二氧化硅进行干燥后需要将其重新运输至其他设备中进行处理，影响工作效率。
发明内容
本发明所要解决的问题在于二氧化硅生产过程中易残留铁屑等杂质，影响产品质量。
本发明是采用以下技术方案解决上述技术问题的：
本发明提供一种二氧化硅烘干除杂系统，按照工艺流程由前至后的顺序依次包括机架、烘干装置、除杂装置；
所述烘干装置包括烘干箱体，所述烘干箱体的顶部设有进料口，所述烘干箱体上设有出料口；
所述除杂装置包括第一除杂装置和第二除杂装置；所述第二除杂装置位于第一除杂装置下方，用以对经所述第一除杂装置除杂后的二氧化硅物料进行过滤除杂；
所述第一除杂装置包括主动辊、从动辊和驱动装置，从动辊和主动辊之间通过传送带传动连接，所述驱动装置驱动所述主动辊转动；所述从动辊具有磁性。
工作原理：二氧化硅从烘干箱体的进料口进入，通过烘干装置加热对二氧化硅进行烘干后，从烘干箱体上的出料口落入第一除杂装置上，通过从动辊去除磁性杂质后，二氧化硅落入第二除杂装置中，通过过滤去除其他大颗粒杂质。
有益效果：二氧化硅物料经过干燥和二次除杂，去除二氧化硅生产过程中易残留的铁屑和其他大颗粒杂质，干燥、除杂一次性完成，无需将二氧化硅重新运输至其他设备或装置，可以提高工作效率，同时干燥效率较高，除杂效果较好。
优选的，所述烘干箱体的底部设有夹层，所述夹层内设有加热装置。
优选的，还包括机架，所述烘干装置位于机架上，所述烘干箱体的出料口位于烘干箱体的侧壁，所述出料口内设有导料槽，所述二氧化硅沿导料槽落入所述传送带上。
优选的，所述导料槽呈喇叭状，所述导料槽上设有若干导料挡板，所述导料挡板与二氧化硅下落方向平行。
优选的，所述出料口相对方向设有伸缩装置和推板，所述伸缩装置位于烘干箱体侧壁，所述伸缩装置与推板连接，所述伸缩装置带动所述推板将二氧化硅推入出料口。
工作原理：通过烘干箱体底部的加热装置对二氧化硅进行加热烘干，通过伸缩装置带动推板来回伸缩移动，将烘干后的二氧化硅推入出料口，二氧化硅沿导料挡板从导料槽输送至传送带上。
有益效果：导料槽内设置的导料挡板可以使二氧化硅均匀散落在传送带上，伸缩装置和推板方便将干燥后的二氧化硅从烘干箱体输送至传送带上。
优选的，所述从动辊的下方设有杂物收集槽，所述杂物收集槽上连接有第一导料板，所述杂物从从动辊上落到第一导料板上，从而落入杂物收集槽内。
优选的，所述第二除杂装置包括滤网框、若干支撑弹簧、物料收集槽，所述支撑弹簧的一端固定在滤网框底部，所述支撑弹簧的另一端固定在物料收集槽内底面。
优选的，所述滤网框呈倾斜状，所述物料收集槽的底面呈倾斜状，所述物料收集槽的底面较低的一侧为出料端。
优选的，所述物料收集槽底端设有支架，所述支架的一端与物料收集槽的底面连接，另一端与机架连接，所述物料收集槽的一端固定在机架侧面。
优选的，所述第一导料板背离杂物收集槽的一侧连接有第二导料板，所述二氧化硅从传送带上落到第二导料板上，从而落入滤网框内。
工作原理：二氧化硅经传送带传送至从动辊，磁性杂质被从动辊吸附后，继续沿从动辊传送，当传送至远离从动辊时，磁性杂质经过第一导料板落入杂物收集槽内；二氧化硅物料沿传送带，通过第二导料板落入滤网框内，从而落入物料收集槽内，二氧化硅物料最终通过倾斜的物料收集槽，从出料端被收集。
工作效果：滤网框下方设有支撑弹簧，通过支撑弹簧的弹性作用，滤网框具有振动效果，可以提高过滤效果和过滤速率，第二导料板使物料更准确的落入滤网框内，物料收集槽的底面呈倾斜状，使物料更易集中收集处理。
本发明的有益效果在于：二氧化硅物料经过干燥和二次除杂，去除二氧化硅生产过程中易残留的铁屑和其他大颗粒杂质，干燥、除杂一次性完成，无需将二氧化硅重新运输至其他设备或装置，可以提高工作效率，同时干燥效率较高，除杂效果较好。
导料槽内设置的导料挡板可以使二氧化硅均匀散落在传送带上，伸缩装置和推板方便将干燥后的二氧化硅从烘干箱体输送至传送带上。
滤网框下方设有支撑弹簧，通过支撑弹簧的弹性作用，滤网框具有振动效果，可以提高过滤效果和过滤速率，第二导料板使物料更准确的落入滤网框内，物料收集槽的底面呈倾斜状，使物料更易集中收集处理。
附图说明
图1为本发明实施例1中二氧化硅烘干除杂系统的结构示意图；
图2为本发明实施例2中二氧化硅烘干除杂系统的结构示意图；
图3为本发明实施例2中导料槽的结构示意图；
图4为本发明实施例3中二氧化硅烘干除杂系统的结构示意图；
图中：1-机架；21-烘干箱体；22-进料口；23-出料口；24-夹层；25-加热装置；26-导料槽；27-导料挡板；28-伸缩装置；29-推板；311-主动辊；312-从动辊；313-电机；314-传送带；315-杂物收集槽；316-第一导料板；317-第二导料板；321-滤网框；322-支撑弹簧；323-物料收集槽；324-支架。
具体实施方式
以下将结合说明书附图和实施例对本发明做进一步详细说明。
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。
需要说明的是，在本文中，如若存在第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
实施例1
如图1所示，二氧化硅烘干除杂系统，包括机架1、烘干装置、除杂装置；
除杂装置包括第一除杂装置和第二除杂装置；
烘干装置位于机架1上，烘干装置包括烘干箱体21，烘干箱体21的顶部设有进料口22，烘干箱体22上设有出料口23，二氧化硅从出料口23落在第一除杂装置31上；烘干箱体21的底部设有夹层24，夹层24内设有加热装置25，本实施例中加热装置25为电阻丝。
第一除杂装置31包括主动辊311、从动辊312和电机313，从动辊311和主动辊312之间通过传送带314传动连接，通过电机313驱动连接主动辊311，使主动辊311转动，从而带动传送带314和从动辊312转动；其中从动辊312具有磁性；
第二除杂装置位于第一除杂装置下方，二氧化硅经过第一除杂装置后落入第二除杂装置中，第二除杂装置为过滤除杂装置。
第二除杂装置包括滤网框321、若干支撑弹簧322、物料收集槽323；支撑弹簧322的一端固定在滤网框321底部，支撑弹簧322的另一端固定在物料收集槽323的内底面；支撑弹簧322的具体位置和个数可根据实际需要设置。
本实施例的工作原理：二氧化硅从烘干箱体21的进料口22进入，通过烘干装置加热对二氧化硅进行烘干后，从烘干箱体21上的出料口23落入第一除杂装置31上，通过从动辊312去除磁性杂质后，二氧化硅落入第二除杂装置32中，通过过滤去除其他大颗粒杂质；二氧化硅物料沿传送带314，通过第二导料板317落入滤网框321内，从而落入物料收集槽323内。
本实施例的有益效果：二氧化硅物料经过干燥和二次除杂，去除二氧化硅生产过程中易残留的铁屑和其他大颗粒杂质，干燥、除杂一次性完成，无需将二氧化硅重新运输至其他设备或装置，可以提高工作效率，滤网框321下方设有支撑弹簧322，通过支撑弹簧322的弹性作用，滤网框321具有振动效果，可以提高过滤效果和过滤速率，同时干燥效率较高，除杂效果较好。
实施例2
如图2所示，二氧化硅烘干除杂系统，还包括导料槽26、导料挡板27、伸缩装置28、推板29；
烘干箱体21的出料口23位于烘干箱体21的侧壁，出料口23内设有导料槽26，如图3所示，导料槽26呈喇叭状，导料槽26上设有若干导料挡板27，导料挡板27的个数可根据实际需要设置，导料挡板27与二氧化硅的下落方向平行，二氧化硅沿导料槽26落在传送带314上。
出料口23相对方向设有伸缩装置28和推板29，伸缩装置28位于机架1上，伸缩装置28与推板29连接，伸缩装置28带动推板29将二氧化硅推入出料口23。
本实施例的工作原理：通过烘干箱体21底部的加热装置25对二氧化硅进行加热烘干，通过伸缩装置28带动推板29来回伸缩移动，将烘干后的二氧化硅推入出料口23，二氧化硅沿导料挡板27从导料槽26输送至传送带314上。
本实施例的有益效果：导料槽26内设置的导料挡板27对二氧化硅进行分隔，可以使二氧化硅均匀散落在传送带314上，伸缩装置28和推板29方便将干燥后的二氧化硅从烘干箱体21输送至传送带314上。
实施例3
如图4所示，二氧化硅烘干除杂系统，还包括杂物收集槽315、第一导料板316、第二导料板317、支架318；
从动辊312的下方设有杂物收集槽315，杂物收集槽315上连接有第一导料板316，杂物从从动辊312上落到第一导料板316上，从而落入杂物收集槽315内。
滤网框321呈倾斜状，物料收集槽323的底面呈倾斜状，物料收集槽323的底面较低的一侧为出料端；物料收集槽323的底端设有支架324，支架324的一端与物料收集槽323的底面连接，另一端与机架1连接，机架1的侧面设有开口，物料收集槽323的出料端固定在机架1的开口处。
第一导料板316背离杂物收集槽315的一侧连接有第二导料板317，二氧化硅从传送带314上落到第二导料板317上，从而落入滤网框321内。
本实施例的工作原理：二氧化硅经传送带314传送至从动辊312，磁性杂质被从动辊312吸附后，继续沿从动辊312传送，当传送至远离从动辊312时，磁性杂质经过第一导料板316落入杂物收集槽315内；二氧化硅物料最终通过倾斜的物料收集槽323，从出料端被收集。
本实施例的有益效果：第二导料板317使物料更准确的落入滤网框321内，物料收集槽323的底面呈倾斜状，使物料更易集中收集处理。
以上仅是本发明的优选实施方式，本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例，与本发明构思无实质性差异的各种工艺方案均在本发明的保护范围内。
Claims (10)
1.一种二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：按照工艺流程由前至后的顺序依次包括烘干装置、除杂装置；
所述烘干装置包括烘干箱体，所述烘干箱体的顶部设有进料口，所述烘干箱体上设有出料口；
所述除杂装置包括第一除杂装置和第二除杂装置；所述第二除杂装置位于第一除杂装置下方，用以对经所述第一除杂装置除杂后的二氧化硅物料进行过滤除杂；
所述第一除杂装置包括主动辊、从动辊和驱动装置，从动辊和主动辊之间通过传送带传动连接，所述驱动装置驱动所述主动辊转动；所述从动辊具有磁性。
2.根据权利要求1所述的二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：所述烘干箱体的底部设有夹层，所述夹层内设有加热装置。
3.根据权利要求1所述的二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：还包括机架，所述烘干装置位于机架上，所述烘干箱体的出料口位于烘干箱体的侧壁，所述出料口内设有导料槽，所述二氧化硅沿导料槽落入所述传送带上。
4.根据权利要求1所述的二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：所述导料槽呈喇叭状，所述导料槽上设有若干导料挡板，所述导料挡板与二氧化硅下落方向平行。
5.根据权利要求1所述的二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：所述出料口相对方向设有伸缩装置和推板，所述伸缩装置位于烘干箱体侧壁，所述伸缩装置与推板连接，所述伸缩装置带动所述推板将二氧化硅推入出料口。
6.根据权利要求1所述的二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：所述从动辊的下方设有杂物收集槽，所述杂物收集槽上连接有第一导料板，所述杂物从从动辊上落到第一导料板上，从而落入杂物收集槽内。
7.根据权利要求1所述的二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：所述第二除杂装置包括滤网框、若干支撑弹簧、物料收集槽，所述支撑弹簧的一端固定在滤网框底部，所述支撑弹簧的另一端固定在物料收集槽内底面。
8.根据权利要求1所述的二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：所述滤网框呈倾斜状，所述物料收集槽的底面呈倾斜状，所述物料收集槽的底面较低的一侧为出料端。
9.根据权利要求3所述的二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：所述物料收集槽底端设有支架，所述支架的一端与物料收集槽的底面连接，另一端与机架连接，所述物料收集槽的一端固定在机架侧面。
10.根据权利要求1所述的二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：所述第一导料板背离杂物收集槽的一侧连接有第二导料板，所述二氧化硅从传送带上落到第二导料板上，从而落入滤网框内。
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