CN109735813A - 一种基板镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种基板镀膜设备，包括：腔体，其设有一导轨；运载基板，可移动的设在所述导轨上，用以运载一基板；吸热板，可分离的设于所述运载基板上，所述吸热板具有一朝向所述运载基板的装载侧，用以装载基板并吸取所述基板的热量；至少一散热系统，设于所述腔体中，用以对所述吸热板散热。本发明将传统冷却系统分成吸热和散热两部分分开；同时在运载基板上增加有弹力设置的吸热板支撑柱，通过吸热板取代现有基板夹具，整面压合基板，解决目前的使用大开口掩膜板成膜造成的阴影的问题。

Description

一种基板镀膜设备

技术领域

本发明涉及一种基板镀膜设备。

背景技术

线式溅射镀膜机广泛运用于触控面板(TP)、LCD、OLED的镀膜制程中，有很多成膜制程都要求低温，比如TP的On-cell技术、OLED阴极用溅镀方式镀膜。In cell是指将触摸面板功能嵌入到液晶像素中的方法。触摸面板和液晶面板的一体化包括“In-cell”方法和“On-cell”方法。而On-cell是指将触摸面板功能嵌入到彩色滤光片基板和偏光板之间的方法。

由于在溅镀阴极前，基板上已经镀了有机膜层，所以阴极镀膜一般要求基板温度低于80℃。在溅射镀膜过程中，膜层在沉积过程中会在基板上累积热量从而导致基板温度超标，最终会导致有机膜层受到损害；由于线式镀膜机(In-line)时，是以基板移动而靶材不动的方式进行镀膜，这会导致一般外加基板冷却系统无法安装给降温，只能通过改变溅镀的工艺来降低温度，这样就会影响镀膜效率；同时线式镀膜机是基板移动方式镀膜，这就需要额外设计基板夹具，用以来保证基板与掩膜板的相对位置不变。

随着新技术的发展，低温成膜和有掩膜板的线式磁控溅射镀膜机的应用也会越来越广泛。目前使用的线式镀膜机由于是基板在移动镀膜，所以没有外置的基板冷却系统，只能通过优化本身镀膜工艺或者阴极系统来降低基板温度。

发明内容

本发明的目的在于，本发明提供一种基板镀膜设备，可以有效解决了成膜率低、设备成本高和镀膜温度高等问题。

为解决上述技术问题，本发明提供一种基板镀膜设备，包括：腔体，其设有一导轨；运载基板，可移动的设在所述导轨上，用以运载一基板；吸热板，可分离的设于所述运载基板上，所述吸热板具有一朝向所述运载基板的装载侧，用以装载基板并吸取所述基板的热量；至少一散热系统，设于所述腔体中，用以对所述吸热板散热。

进一步地，当所述散热系统对所述吸热板散热时，所述吸热板与所述基板分离，且贴覆于所述散热系统。

进一步地，每一散热系统包括：散热板，设于所述腔体内，且位于所述腔体的上侧；流体管道，设于所述散热板的上表面，所述流体管道具有一进水端和一出水端；一进水口和一出水口，设于所述腔体的顶面，且所述流体管道的进水端连接于所述进水口，所述流体管道的出水端连接于所述出水口；上下移动支架，设于所述腔体中且位于所述散热板的正下方，用以带动所述吸热板上下移动。

进一步地，所述流体管道包括横向管道和纵向管道，所述横向管道和纵向管道相互连通，成“回”字形排布，或成“S”形排布，或成“Z”形排布。

进一步地，所述上下移动支架包括：若干第一支撑杆，竖直设置；若干第二支撑杆，竖直设置；所述第一支撑杆的长度小于所述第一支撑杆的长度；所述第一支撑杆对应于所述基板，所述第二支撑杆对应于所述吸热板；当所述散热系统对所述吸热板散热时，所述上下移动支架向上运动，所述基板被所述第一支撑杆顶起且与所述掩膜板分离，所述吸热板被所述第二支撑杆顶起且与所述基板分离，所述吸热板被所述第一支撑杆顶起上升至并且贴覆于所述散热板的底面。

进一步地，所述吸热板为倒置的台阶形结构，包括：第一板体，包括中部区域和围绕所述中部区域的周侧区域；第二板体，连接所述第一板体的下方且对应于所述第一板体的中部区；吸热涂层，设于所述第二板体朝向所述基板的一侧。

进一步地，所述运载基板设有容所述第一支撑杆和第二支撑杆通过的通孔。

进一步地，所述运载基板设有支撑柱，所述吸热板设于所述支撑柱上。

进一步地，所述腔体包括：基板镀膜腔体，具有一进口侧和一出口侧；基板装载腔体，连接于所述基板镀膜腔体的进口侧；基板卸载腔体，连接于所述基板镀膜腔体的出口侧；所述散热系统设于所述基板镀膜腔体和或所述基板卸载腔体中。

进一步地，所述基板为金属基板，所述吸热板中具有用以吸附所述金属基板的磁性材料。

本发明的有益效果是：本发明提出一种基板镀膜设备，通过在现有的镀膜设备上增加基板散热系统，在所述腔体顶部设有一散热板，并在所述散热板上设置水冷装置。通过在所述基板进入所述基板镀膜腔体前和出去后，所述吸热板上升到所述散热板处，将所述吸热板上的热量通过所述散热板散出，避免所述基板过热对产品造成损害。

通过将所述吸热板装在基板小车上。在吸热过程中，所述吸热板下降压合到所述基板上，随所述基板在所述基板镀膜腔体中一起成膜，在成膜过程中吸收所述基板上的热量。所述吸热板与所述基板一起成膜时可以防止掩膜板出现相对移动的现象，以免成膜出现阴影。并且在所述吸热板的四周装上有弹要求的吸热板支撑柱，保证了所述吸热板压合基板时不会损坏所述基板。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的描述。

图1为本发明提供的基板镀膜设备的逻辑框图；

图2为本发明提供的腔体的结构示意图；

图3为本发明提供的散热系统的散热板、流体管道、进水管与出水管的结构示意图；

图4为本发明提供的吸热板的结构示意图；

图5为本发明提供的散热系统散热过程的结构示意图；

图6为本发明提供的散热系统吸热过程的结构示意图；

基板镀膜设备100

腔体11；运载基板12；散热系统13；

吸热板14；掩膜板15；基板16；

基板镀膜腔体111；基板装载腔体112；基板卸载腔体113；

导轨114；支撑柱121；通孔122；

散热板131；流体管道132；进水口133；

出水口134；上下移动支架135；第一板体141

第二板体142；定位销143；吸热图层144；

进水端1321；出水端1322；第一支撑杆1351；

第二支撑杆1352。

具体实施方式

以下是各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可以用实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如上、下、前、后、左、右、内、外、侧等，仅是参考附图式的方向。本发明提到的元件名称，例如第一、第二等，仅是区分不同的元部件，可以更好的表达。在图中，结构相似的单元以相同标号表示。

本文将参照附图来详细描述本发明的实施例。本发明可以表现为许多不同形式，本发明不应仅被解释为本文阐述的具体实施例。本发明提供这些实施例是为了解释本发明的实际应用，从而使本领域其他技术人员能够理解本发明的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改方案。

如图1所示，在实施例中，本发明提供一种基板镀膜设备100，包括：

腔体11、运载基板12、吸热板14、掩膜板15和散热系统13。

如图2所示，所述腔体11包括：基板镀膜腔体111、基板装载腔体112以及基板卸载腔体113；所述腔体11内设有一导轨114，所述导轨114贯穿所述基板镀膜腔体111、所述基板装载腔体112以及所述基板卸载腔体113。

所述导轨114用以提供运载基板12的运动轨道，可以使所述运载基板12在所述基板镀膜腔体111内进行镀膜工作。

所述基板装载腔体112以及所述基板卸载腔体113的所述散热系统13用以对所述吸热板14进行散热。在所述吸热板14散热过程结束后，所述吸热板14贴附于所述基板上，并通过运载基板12将所述基板和吸热板14共同运输至所述基板镀膜腔体111中进行共同镀膜。在镀膜结束后，所述运载基板12将所述基板和所述吸热板14运输至所述基板卸载腔体113中进行再次的冷却过程。

所述基板镀膜腔体111具有一进口侧和一出口侧，所述基板镀膜腔体111用以对基板进行真空镀膜；所述基板装载腔体112连接于所述基板镀膜腔体111的进口侧；所述基板卸载腔体113连接于所述基板镀膜腔体111的出口侧，所述导轨114穿过所述进口侧和所述出口侧，所述运载基板12在所述导轨114上进入或驶出所述基板镀膜腔体111。

所述运载基板12可移动的设在所述导轨114上，通过电机进行运载所述基板16，所述基板16为金属基板。所述运载基板12在镀膜和散热过程中，保证所述基板在运载过程中运动稳定，使所述基板能够稳定进行镀膜工作。所述运载基板12还包括一支撑柱121和通孔122，所述支撑柱121设于所述通孔122内。

所述支撑柱121具有弹性，所述支撑柱121与所述吸热板14相对设置；所述支撑柱121用以保护基板，在所述吸热板14压合在所述基板过程中。

所述掩膜板15与所述基板相对设置，所述掩膜板15用以在所述基板镀膜过程中形成相应的图案。

每一散热系统13包括：散热板131、流体管道132、进水口133、出水口134以及上下移动支架135。

所述散热板131设于所述腔体11内，且位于所述腔体11的上侧；具体的，所述散热板131设于所述基板装载腔体112以及所述基板卸载腔体113的顶部。

所述流体管道132设于所述散热板131的上表面，所述流体管道132具有一进水端1321和一出水端1322；所述流体管道132密集排布，所述流体管道132包括横向管道和纵向管道，所述横向管道和纵向管道相互连通，成“回”字形排布，或成“S”形排布，或成“Z”形排布(参见图3)，这种设计，有助于增加所述流体管道132与所述散热板131的接触面积，更进一步的增加吸热和散热面积，有效提高了散热和吸热效果。

可以使得所述散热板131与所述吸热板14接触的地方都有冷却水流过便于及时散热。所述流体管道132使得在整个镀膜过程中，以避免所述基板16过热并且对产品造成损坏。

所述进水口133和所述出水口134设于所述腔体11的顶面，且所述流体管道132的所述进水端1321连接于所述进水口133，所述流体管道132的出水端1322连接于所述出水口134。在散热过程中，所述进水口133与出水口134同时工作，使的冷水快速补充，可以使得所述吸热板14可以快速冷却，保持在整个散热过程的水流都是冷却水。

所述上下移动支架135包括：若干第一支撑杆1351以及若干第二支撑杆1352。所述上下移动支架135设于所述腔体11中且位于所述散热板131的正下方，用以带动所述吸热板14上下移动。所述上下移动支架135设与所述腔体11底部，与设于所述腔体11中所述散热板131位置相对，并且对应所述基板。

若干第一支撑杆1351竖直设置，若干第二支撑杆1352竖直设置；所述第一支撑杆1351的长度小于所述第一支撑杆1351的长度；所述第一支撑杆1351对应于所述基板，所述第二支撑杆1352对应于所述吸热板14。

所述上下移动支架135通过电机驱动进行垂直上下运动，所述基板16被所述第一支撑杆1351顶起且与所述掩膜板15分离或者接触；所述吸热板14被所述第二支撑杆1352顶起且与所述基板分离或接触。

如图4所示，所述吸热板14为倒置的台阶形结构，所述吸热板14包括：第一板体141、第二板体142、定位销143以及吸热涂层144。

所述第一板体141包括中部区域和围绕所述中部区域的周侧区域；所述第二板体142连接所述第一板体141的下方且对应于所述第一板体141的中部区；所述吸热涂层144设于所述第二板体142朝向所述基板的一侧；所述定位销143设与所述第一板体141周围区域。

所述定位销143用于在基板成膜过程中与吸热板14进行定位，使所述吸热板14整面可以压合在所述基板上，避免使用大开口的金属掩膜板15导致的基板下垂，造成成膜出现外阴影。同时所述支撑柱121保证了所述吸热板14压合所述基板的压力不会过大而压碎所述基板，还要在压合后防止吸热板14在与基板一起成膜是出现相对移动的现象。

所述吸热板14是比热容高于玻璃材质的材料，这样所述吸热板14可以在于所述基板压合的过程中可以吸收所述基板产生的热量。在本实施例中为内有磁板的铝合金，所述磁性材料用以更好的吸附所述金属基板并且将所述基板进行冷却。

本发明利用所述吸热板14整面的压合所述基板取代现有夹具，所述吸热板14中内置磁板可以让掩膜板15在磁力作用下与基板16贴紧，避免在所述基板成膜的过程中产生阴影。并且在整个成膜过程中，所述吸热板14与所述基板接触从而吸收基板产生的热量，避免温度过高影响所述基板的性能。

如图5所示，在所述散热过程中，所述上下移动支架135向上运动，所述基板被所述第一支撑杆1351顶起且与所述掩膜板15分离，所述吸热板14被所述第二支撑杆1352穿过所述支撑柱121顶起且与所述基板分离，所述吸热板14被所述第一支撑杆1351顶起上升并且贴覆于所述散热板131的底面。通过不断进行流动的冷却水对所述吸热板14进行冷却。

如图6所示，在吸热过程中，所述第一支撑杆1351托起所述基板并下降至所述掩膜板15上；所述第二支撑杆1352托起所述吸热板14与所述散热板131表面分离，所述吸热板14下降至所述基板表面，通过所述支撑柱121支撑保护基板，并且在镀膜过程中对所述基板进行吸热。

本发明在现有的镀膜设备上增加基板散热系统13，在所述腔体11顶部设有一散热板131，并在所述散热板131上设置水冷装置。通过在所述基板进入所述基板镀膜腔体111前和出去后，所述吸热板14上升到所述散热板131处，将所述吸热板14上的热量通过所述散热板131散出，避免所述基板过热对产品造成损害。

通过将所述吸热板14装在基板小车上。在吸热过程中，所述吸热板14下降压合到所述基板16上，随所述基板在所述基板镀膜腔体111中一起成膜，在成膜过程中吸收所述基板上的热量。所述吸热板14与所述基板一起成膜时防止掩膜板15出现相对移动的现象，从以避免成膜出现阴影。并且在所述吸热板14的四周装上有弹要求的支撑柱121，保证了所述吸热板14压合基板时不会损坏所述基板16。

应当指出，对于经充分说明的本发明来说，还可具有多种变换及改型的实施方案，并不局限于上述实施方式的具体实施例。上述实施例仅仅作为本发明的说明，而不是对发明的限制。总之，本发明的保护范围应包括那些对于本领域普通技术人员来说显而易见的变换或替代以及改型。

Claims (10)

1.一种基板镀膜设备，其特征在于，包括

腔体，其设有一导轨；

运载基板，可移动的设在所述导轨上，用以运载一基板；

吸热板，可分离的设于所述运载基板上，所述吸热板具有一朝向所述运载基板的装载侧，用以装载基板并吸取所述基板的热量；

至少一散热系统，设于所述腔体中，用以对所述吸热板散热。

2.根据权利要求1所述的基板镀膜设备，其特征在于，当所述散热系统对所述吸热板散热时，所述吸热板与所述基板分离，且贴覆于所述散热系统。

3.根据权利要求1所述的基板镀膜设备，其特征在于，

每一散热系统包括：

散热板，设于所述腔体内，且位于所述腔体的上侧；

流体管道，设于所述散热板的上表面，所述流体管道具有一进水端和一出水端；

一进水口和一出水口，设于所述腔体的顶面，且所述流体管道的进水端连接于所述进水口，所述流体管道的出水端连接于所述出水口；

上下移动支架，设于所述腔体中且位于所述散热板的正下方，用以带动所述吸热板上下移动。

4.根据权利要求3所述的基板镀膜设备，其特征在于，

所述流体管道包括横向管道和纵向管道，所述横向管道和纵向管道相互连通，成“回”字形排布，或成“S”形排布，或成“Z”形排布。

5.根据权利要求3所述的基板镀膜设备，其特征在于，还包括一掩膜板，设于所述运载基板上，所述掩膜板位于所述基板的下方；所述上下移动支架包括：

若干第一支撑杆，竖直设置

若干第二支撑杆，竖直设置；

所述第一支撑杆的长度小于所述第一支撑杆的长度；

所述第一支撑杆对应于所述基板，所述第二支撑杆对应于所述吸热板；

当所述散热系统对所述吸热板散热时，所述上下移动支架向上运动，所述基板被所述第一支撑杆顶起且与所述掩膜板分离，所述吸热板被所述第二支撑杆顶起且与所述基板分离，所述吸热板被所述第一支撑杆顶起上升并且贴覆于所述散热板的底面。

6.根据权利要求5所述的基板镀膜设备，其特征在于，所述吸热板为倒置的台阶形结构，包括

第一板体，包括中部区域和围绕所述中部区域的周侧区域；

第二板体，连接所述第一板体的下方且对应于所述第一板体的中部区；吸热涂层，设于所述第二板体朝向所述基板的一侧。

7.根据权利要求5所述的基板镀膜设备，其特征在于

所述运载基板设有容所述第一支撑杆和第二支撑杆通过的通孔。

8.根据权利要求5所述的基板镀膜设备，其特征在于，所述运载基板设有支撑柱，所述吸热板设于所述支撑柱上。

9.根据权利要求1所述的基板镀膜设备，其特征在于，所述腔体包括基板镀膜腔体，具有一进口侧和一出口侧；

基板装载腔体，连接于所述基板镀膜腔体的进口侧；

基板卸载腔体，连接于所述基板镀膜腔体的出口侧；

所述散热系统设于所述基板镀膜腔体和或所述基板卸载腔体中。

10.根据权利要求2所述的基板镀膜设备，其特征在于，所述基板为金属基板，所述吸热板中具有用以吸附所述金属基板的磁性材料。