CN109698148A - 一种用于磷酸机台温度控制的管路设备 - Google Patents

一种用于磷酸机台温度控制的管路设备 Download PDF

Info

Publication number
CN109698148A
CN109698148A CN201811607210.1A CN201811607210A CN109698148A CN 109698148 A CN109698148 A CN 109698148A CN 201811607210 A CN201811607210 A CN 201811607210A CN 109698148 A CN109698148 A CN 109698148A
Authority
CN
China
Prior art keywords
inlet
liquid outlet
pipeline
dashpot
furnish
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201811607210.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109698148B (zh
Inventor
冯宇培
侯宗武
刘厥扬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Huali Integrated Circuit Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Shanghai Huali Integrated Circuit Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Huali Integrated Circuit Manufacturing Co Ltd filed Critical Shanghai Huali Integrated Circuit Manufacturing Co Ltd
Priority to CN201811607210.1A priority Critical patent/CN109698148B/zh
Publication of CN109698148A publication Critical patent/CN109698148A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN109698148B publication Critical patent/CN109698148B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67023—Apparatus for fluid treatment for general liquid treatment, e.g. etching followed by cleaning
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17D—PIPE-LINE SYSTEMS; PIPE-LINES
    • F17D1/00—Pipe-line systems
    • F17D1/08—Pipe-line systems for liquids or viscous products
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17D—PIPE-LINE SYSTEMS; PIPE-LINES
    • F17D3/00—Arrangements for supervising or controlling working operations
    • F17D3/01—Arrangements for supervising or controlling working operations for controlling, signalling, or supervising the conveyance of a product

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Control Of Temperature (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)

Abstract

本发明提供一种用于磷酸机台温度控制的管路设备，直供槽的第一进液口与第一缓冲槽的出液口连接；直供槽的出液口与其第二进液口连接构成主循环回路，该回路中连接有数个作业腔；作业腔连接有第一、第二开关阀；第一开关阀连接一排放口；第二开关阀与回收槽的进液口连接；第二缓冲槽；回收槽出液口与第二缓冲槽进液口连接；第二缓冲槽出液口连接于第一缓冲槽出液口与直供槽的第一进液口之间的管路；第二缓冲槽出液口与直供槽的第一进液口之间的管路上设有冷却装置。本发明通过在第二缓冲槽与直供槽之间的管路上增加冷却装置，降低磷酸进直供槽的初始温度，减少缓冲槽与直供槽之间的温度差，有效的控制了直供槽中磷酸的温度，报警概率降低。

Description

一种用于磷酸机台温度控制的管路设备
技术领域
本发明涉及一种半导体制造设备，特别是涉及一种用于磷酸机台温度控制的管路设备。
背景技术
如图1所示，图1显示为现有技术中的磷酸机台药液循环装置示意图。该装置中包含：具有进液口和出液口的第一缓冲槽6；具有第一、第二进液口及出液口的直供槽9；所述第一缓冲槽6的进液口和出液口分别连接有管路；所述直供槽9的第一进液口通过管路与所述第一缓冲槽6的出液口连接；所述直供槽9的出液口通过管路与其第二进液口连接构成主循环回路10，该主循环回路10的管路中连接有数个作业腔5；所述作业腔5连接有第一、第二开关阀4；所述第一开关阀4连接一排放口11；设有进液口和出液口的回收槽8；所述第二开关阀4通过管路与所述回收槽8的进液口连接；具有进液口和出液口的第二缓冲槽7；所述回收槽8的出液口通过管路与所述第二缓冲槽7的进液口连接；所述第二缓冲槽7的出液口连接于所述第一缓冲槽6的出液口与所述直供槽9的第一进液口之间的管路。缓冲槽中的H3PO4通过管路自然冷却进入药液直供槽，再在药液直供槽进行再度控温，达到工艺温度。目前药液直供槽负责工艺温度在142℃，磷酸药液缓冲槽中的H3PO4为163℃,中间有20℃的差距。一旦机台持续作业，很容易因为H3PO4使用量过大，磷酸药液缓冲槽供入药液直供槽的磷酸过快，导致温度控制不佳，超出设定值，发生报警。此时，机台连续作业停止，重新控温后，再继续作业，增加工艺风险，也降低制品流通速度。
因此，需要提出一种新的装置来解决上述问题。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种用于磷酸机台温度控制的管路设备，用于解决现有技术中由于机台持续作业，H3PO4使用量过大，磷酸药液缓冲槽供入药液直供槽的磷酸过快，导致温度控制不佳，超出设定值，发生报警。机台重新控温后，增加工艺风险，降低制品流通速度的问题。
为实现上述目的及其他相关目的，本发明提供一种用于磷酸机台温度控制的管路设备，该设备至少包括：具有进液口和出液口的第一缓冲槽；具有第一、第二进液口及出液口的直供槽；所述第一缓冲槽的进液口和出液口分别连接有管路；所述直供槽的第一进液口通过管路与所述第一缓冲槽的出液口连接；所述直供槽的出液口通过管路与其第二进液口连接构成主循环回路，该主循环回路的管路中连接有数个作业腔；所述作业腔连接有第一、第二开关阀；所述第一开关阀连接一排放口；设有进液口和出液口的回收槽；所述第二开关阀通过管路与所述回收槽的进液口连接；具有进液口和出液口的第二缓冲槽；所述回收槽的出液口通过管路与所述第二缓冲槽的进液口连接；所述第二缓冲槽的出液口连接于所述第一缓冲槽的出液口与所述直供槽的第一进液口之间的管路；所述第二缓冲槽的出液口与所述直供槽的第一进液口之间的管路上设有冷却装置。
优选地，所述管路中具有磷酸。
优选地，所述主循环回路的管路中连接有4个所述作业腔。
优选地，所述冷却装置包括冷凝管和与该冷凝管的两端分别连接的进液口和出液口。
优选地，所述冷凝管套设于所述第二缓冲槽的出液口与所述直供槽的第一进液口之间的管路外围。
优选地，所述冷却装置中具有去离子水。
优选地，所述去离子水在所述冷凝管一端的进液口中的温度为25摄氏度。
优选地，所述去离子水在所述冷凝管一端的出液口中的温度为60摄氏度。
如上所述，本发明的用于磷酸机台温度控制的管路设备，具有以下有益效果：本发明通过在第二缓冲槽的出液口与直供槽的第一进液口之间的管路上增加冷却装置，降低磷酸进直供槽的初始温度，减少缓冲槽与直供槽之间的温度差距，直供槽温控更容易实现，报警概率降低。
附图说明
图1显示为现有技术中的磷酸机台药液循环管路示意图。
图2显示为本发明的用于磷酸机台温度控制的管路设备示意图。
元件标号说明
1 新药液
2 使用中的药液
3 回收药液
4 第一、第二开关阀
5 作业腔
6 第一缓冲槽
7 第二缓冲槽
8 回收槽
9 直供槽
10 主循环回路
11 排放口
12 进液口
13 出液口
具体实施方式
以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。
请参阅图1之图2。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本发明的基本构想，遂图式中仅显示与本发明中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。
本发明的用于磷酸机台温度控制的管路设备，如图2所示，图2显示为本发明的用于磷酸机台温度控制的管路设备示意图。
该设备包括：具有进液口和出液口的第一缓冲槽6；具有第一、第二进液口及出液口的直供槽9；所述第一缓冲槽6的进液口和出液口分别连接有管路；所述直供槽9的第一进液口通过管路与所述第一缓冲槽6的出液口连接；图2中，位于所述直供槽9左边的为第一进液口，位于该第一进液口右边的为所述直供槽9的第二进液口；所述直供槽9的出液口通过管路与其第二进液口连接构成主循环回路10，从图2可以看出，该主循环回路10的管路中连接有数个作业腔5；本实施例中优选地，所述作业腔的个数为4个，即所述主循环回路的管路中连接有4个所述作业腔。
所述作业腔5连接有第一、第二开关阀4；所述第一开关阀4连接一排放口11；所述排放口11用于排放废液；设有进液口和出液口的回收槽8；所述第二开关阀4通过管路与所述回收槽8的进液口连接；具有进液口和出液口的第二缓冲槽7；所述回收槽8的出液口通过管路与所述第二缓冲槽7的进液口连接；所述第二缓冲槽7的出液口连接于所述第一缓冲槽6的出液口与所述直供槽9的第一进液口之间的管路。
所述第二缓冲槽的出液口与所述直供槽的第一进液口之间的管路上设有冷却装置。优选地，所述冷却装置包括冷凝管和与该冷凝管的两端分别连接的进液口12和出液口13。进一步，如图2所示，所述冷凝管套设于所述第二缓冲槽7的出液口与所述直供槽9的第一进液口之间的管路外围。
当该设备工作时，所述管路中具有磷酸。如图2所示，磷酸的新药液1从管路中进入，经过所述第一缓冲槽6的进液口进入所述第一缓冲槽6，之后从所述第一缓冲槽6的出液口出来进入管路，再经过所述第一缓冲槽6的出液口与所述直供槽9的第一进液口之间的管路，当经过该段管路时，磷酸的新药液1成为使用中的药液2；使用中的药液2被所述冷却装置降温，优选地，所述冷却装置中具有去离子水。所述去离子水在所述冷凝管一端的进液口12中的温度为25摄氏度。用于对管路中的磷酸降温。经过降温的使用中的药液2进入所述直供槽9的第一进液口，然后流出所述直供槽9的出液口，经由管路流回所述直供槽9的第二进液口，该回路构成主循环回路10，磷酸流经所述主循环回路的过程中供应数个所述作业腔5。经过所述作业腔5的磷酸成为回收药液3，所述回收药液3经过管路和回收槽8的进液口流向回收槽8，这时所述第二开关阀4打开。当经过所述作业腔5的磷酸不进行回收时，所述第一开关阀4打开从而流入所述排放口11被排放。
经过回收的磷酸从所述回收槽8的出液口出去，经由管路和所述第二缓冲槽7的进液口流入所述第二缓冲槽，然后磷酸进入直供槽9被循环利用。
本实施例中优选地，所述去离子水在所述冷凝管一端的进液口中的温度为25摄氏度，该去离子水在所述冷凝管一端的出液口中的温度为60摄氏度。所述温度的设置保证了对磷酸温度的有效控制。
综上所述，本发明通过在第二缓冲槽的出液口与直供槽的第一进液口之间的管路上增加冷却装置，降低磷酸进直供槽的初始温度，减少缓冲槽与直供槽之间的温度差距，直供槽温控更容易实现，报警概率降低。所以，本发明有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。
上述实施例仅例示性说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本发明的权利要求所涵盖。

Claims (8)

1.一种用于磷酸机台温度控制的管路设备，其特征在于，该设备至少包括：
具有进液口和出液口的第一缓冲槽；具有第一、第二进液口及出液口的直供槽；
所述第一缓冲槽的进液口和出液口分别连接有管路；所述直供槽的第一进液口通过管路与所述第一缓冲槽的出液口连接；所述直供槽的出液口通过管路与其第二进液口连接构成主循环回路，该主循环回路的管路中连接有数个作业腔；
所述作业腔连接有第一、第二开关阀；所述第一开关阀连接一排放口；
设有进液口和出液口的回收槽；所述第二开关阀通过管路与所述回收槽的进液口连接；
具有进液口和出液口的第二缓冲槽；所述回收槽的出液口通过管路与所述第二缓冲槽的进液口连接；所述第二缓冲槽的出液口连接于所述第一缓冲槽的出液口与所述直供槽的第一进液口之间的管路；
所述第二缓冲槽的出液口与所述直供槽的第一进液口之间的管路上设有冷却装置。
2.根据权利要求1所述的用于磷酸机台温度控制的管路设备，其特征在于：所述管路中具有磷酸。
3.根据权利要求1所述的用于磷酸机台温度控制的管路设备，其特征在于：所述主循环回路的管路中连接有4个所述作业腔。
4.根据权利要求1所述的用于磷酸机台温度控制的管路设备，其特征在于：所述冷却装置包括冷凝管和与该冷凝管的两端分别连接的进液口和出液口。
5.根据权利要求4所述的用于磷酸机台温度控制的管路设备，其特征在于：所述冷凝管套设于所述第二缓冲槽的出液口与所述直供槽的第一进液口之间的管路外围。
6.根据权利要求5所述的用于磷酸机台温度控制的管路设备，其特征在于：所述冷却装置中具有去离子水。
7.根据权利要求6所述的用于磷酸机台温度控制的管路设备，其特征在于：所述去离子水在所述冷凝管一端的进液口中的温度为25摄氏度。
8.根据权利要求7所述的用于磷酸机台温度控制的管路设备，其特征在于：所述去离子水在所述冷凝管一端的出液口中的温度为60摄氏度。
CN201811607210.1A 2018-12-27 2018-12-27 一种用于磷酸机台温度控制的管路设备 Active CN109698148B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811607210.1A CN109698148B (zh) 2018-12-27 2018-12-27 一种用于磷酸机台温度控制的管路设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811607210.1A CN109698148B (zh) 2018-12-27 2018-12-27 一种用于磷酸机台温度控制的管路设备

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109698148A true CN109698148A (zh) 2019-04-30
CN109698148B CN109698148B (zh) 2021-04-13

Family

ID=66232020

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811607210.1A Active CN109698148B (zh) 2018-12-27 2018-12-27 一种用于磷酸机台温度控制的管路设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109698148B (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102916228A (zh) * 2012-10-23 2013-02-06 福建省三净环保科技有限公司 铅酸蓄电池的自动内化成系统
CN104934350A (zh) * 2014-03-17 2015-09-23 斯克林集团公司 基板处理装置以及使用基板处理装置的基板处理方法
CN204816154U (zh) * 2015-06-25 2015-12-02 中山联成化学工业有限公司 一种酸水冷却系统
CN105428274A (zh) * 2014-09-17 2016-03-23 株式会社东芝 处理装置及处理液的再利用方法
CN107256842A (zh) * 2013-09-30 2017-10-17 芝浦机械电子装置股份有限公司 基板处理方法和基板处理装置
KR20170139771A (ko) * 2016-06-10 2017-12-20 김남원 공정설비용 냉각유체의 온도 제어장치

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102916228A (zh) * 2012-10-23 2013-02-06 福建省三净环保科技有限公司 铅酸蓄电池的自动内化成系统
CN107256842A (zh) * 2013-09-30 2017-10-17 芝浦机械电子装置股份有限公司 基板处理方法和基板处理装置
CN104934350A (zh) * 2014-03-17 2015-09-23 斯克林集团公司 基板处理装置以及使用基板处理装置的基板处理方法
CN105428274A (zh) * 2014-09-17 2016-03-23 株式会社东芝 处理装置及处理液的再利用方法
CN204816154U (zh) * 2015-06-25 2015-12-02 中山联成化学工业有限公司 一种酸水冷却系统
KR20170139771A (ko) * 2016-06-10 2017-12-20 김남원 공정설비용 냉각유체의 온도 제어장치

Also Published As

Publication number Publication date
CN109698148B (zh) 2021-04-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102001136B (zh) 外加剂计量和清洗系统以及包含其的搅拌设备
CN109164895A (zh) 一种服务器液冷系统及水泵一用一备无扰切换控制方法
CN205095745U (zh) 引发剂注入系统和聚乙烯反应系统
CN109698148A (zh) 一种用于磷酸机台温度控制的管路设备
CN104454792B (zh) 液压产品泵综合测试系统
CN205201945U (zh) 发泡机混合头装置
CN206783765U (zh) 一种废酸再生设备
CN108342767A (zh) 一种电镀锡产线铬酸自动加液系统
CN204933436U (zh) 双釜式连续硝化反应装置
CN105050353B (zh) 一种测试台纯水冷却循环系统
CN102335877A (zh) 抛光液输送装置
CN206405372U (zh) 一种螺母成型机集中供油系统
CN210512708U (zh) 一种直接空冷凝汽器运行腐蚀控制的药剂加入装置
CN209726400U (zh) 制冷设备的多级平衡式管网
CN103084046A (zh) 溴化氢气体吸收装置
CN203977493U (zh) 供水系统及包含该供水系统的搅拌机
CN103357610A (zh) 一种集中补液系统及补液方法
CN102247955B (zh) 处理液供给及管路冲洗系统
CN210131865U (zh) 一种液态肥施肥系统的管路电磁阀清洗装置
CN207478538U (zh) 一体化管式反应装置
CN207222158U (zh) 用于选矿设备上的湍流加药装置
CN104972564B (zh) 制作石膏板板头的发泡释放系统及其使用方法
CN210097679U (zh) 一种反应釜热水循环系统
CN105202845A (zh) 一种树脂生产艺用循环水冷却装置
CN205061541U (zh) 一种物料输送装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant