CN109705999A - 清洗剂及其使用方法 - Google Patents

清洗剂及其使用方法 Download PDF

Info

Publication number
CN109705999A
CN109705999A CN201910021235.1A CN201910021235A CN109705999A CN 109705999 A CN109705999 A CN 109705999A CN 201910021235 A CN201910021235 A CN 201910021235A CN 109705999 A CN109705999 A CN 109705999A
Authority
CN
China
Prior art keywords
agent
cleaning
cleaning agent
cleaned
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201910021235.1A
Other languages
English (en)
Inventor
林睦群
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
CHANGSHU DONGNAN XIANGHU ELECTRONIC Co Ltd
Original Assignee
CHANGSHU DONGNAN XIANGHU ELECTRONIC Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by CHANGSHU DONGNAN XIANGHU ELECTRONIC Co Ltd filed Critical CHANGSHU DONGNAN XIANGHU ELECTRONIC Co Ltd
Priority to CN201910021235.1A priority Critical patent/CN109705999A/zh
Publication of CN109705999A publication Critical patent/CN109705999A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

本发明公开了一种清洗剂及其使用方法,该清洗剂包括A剂、B剂和C剂,所述A剂包括碳酸氢钠,所述B剂包括双氧水,所述C剂包括次氯酸钠。本发明的清洗剂清洁效果好,且易漂洗,不会形成二次污染;本发明的清洗剂清洗后清洁度比用酒精擦拭后效果提升明显;采用本发明的清洗剂减少了酒精的使用量,大大减少了安全隐患;使用本发明的清洗剂清洗PCB板烘干段滚轮后,PCB板抗镀不良率显著下降。本发明的清洗剂清洁效果好,去污能力强,产品性能稳定,使用安全。

Description

清洗剂及其使用方法
技术领域
本发明涉及清洗剂领域,特别涉及一种清洗剂及其使用方法。
背景技术
PCB板生产中,烘干段滚轮需定期保养清洗,传统方式为将滚轮拆卸下来,放入清洗槽中,用水搓洗,并用无尘布沾酒精擦拭,并检查海绵有无干裂或变型。采用酒精清洗具有诸多缺点:如清洗洁净度不够,烘干段滚轮清洗不干净会影响后续PCB板生产,容易导致PCB板抗镀,另外酒精属于易燃品,具有高挥发性,遇火就会爆炸,极易引发火灾。所以现在需要新的清洗剂来代替酒精,以解决上述问题。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于针对上述现有技术中的不足,提供一种清洗剂及其使用方法。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:一种清洗剂,其特征在于,包括A剂、B剂和C剂,所述A剂包括碳酸氢钠,所述B剂包括双氧水,所述C剂包括次氯酸钠。
优选的是,所述碳酸氢钠的质量分数为10-15%,所述双氧水的质量分数为10-15%,所述次氯酸钠的质量分数为1-3%。
优选的是,所述A剂还包括三磷酸五钠和山梨醇酐单月桂酸酯。
优选的是,所述A剂还包括十二烷基二甲基氧化胺和乙二醇单丁醚。
优选的是,所述A剂还包括羟丙基甲基纤维素和水。
优选的是,所述A剂包括以下重量份的原料:
优选的是,所述B剂还包括十二烷基磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚和聚丙烯酸钠。
优选的是,所述B剂包括以下重量份的原料:
一种如上所述的清洗剂的使用方法,使用该清洗剂对待清洗样品进行清洗的步骤包括:
1)将清洗槽冲洗干净,然后将待清洗样品放入清洗槽;
2)按体积比A剂:B剂=2:1配比,依次将A剂和B剂倒入清洗槽,对样品进行清洗;
3)清洗1-3小时后,排出清洗液,并用清水冲洗;
4)倒入C剂,清洗10-60分钟;
5)排出清洗液,并用清水冲洗。
优选的是,所述步骤2中,采用浸泡清洗,或采用循环马达循环抽吸清洗液对样品进行冲洗,或采用空气搅拌或超音波震荡方式进行清洗。
本发明的有益效果是:本发明的清洗剂清洁效果好,且易漂洗,不会形成二次污染;本发明的清洗剂清洗后清洁度比用酒精擦拭后效果提升明显;采用本发明的清洗剂减少了酒精的使用量,大大减少了安全隐患;使用本发明的清洗剂清洗PCB板烘干段滚轮后,PCB板抗镀不良率显著下降。本发明的清洗剂清洁效果好,去污能力强,产品性能稳定,使用安全。
附图说明
图1为本发明的对比例中采用酒精清洗样品后的示意图;
图2为本发明的对比例中采用酒精清洗样品后的另一示意图;
图3为本发明的实施例中采用本发明的清洗剂清洗样品后的示意图;
图4为本发明的对比例中采用本发明的清洗剂清洗样品后的另一示意图。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明做进一步的详细说明,以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
应当理解,本文所使用的诸如“具有”、“包含”以及“包括”术语并不排除一个或多个其它元件或其组合的存在或添加。
本实施例的一种清洗剂,包括A剂、B剂和C剂,所述A剂包括碳酸氢钠,所述B剂包括双氧水,所述C剂包括次氯酸钠。所述碳酸氢钠的质量分数为10-15%,所述双氧水的质量分数为10-15%,所述次氯酸钠的质量分数为1-3%。
在一种实施例中,所述A剂还包括三磷酸五钠和山梨醇酐单月桂酸酯。
在一种实施例中,所述A剂还包括十二烷基二甲基氧化胺和乙二醇单丁醚。
在一种实施例中,所述A剂还包括羟丙基甲基纤维素和水。
在一种实施例中,所述A剂包括以下重量份的原料:
在一种实施例中,所述B剂还包括十二烷基磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚和聚丙烯酸钠。
在一种实施例中,所述B剂包括以下重量份的原料:
实施例1
一种清洗剂,包括A剂、B剂和C剂,A剂包括质量分数为10-15%的碳酸氢钠,所述B剂包括质量分数为10-15%的双氧水,所述C剂包括质量分数为1-3%次氯酸钠。使用时,优选为A剂、B剂混合先使用,C剂后单独使用。
实施例2
一种清洗剂,包括A剂、B剂和C剂,
所述A剂包括以下重量份的原料:
B剂为质量分数为10-15%的双氧水;
所述C剂为质量分数为1-3%次氯酸钠。
其中,所述碳酸氢钠的质量分数为10-15%。
实施例3
一种清洗剂,包括A剂、B剂和C剂,
A剂为质量分数为10-15%的碳酸氢钠;
所述B剂包括以下重量份的原料:
C剂为质量分数为1-3%次氯酸钠。
其中,双氧水的质量分数为10-15%。
实施例4
一种清洗剂,包括A剂、B剂和C剂,
所述A剂包括以下重量份的原料:
B剂包括以下重量份的原料:
C剂为质量分数为1-3%次氯酸钠。
本发明的清洗剂其可主要用于PCB板烘干段滚轮的清洗,当然,其也可用于其他类似设备或产品的清洗,如大量金属制品或塑料制品的表面清洗。以下以使用该清洗剂对PCB板烘干段滚轮的清洗来具体说明。
一种清洗剂的使用方法,使用实施例1-4中任意一项获得的清洗剂对待清洗样品(PCB板烘干段滚轮)进行清洗,其步骤包括:
1)将清洗槽中原液排放干净,然后用清水将清洗槽冲洗干净,再将待清洗样品放入清洗槽,根据清洗槽容积确定清洗剂的用量;
2)按体积比A剂:B剂=2:1配比,依次将A剂和B剂倒入清洗槽,对样品进行清洗,A剂和B剂倒入前先摇晃,防止药物沉降;
3)采用清洗液对样品进行清洗,
其中,可采用循环马达循环抽吸清洗液对样品进行冲洗,清洗时间为1小时;或采用空气搅拌或超音波震荡方式进行清洗,清洗时间为1-2小时;或采用浸泡清洗,清洗时间为2-3小时;
清洗完成后,排出清洗液,并用清水冲洗15分钟,重复两次;
4)排出清水后,再先注入清水至槽液位一半,然后倒入C剂至槽最高液位,循环清洗15分钟;
5)排出清洗液,并用清水冲洗10分钟,重复2次后检测槽壁pH,当其pH≥6.0,即可,否则继续用清水冲洗。
对比例:采用酒精对样品进行擦拭清洗。
清洗结果:参照图1和2,采用酒精对样品进行擦拭清洗后,PCB板烘干段滚轮上仍有残留的脏污,无法完成清除。参照图3和4,采用本发明实施例4的清洗剂按以上方法清洗后,PCB板烘干段滚轮表面脏污清洁很干净。且采用本发明实施例1-3的清洗剂进行清洗时,也获得的较好的清洗效果
另外,酒精和本发明的实施例4获得的清洗剂清洗PCB板烘干段滚轮后,再利用该烘干段滚轮生产加工PCB板,然后检测了PCB板的抗镀情况,检测结果如下表:
从测试结果可以看出,采用实施例4的清洗剂清洗后,PCB板抗镀不良率由15.2%降至2.6%。PCB板烘干段滚轮清洗不干净,会加重加工后的PCB板的抗镀现象,影响产品质量。从测试结果可说明,本发明清洗剂能起到很好的清洁效果,保证脏污的去除。
尽管本发明的实施方案已公开如上,但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用,它完全可以被适用于各种适合本发明的领域,对于熟悉本领域的人员而言,可容易地实现另外的修改,因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下,本发明并不限于特定的细节。

Claims (10)

1.一种清洗剂,其特征在于,包括A剂、B剂和C剂,所述A剂包括碳酸氢钠,所述B剂包括双氧水,所述C剂包括次氯酸钠。
2.根据权利要求1所述的清洗剂,其特征在于,所述碳酸氢钠的质量分数为10-15%,所述双氧水的质量分数为10-15%,所述次氯酸钠的质量分数为1-3%。
3.根据权利要求2所述的清洗剂,其特征在于,所述A剂还包括三磷酸五钠和山梨醇酐单月桂酸酯。
4.根据权利要求3所述的清洗剂,其特征在于,所述A剂还包括十二烷基二甲基氧化胺和乙二醇单丁醚。
5.根据权利要求4所述的清洗剂,其特征在于,所述A剂还包括羟丙基甲基纤维素和水。
6.根据权利要求5所述的清洗剂,其特征在于,所述A剂包括以下重量份的原料:
7.根据权利要求6所述的清洗剂,其特征在于,所述B剂还包括十二烷基磺酸钠、脂肪醇聚氧乙烯醚和聚丙烯酸钠。
8.根据权利要求7所述的清洗剂,其特征在于,所述B剂包括以下重量份的原料:
9.一种如权利要求1-8中任意一项所述的清洗剂的使用方法,其特征在于,使用该清洗剂对待清洗样品进行清洗的步骤包括:
1)将清洗槽冲洗干净,然后将待清洗样品放入清洗槽;
2)按体积比A剂:B剂=2:1配比,依次将A剂和B剂倒入清洗槽,对样品进行清洗;
3)清洗1-3小时后,排出清洗液,并用清水冲洗;
4)倒入C剂,清洗10-60分钟;
5)排出清洗液,并用清水冲洗。
10.根据权利要求9所述的清洗剂的使用方法,其特征在于,所述步骤2中,采用浸泡清洗,或采用循环马达循环抽吸清洗液对样品进行冲洗,或采用空气搅拌或超音波震荡方式进行清洗。
CN201910021235.1A 2019-01-09 2019-01-09 清洗剂及其使用方法 Pending CN109705999A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910021235.1A CN109705999A (zh) 2019-01-09 2019-01-09 清洗剂及其使用方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910021235.1A CN109705999A (zh) 2019-01-09 2019-01-09 清洗剂及其使用方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN109705999A true CN109705999A (zh) 2019-05-03

Family

ID=66259934

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910021235.1A Pending CN109705999A (zh) 2019-01-09 2019-01-09 清洗剂及其使用方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109705999A (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1246889A (zh) * 1996-12-31 2000-03-08 雷克特和科尔曼产品有限公司 含磨料的清洗组合物
CN103525578A (zh) * 2013-10-30 2014-01-22 合肥市华美光电科技有限公司 一种抗静电印刷电路板清洗剂及其制备方法
CN103525587A (zh) * 2013-10-30 2014-01-22 合肥市华美光电科技有限公司 一种弱碱性水基电路板清洗剂及其制备方法
CN103555440A (zh) * 2013-10-30 2014-02-05 合肥市华美光电科技有限公司 一种抗腐蚀杀菌印刷电路板清洗剂及其制备方法
CN106566726A (zh) * 2016-11-14 2017-04-19 苏州联胜化学有限公司 一种活性染料低温皂洗剂及其制备方法和应用
CN108085160A (zh) * 2017-12-04 2018-05-29 辽宁科技大学 一种用于印刷电路板清洗剂及制备方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1246889A (zh) * 1996-12-31 2000-03-08 雷克特和科尔曼产品有限公司 含磨料的清洗组合物
CN103525578A (zh) * 2013-10-30 2014-01-22 合肥市华美光电科技有限公司 一种抗静电印刷电路板清洗剂及其制备方法
CN103525587A (zh) * 2013-10-30 2014-01-22 合肥市华美光电科技有限公司 一种弱碱性水基电路板清洗剂及其制备方法
CN103555440A (zh) * 2013-10-30 2014-02-05 合肥市华美光电科技有限公司 一种抗腐蚀杀菌印刷电路板清洗剂及其制备方法
CN106566726A (zh) * 2016-11-14 2017-04-19 苏州联胜化学有限公司 一种活性染料低温皂洗剂及其制备方法和应用
CN108085160A (zh) * 2017-12-04 2018-05-29 辽宁科技大学 一种用于印刷电路板清洗剂及制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108441353A (zh) 一种硅片清洗液、清洗设备及清洗工艺
CN110416369A (zh) Perc电池清洗制绒工艺及系统
CN110473810A (zh) 单晶硅制绒工艺及装置
CN209031157U (zh) 一种可对大蒜进行高效清洗的清洗机
CN102877082A (zh) 用于清洗镁合金或铝合金工件的除蜡水
CN107658246A (zh) 一种太阳能硅片清洗工艺
CN105481268A (zh) 一种光学玻璃清洗除雾工艺
KR20120136853A (ko) 에코 워싱 타블렛 세정제 및 이의 제조 방법
CN103170467B (zh) 铸锭循环料清洁处理方法
CN109705999A (zh) 清洗剂及其使用方法
CN107761355A (zh) 纺织品洗涤方法
CN106434034A (zh) 一种适合喷啉清洗的玻璃清洗剂及其制备方法
CN205966564U (zh) 一种全自动玻璃清洗设备
CN209234814U (zh) 一种鲜肉清洗机水循环装置
CN103614247A (zh) 一种纺织品文物的专用洗涤剂及清洗方法
CN109604245A (zh) 一种有机玻璃表面污染物清洗处理方法
CN110395868A (zh) 冷轧油泥资源化处理回收铁粉工艺
CN102569065A (zh) 一种二极管芯片的酸洗工艺
CN1616626A (zh) 禽羽洗涤剂及其制造方法
CN101940393B (zh) 一种提高海水珍珠光泽的方法
CN208513221U (zh) 一种超声波清洗设备过滤循环机构
CN104342921A (zh) 一种纺织品除锈剂
CN107779939A (zh) 一种电镀铜缸阳极的清洗方法
CN206616369U (zh) 一种节水易净洗衣盆
CN201565300U (zh) 一种活性炭酸洗设备

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20190503

RJ01 Rejection of invention patent application after publication