CN109691076A - 边缘感测 - Google Patents
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Abstract
示例实施例涉及边缘感测装置。例如，与本公开一致的边缘感测装置可以包括回射传感器的光路中的反射器。与本公开一致的边缘感测装置可以包括位于回射传感器和反射器之间的盖玻片。与本公开一致的边缘感测装置可以包括介质供给器，用于沿着盖玻片和回射传感器之间的介质路径供给介质。
Description
背景技术
如复印机、打印机、电信传真和数字发送机器、文件扫描仪、多功能装置(MFD)等用于产生或复制介质(例如，硬拷贝文件)的装置可以利用光学扫描仪来生成介质的图像。这些装置可以包括自动进稿器(ADF)机构，用于自动将单张介质顺序装载和卸载到利用光学扫描仪成像的位置。
附图说明
图1示出了与本公开一致的处于闭合配置的边缘感测装置的示例的剖视图。
图2示出了与本公开一致的处于闭合配置的边缘感测装置的示例的剖视图。
图3示出了与本公开一致的处于开放配置的边缘感测装置的示例的透视图。
图4示出了与本公开一致的边缘感测系统的示例。
图5示出了与本公开一致的处于闭合配置的边缘感测装置的示例的透视图。
具体实施方式
边缘检测可用于同步和/或计量自动扫描操作。感测边缘可以利用传感器来实现。以前用于边缘检测的传感器容易损坏、弄脏和磨损，这降低了精确检测边缘的能力，并可能导致不适当的同步和/或计量扫描操作。本文描述的装置可以提供具有抗损坏、抗污染、耐磨损、自清洁、易拆卸的边缘感测性能的边缘感测传感器。
用于产生或复制介质(例如，硬拷贝文档、纸张、照片、物体或其他形式的介质)的装置可以使用平板光学扫描仪。光学扫描仪可以通过利用光学传感器阵列来感测由光源照射介质产生的光信号来操作。通过移动扫描线的使用，扫描介质的图像可以逐渐投影到光学光传感器阵列上。可以通过相对于介质移动扫描仪光学组件，或者通过相对于扫描仪光学组件(例如，扫描条)移动介质来产生移动扫描线。这些方法中的一种或多种可以用在同一平板扫描仪、手持式扫描仪或具有手动和/或自动供给能力的其他扫描仪中。
可利用自动进稿器(ADF)相对于扫描仪光学组件移动介质。ADF可以包括辊组件，以沿着横穿扫描仪光学组件的路径供给介质。为了确定何时开始扫描和/或相对于页面边缘配准图像，扫描操作可以与介质通过介质路径同步。例如，扫描操作可以通过检测沿介质路径经过ADF的介质前缘来同步。
光学传感器可用于检测介质前缘。光学传感器可以利用光(例如白光、红外光、激光等等)的发射和接收来检测介质前缘。例如，回射传感器(retroreflective sensor)可用于检测介质前缘。回射传感器可以包括发射器元件和接收器元件。发射器元件和接收器元件可以位于传感器的同一端面上。反射器可以位于介质路径上，并与发射器元件和/或接收器元件相对。发射器可以在穿过介质路径的光路中发射光。接收器元件可以接收反射光。反射光可以是从发射器元件传送出来并从介质或反射器反射回接收器元件的光。由接收器元件接收的反射光的变化可以被解释为介质的存在。然而，为了使回射传感器能够区分介质路径中的介质和非介质的条件，反射器可能仅比被感测的物体反射更多。此外，背景可能被杂物污染、损坏、磨损等，造成它反射回发射器的光比从介质反射的光少。
相反，本公开的示例描述了一种包括在回射传感器的光路中的反射器的边缘感测装置，其中反射器位于扫描床的表面上。边缘感测装置可以包括位于回射传感器和反射器之间的盖玻片。边缘感测装置可以包括介质供给器，以沿着盖玻片和回射传感器之间的介质路径供给介质。本公开的示例可描述一种利用回射传感器和反射器的边缘感测装置，与现有回射传感器相比，该装置更耐用、更不容易污染、更容易拆卸以进行清洁/修理/更换/维修和/或自清洁。
图1示出了与本公开一致的处于闭合配置的边缘感测装置100的示例的剖视图。边缘感测装置100可以包括介质供给器109。介质供给器109可以包括用于沿着介质路径132供给介质的自动介质供给机构，例如机械传送辊组件和/或导向器。
边缘感测装置100可以包括回射传感器120。回射传感器120可以是发射器元件。发射器元件可以发射光束。光束可以在光路138中传输。回射传感器120可以定位在ADF壳体上和/或ADF壳体内部，使得光路138指向穿过介质路径132。边缘感测装置100可以包括反射器142。反射器142可以位于从回射传感器120发射的光束的光路138中。反射器142可以包括反射膜，例如诸如3M ScotchliteTM反射材料或者3MTM日光聚合物薄膜。
边缘感测装置100可以包括位于回射传感器120和反射器142之间的盖玻片140。盖玻片140可以是基本透明的材料片。盖玻片140可以是与位于反射器142下方的玻璃相同或不同的材料。例如，盖玻片140可以是玻璃、塑料或聚酯材料。盖玻片140可以具有与位于反射器142下方的玻璃基本相同的热、机械和光学特性(例如，折射率、透射、吸收和/或波长相关性)。然而，盖玻片140可以是比位于反射器142下方的玻璃更耐污染、磨损和/或其他退化的材料。
盖玻片140可以保护反射器142。盖玻片140可以通过防止反射器142的损耗、侵蚀、擦伤、损坏、磨损和/或其他可能改变其反射率的机械和/或化学相互作用来保护反射器142。盖玻片140可以保护反射器142免受可能改变其反射率的杂物污染表面。盖玻片140可以通过密封和/或屏蔽反射器142的反射表面来保护反射器142。密封反射器142可以保护其免受杂物的污染和/或与介质126接触相关的磨损。介质供给器109可以沿着盖玻片140和回射传感器120之间的介质路径132供给介质126。
回射传感器120可以通过在回射传感器120的接收元件处检测到的反射光量的改变来感测与光路138相交的介质路径132中存在介质126。例如，相对高反射率的反射器142可以比介质片126将更大量的反射光导向接收器元件。结果，当介质126中断光路138时，接收器元件可以借助于回射传感器120的接收器元件检测到反射光的减少来确定在介质路径132中存在介质126。
图2示出了与本公开一致的处于闭合配置的边缘感测装置200的示例的剖视图。边缘感测装置200可以包括ADF壳体208和扫描仪主体202。ADF壳体208可枢转地安装在扫描仪主体202上，使得在闭合位置，ADF壳体208的底侧248直接面对扫描仪主体202。
ADF壳体208可以包括介质供给器机构。介质供给机构可以包括用于沿着介质路径232供给介质226的机械传送辊组件和/或导向器。沿着介质路径232供给介质226可以包括从输入托盘216通过ADF壳体208供给介质226。介质226可以从ADF壳体208的出口点230供给出去。介质226可以沿着介质路径232在包括回射传感器220的ADF壳体208的底侧248和盖玻片240之间供给。介质226可以沿着介质路径232通过ADF壳体208的再进入点234被供给回ADF壳体208。介质226然后可以作为扫描介质246存放在输出托盘218中。
ADF壳体208可以包括回射传感器220。回射传感器220可以位于ADF壳体208的底侧248。回射传感器220可以包括发射器元件224。发射器元件224可以发射光束。光束可以在光路238中传输。回射传感器220可以定位在ADF壳体208上和/或其内部，使得当边缘感测装置200处于闭合配置时，光路238直接在盖玻片240处指向穿过介质路径232。回射传感器220还可以包括接收器元件222。接收器元件222可以被配置成检测在回射传感器220处被反射回来的反射光236。
扫描仪主体202可以包括平板扫描区域，如图5所讨论的。平板扫描区域可以包括不同的部分。第一部分可以包括在其中扫描ADF供给介质的ADF扫描窗口。ADF扫描窗口可比对应于固定扫描窗口的平板扫描区域的第二部分具有相对较短的物理长度。ADF扫描窗口可以是平板扫描区域中由扫描仪光学组件252对ADF供给介质进行成像的部分。当扫描仪光学组件252、便于扫描仪光学组件252移动的扫描仪光学组件托架254以及引导扫描仪光学组件252移动的扫描仪光学组件导轨256被保持在基本固定的位置时，介质可以被成像。
ADF扫描窗口可以包括扫描仪玻璃250。扫描仪玻璃250可以包括位于扫描仪光学组件252上方的玻璃压板。扫描仪玻璃250可以延长边缘感测装置200的扫描床的长度。因此，扫描仪玻璃250也可以横跨扫描床的固定扫描窗口部分。扫描仪玻璃250可以包括连续跨过扫描床的ADF扫描窗口部分和固定扫描窗口部分的玻璃。扫描仪玻璃可以包括基本透明的玻璃压板。
ADF扫描窗口和/或紧邻ADF扫描窗口的边界区域可以包括反射器242。反射器242可以包括相对于介质226具有高反射率的材料。例如，反射器242可以包括反射膜，例如3MScotchliteTM反射材料或者3MTM日光聚合物。反射器242可以位于扫描玻璃250的顶面258上。反射器242可以位于从回射传感器220的发射元件224传输的光的光路238中，反射器242可以将反射光236返回到回射传感器220的接收元件222。
回射传感器220可以通过在回射传感器220的接收元件222处检测到的反射光236的量的改变来感测与光路238相交的介质路径232中存在介质226。例如，相对高反射率的反射器242可以比一片介质226将更大量的反射光导向接收器元件222。结果，当介质226中断光路238时，接收器部分222可以借助于回射传感器220的接收器元件222检测反射光236的减少来确定介质226存在于介质路径232。回射传感器220可以识别由ADF沿着介质路径232供给的介质226的前缘228。例如，类似于上面给出的示例，回射传感器220可以借助于回射传感器220的接收器元件222检测到反射光236的减少来确定介质226的前缘228已经进入光路238和/或介质路径232的相应交叉部分。介质226的前缘228的识别可用于同步扫描操作和/或计量介质226的扫描。
ADF扫描窗口还可以包括校准标签244。校准标签244可以包括安装在扫描仪玻璃250上的矩形条。校准标签244可以包括可以由扫描仪光学组件252成像和/或由边缘感测装置200的其他传感器感测的各种标记。包括在校准标签244上的标记的示例可以包括可以被边缘感测装置200读取、成像和/或感测的标志。标记可以关于边缘感测装置200的设置和/或操作属性(例如，扫描分辨率、扫描尺寸、应用的过滤器、扫描亮度、扫描对比度、扫描伽马线、扫描阴影、扫描仪光学组件的灵敏度等等)指示和/或通知边缘感测装置200和/或配置边缘感测装置的用户。
ADF扫描窗口可以包括盖玻片240。盖玻片240可以位于扫描仪玻璃250上方。盖玻片240可以位于扫描仪玻璃250的顶面258上。盖玻片240可以在整个ADF窗口上与扫描仪玻璃250重叠。盖玻片240可以跨过固定扫描窗口的一部分与扫描玻璃250重叠。盖玻片240可以在ADF窗口的一部分上与扫描仪玻璃250重叠。
盖玻片240可以覆盖反射器242和/或校准标签244。例如，反射器242和校准标签244可以固定在ADF扫描窗口中且在盖玻片240和扫描玻璃250之间。盖玻片240可以安装在反射器242和校准标签之上，反射器242和校准标签本身安装在扫描仪玻璃250的第一表面258上。在一个示例(未示出)中，校准标签244可以从盖玻片下伸出，并形成通往ADF壳体208的再进入点234的返回路径。例如，校准标签244可以从盖玻片240和扫描玻璃250之间伸出，以形成返回到ADF壳体208的再进入点234的斜面引导介质226。在其他示例中，盖玻片244可以被形成为用作将介质226重引导回ADF壳体208的再进入点234的引导部和/或斜坡。
盖玻片240可以是基本透明的材料片。盖玻片240可以是与扫描仪玻璃250相同或不同的材料。盖玻片240可以是玻璃、塑料或聚酯材料。例如，盖玻片240可以包括钢化玻璃、蓝宝石晶体、蓝宝石玻璃等等。盖玻片240可以包括允许红外线或可见光透射的任何材料。盖玻片240可以具有与扫描仪玻璃250基本相同的热、机械和光学特性(例如，折射率、透射、吸收和/或波长相关性)。然而，盖玻片240可以是比扫描仪玻璃250更耐污染、磨损和/或其他退化的材料。
盖玻片240可以保护反射器242。盖玻片240可以通过防止与反射器242的磨损、侵蚀、擦伤、损坏、磨损和/或其他可能改变其反射率的机械和/或化学相互作用来保护反射器242。盖玻片240可以保护反射器242免受可能改变其反射率的杂物污染表面。盖玻片240可以通过密封和/或屏蔽反射器242的反射表面来保护反射器242。密封反射器242可以保护其免受杂物的污染和/或与被扫描的介质226接触相关的磨损。此外，密封反射器242可以保护其免受暴露于ADF壳体208内的环境而造成的类似损坏和退化。当介质226在扫描操作期间穿过介质路径232时，盖玻片240可以用作介质226在其上进行物理接触的界面。例如，不是介质226直接接触或非常接近于暴露的反射器242，而是介质226可以接触盖玻片240，而不改变反射器242的功能。盖玻片240可以允许边缘感测装置200在清洁和/或以其它方式维修反射器242之前执行四倍以上的扫描操作。
此外，回射传感器220、反射器242和/或盖玻片240相对于介质路径232的定向可以使得反射器242成为边缘感测装置200的大致自清洁部件。例如，可以利用ADF沿着介质路径232供给介质226。ADF可以沿着介质路径232供给介质226，使得介质226的前缘228可以离开ADF壳体208的出口点230，并且以锐角角度接触盖玻片240，具体地说，接触位于反射器242的一部分上方的盖玻片240。例如，与纸张表面相关联的平面可以接触盖玻片240的顶面，使得盖玻片240的表面和与纸张表面相关联的平面形成锐角。
介质226可以继续沿着介质路径供给，使得介质226的前缘228擦拭盖玻片240的表面，从而在盖玻片240上产生擦拭、涂刷和/或刮擦动作，导致盖玻片240的清洁(例如，去除杂物)。位于反射器242和回射传感器220之间的盖玻片240的部分的清洁动作可以起到重复清洁反射器242的作用，而不会磨损反射器242的表面和/或改变其反射率从而导致回射传感器220的功能改变。
此外，ADF壳体208可以沿着底面248与扫描仪主体202的顶面258相接合。ADF壳体208可以例如通过沿边缘的铰链枢转地安装到扫描仪主体202。ADF壳体208及其所有组件部分(例如，输入托盘216、输出托盘218、回射传感器220等等)可以枢转到开放配置，其中ADF壳体208的底侧248和扫描仪主体202的顶侧258显露出来。在开放配置中，覆盖反射器242的一部分的盖玻片240的表面会被显露出来，并且用户可以容易地访问。在开放配置中，用户可以清洁盖玻片240的表面，从而代为清洁反射器242的表面，而不需要实际接触反射器242，不必拆卸边缘感测装置200的各个部分，不必将边缘感测装置200的其它密封部分向外部环境打开，和/或不必试图清洁受限操作空间中的精密部件。用户可以简单地从盖玻片240的暴露表面擦拭任何杂物，而不用担心损坏反射器242或边缘感测装置200的其他部件。因此，与先前的系统相比，边缘感测装置提供了自清洁功能，而不会直接磨损回射感测装置的反射器242部件。此外，当需要手动清洁时，提供了对回射感测装置的部件的很容易的开放访问。
图3示出了与本公开一致的处于开放配置的边缘感测装置300的示例的透视图。边缘感测装置300可以包括ADF壳体308。ADF壳体308可以包括用于沿着介质路径供给介质的介质供给机构。例如，ADF壳体308可以包括介质供给器360(例如，机械供给辊)，以接触介质并沿着介质路径推动介质。
ADF壳体308可以包括回射传感器320。回射传感器320可以包括发射元件和接收元件。回射传感器320可以使用反射器342；然而，反射器可能不位于ADF壳体308中。相反，反射器342可以位于扫描仪主体302上。回射传感器320可以从ADF壳体308中发射光束，并检测反射回ADF壳体308的那部分光。反射器342可以在扫描器主体302上对准，使得它处于从回射传感器320发射的光的光路内，并且使得当边缘感测装置处于闭合配置时，它可以将光束反射回到回射传感器320。
除了反射器342之外，扫描仪主体302可以包括扫描仪光学组件(如图所示不可见，但是位于校准标签344下方)。扫描仪光学组件可以被配置为沿着扫描仪主体302的长度移动。扫描仪光学组件可以沿着导轨356移动。当对手动放置在扫描仪主体302的固定扫描窗口364部分上的静止文档进行成像时，扫描仪光学组件可以沿着导轨356移动。扫描仪光学组件可以保持在ADF扫描窗口362下方的基本固定的位置(如图所示)，并且在使用ADF的操作中，介质可以被自动供给到静止的扫描仪光学组件上。
尽管从图示的角度看不明显，但ADF扫描窗口362的各部分和/或固定扫描窗口364的各部分可以包括基层的扫描仪玻璃和/或扫描仪玻璃顶部上的第二层盖玻片。在示例中，盖玻片可以仅在ADF扫描窗口362中层置在扫描仪玻璃上方。反射器342可以位于扫描仪玻璃和盖玻片之间。例如，反射器342可以安装在扫描仪玻璃上，盖玻片可以安装在反射器上，并且介质可以在使用ADF的扫描操作期间经过盖玻片并与之接触。
图1、图2和图5示出了处于闭合配置的边缘感测装置。图3示出了处于开放配置的边缘感测装置。闭合配置可以与执行扫描操作、存储、待机等相关联。开放配置可以通过沿着连接ADF壳体308和扫描仪主体302的铰接边缘将ADF壳体308从扫描仪主体302蚌壳状分离来实现。开放配置可以与清洁、维护、将介质加载到固定扫描窗口364上等相关联。可以理解，这种设计可以允许回射传感器320及其反射器342连同它们附加的壳体一起打开和分离。这使得能容易地访问回射传感器320和反射器342以进行清洁和/或维修。
边缘感测装置300可以确定它是处于开放配置还是闭合配置。边缘感测装置300可以利用回射传感器320和/或反射器342来确定它是处于开放还是闭合配置。例如，回射传感器320可以包括发射器元件和接收器元件。发射器元件可以发光。光可以从ADF壳体308发射，并且从扫描仪主体302上的反射器342反射，并且由记录第一反射率量值的接收器元件接收和检测。该量值可以与介质路径中没有介质存在的闭合配置相关联。
作为选择，穿过与介质路径交叉的光路的介质可以中断将不同量的光反射回接收器元件发射光的光路。另外，一些光可以通过介质传输到反射器342，然后反射回并通过介质到达接收器元件。累积地，该反射光可以作为第二较弱的反射率量值被接收器元件接收和检测。这个量值可以与介质路径中存在介质的闭合配置相关联。
在另一个替代方案中，边缘感测装置300可以处于开放配置，并且从回射传感器320的发射器元件发射的基本上所有的光可以被无阻碍地发射到环境中，而基本上没有附近的反射装置。因此，接收器元件不能接收和检测到反射。接收器可以将该量值检测为反射率的第三量值。该第三量值可以与开放配置相关联。
边缘感测装置300可以基于回射传感器320对第一、第二或第三信号的检测来确定它是处于开放还是闭合配置。边缘感测装置300可以仅基于回射传感器320对信号的检测来确定开放或者闭合配置，或者边缘感测装置300可以利用附加传感器和/或检测到的信号结合回射传感器320检测到的信号来确定开放或者闭合配置。边缘感测装置300可以基于开放或者闭合配置的确定来调整设置、改变扫描模式(例如，ADF对固定的)、防止操作、提示警告、提供指令等等。
图4示出了与本公开一致的边缘感测系统470的示例。系统470可以包括以上关于图1至图3的装置或以下关于图5的装置描述的任何组件和/或功能。系统470可以包括回射传感器420。回射传感器420可以位于ADF壳体408的下侧上。例如，回射传感器420可以位于ADF壳体408面向扫描仪光学组件的一侧上。
回射传感器420可以发射光束。系统470可以包括反射器442，该反射器442用作回射传感器装置的部件，该回射传感器装置包括回射传感器420和反射器442，用于将从回射传感器发射器420发射的光反射回回射传感器接收器420。反射器442可以不与回射传感器420电连接。反射器442可以固定到扫描仪主体402，使得当ADF壳体408和扫描仪主体402处于与执行扫描操作相关联的闭合配置时，反射器442处于从回射传感器420发射的光的光路中。
反射器442可以位于扫描仪玻璃450和盖玻片440之间。盖玻片440可以固定到扫描仪主体402和/或固定到扫描仪玻璃450的一部分。反射器442可以位于校准标签444附近。例如，反射器442可以位于校准标签444旁边，校准标签444也位于扫描仪玻璃450和盖玻片440之间。
系统470可以包括介质供给器480。介质供给器460可以包括机械供给辊，以接触介质426并沿着介质路径432推进介质426。介质供给器460可以相对于盖玻片440成锐角在盖玻片440和回射传感器420之间供给介质426。以这种方式供给介质426可以使介质的前缘428擦拭盖玻片440上的杂物，保持从回射传感器420到反射器442的光路自清洁且不受阻碍。因为反射器442通过盖玻片440与环境隔离，所以不需要清洁反射器的表面，擦拭盖玻片440代为清洁反射器442。
在上述自清洁机构没有从盖玻片440的表面移除特定杂物的情况下，用户可以执行沿着连接ADF壳体408和扫描仪主体402的铰接边缘将ADF壳体408从扫描仪主体402蚌壳状分离。当以所描述的方式分离时，回射传感器420和盖玻片440对于用户来说是开放访问的，以便于清洁和/或维修。
回射传感器420可以基于检测到的反射率的变化来识别介质426的前缘428。例如，如上所述，回射传感器可以发射光并检测反射回来的光。强反射信号474(例如，接收回来的高比例的发射光)可以表明回射传感器420的发射器元件和反射器442之间的光路不受阻碍，并且交叉的介质路径432中没有介质。较弱的反射信号474(例如，接收回来的发射光的比例低于强反射信号474)可以表明回射传感器420的发射元件和反射器442之间的光路被阻碍，并且介质在交叉的介质路径432中。因此，当回射传感器420检测到的反射光减少时，介质426的前缘428可以被识别为进入光路并穿过介质路径432。回射传感器420对介质426的前缘428的识别可用于测量扫描和/或调整扫描特性，
此外，回射传感器420基本上没有检测到反射光。这可以表明ADF壳体408和扫描仪主体402处于开放配置，所有发射的光都逃逸到周围环境中而基本上没有发射发生。
边缘感测系统470可以连续地或周期性地监测回射传感器420在一段时间内检测到的反射光量。通过监测检测到的反射光量的变化，边缘感测系统470可以监测反射器442上方的盖玻片440和/或回射传感器420的发射和接收面的磨损、损坏和/或污染程度。如果回射传感器420检测到的反射光量降低低于预定阈值量，边缘感测系统470可以提示用户对反射器442上方的盖玻片440和/或回射传感器420的发射和接收面执行清洁操作。
图5示出了与本公开一致的处于闭合配置的边缘感测装置500的示例的透视图。装置500可以是平板扫描仪和/或具有扫描、打印、复印、传真和数字发送能力的多功能装置(MFD)的平板扫描仪部分。装置500可以包括扫描仪主体502。扫描仪主体502可以包括平板扫描仪的主体或框架。扫描仪主体502可以容纳扫描仪光学组件、用于移动扫描仪光学组件的托架和/或用于引导扫描仪光学组件移动的引导轴。如此处所使用，扫描仪光学组件可以包括图像传感器和/或图像传感器的照明。例如，扫描仪光学组件可以包括电荷耦合器件(CCD)图像传感器、CCD阵列、光电倍增管(PMT)图像传感器、照相机、数码照相机等等。扫描仪光学组件可以被称为扫描条和/或扫描头单元。
扫描仪主体502可以包括扫描床504(由虚线描绘)。扫描床504可以包括基本透明的表面和/或介质可以放置和/或通过的表面，通过这些表面的介质的图像可被捕获。扫描床504可以包括位于扫描仪光学组件上方的玻璃板或压板。如此处所使用，玻璃可以是压板。玻璃可以具有多种的化学成分和物理性质。扫描床504可以包括第一部分506-1(由虚线描绘)和第二部分506-2(由虚线描绘)。扫描床504的第一部分506-1可以包括ADF扫描窗口。如此处所使用的，ADF扫描窗口可以包括扫描床504的下部分，该部分包括基本透明的材料的表面区域，例如玻璃，用于用ADF进行介质扫描。扫描床504的第一部分506-1可以对应于玻璃压板的下部分，当介质沿着穿过玻璃压板的该部分的介质路径通过时，扫描仪光学组件在该压板的该部分下保持基本固定。
第一部分506-1可以包括校准标签。如此处所使用的，校准标签可以包括用于校准扫描仪操作的参考标记。第一部分506-1还可以包括回射传感器的反射器部分。反射器部分可以包括反射材料(例如，镜子、反射带、3M ScotchliteTM反射材料、3MTM日光聚合物膜等)。)。反射器和/或校准标签可以安装在扫描仪玻璃之上。如此处所使用的，扫描仪玻璃可以包括紧邻扫描仪光学组件上方的第一层玻璃压板。
第一部分506-1可以包括盖玻片。反射器和/或校准标签可以安装在盖玻片和扫描仪玻璃之间(例如，在盖玻片下方和扫描仪玻璃上方)。如此处所使用的，盖玻片可包括扫描仪光学组件上方的第二层玻璃压板，其可保护下方的反射器和/或校准标签。盖玻片可以是与扫描仪玻璃相同或不同的材料。
第二部分506-2可以包括扫描床504的固定扫描窗口部分。如此处所使用的，固定扫描窗口部分可以对应于玻璃压板的下部分，在扫描操作期间，当介质在玻璃压板上保持静止时，扫描仪光学组件在该玻璃压板的该部分下方沿着引导轴移动。第二部分506-2可以包括扫描仪玻璃从第一部分506-1的延伸部分。
扫描仪主体502可以包括使得用户能够为边缘感测装置500提交工作的用户界面510。用户界面510可以使用户能够设置边缘感测装置500的复印、扫描、传真、数字发送和/或打印的特性，并且可以包括键或键盘512和显示屏514。
装置500可以包括ADF壳体508。如此处所使用的，ADF壳体508可以包括主体或框架，该主体或框架包含ADF介质供给机构，例如机械传送辊组件和/或导向器，以沿着横穿过扫描仪光学组件的成像路径(例如，在ADF扫描操作期间由扫描仪光学组件成像的空间部分)的路径供给介质。ADF壳体508可以包括出口点和再进入点，介质在出口点离开ADF壳体508以与扫描床504接触，在利用扫描仪光学组件在扫描床504上对介质成像之后，介质在再进入点重新进入ADF壳体508。ADF壳体508的出口点和再进入点可以位于ADF壳体508的底侧(例如，当边缘感测设备500处于闭合配置时，ADF壳体508面向扫描床504的一侧)上。
ADF壳体508还可以包括回射传感器。回射传感器也可以位于ADF壳体508的底侧(例如，当边缘感测装置500处于闭合配置时，ADF壳体508面向扫描床504的一侧)上。回射传感器可以位于ADF壳体508的底侧上，从而能够与在闭合配置中面对ADF壳体508的底侧的扫描床504上的反射器相对。回射传感器可以位于ADF壳体508的出口点和再进入点之间。该位置可以允许回射传感器通过感测回射传感器处接收的反射光量的变化来识别由ADF供给的介质的前缘，该反射光量的变化是由介质的前缘引入回射传感器的光路引起。
ADF壳体508可包括文档输入或进料托盘516和文档输出或出料托盘518。在操作中，用户可以将待扫描的介质插入输入托盘516。单独扫描的介质页面然后可以被收集在输出托盘518中。在操作中，ADF壳体508内的ADF介质供给机构可以从输入托盘516抓取介质，并且沿着介质供给路径将介质从ADF壳体508的出口点供给到扫描床504上和/或穿过扫描床504(例如，沿着盖玻片和回射传感器之间的介质路径)，返回到ADF壳体508的再进入点，并且供给到输出托盘518。
ADF壳体508和部件(例如，输入托盘516、输出托盘518、回射传感器等等)可以布置在扫描仪主体502顶上，但是可以枢转地安装，例如沿着边缘铰接，以允许边缘感测装置500枢转到开放配置，在该开放配置中，ADF壳体508的底侧和扫描床504被显露出来。此外，用户可以利用该枢转安装来提升ADF壳体508，使其旋转远离扫描床504至开放配置，以将介质放置在扫描床504上(例如，第二部分506-2)。然后，用户可以将ADF壳体508枢转回到扫描床504上的位置，进入用于扫描介质的闭合配置。
在本公开的前述详细描述中，参考了构成本公开一部分的附图，并且在附图中通过说明示出了本公开的示例可如何实施。这些示例被足够详细地描述，以使本领域普通技术人员能够实践本公开的示例，并且应当理解，在不脱离本公开的范围的情况下，可以使用其他示例，并且可以进行过程、电气和/或结构上的改变。
这里的附图遵循编号惯例，其中第一个数字对应于附图编号，其余数字标识附图中的元件或组件。可以添加、交换和/或消除本文各图中所示的元件，以便提供本公开的多个附加示例。此外，附图中提供的元件的比例和相对比例旨在说明本公开的示例，而不应被视为具有限制性的意思。如这里所使用的，特别是关于附图中的附图标记，指示符“N”表示如此指定的许多特定特征可以包括在本公开的示例中。指示符可以代表相同或不同数量的特定特征。此外，如这里所使用的，“许多元件和/或特征”可以指一个或多个这样的元件和/或特征。
Claims (16)
1.一种边缘感测装置，包括:
在回射传感器的光路中的反射器；
位于所述回射传感器和所述反射器之间的盖玻片；和
用于沿着所述盖玻片和所述回射传感器之间的介质路径供给介质的介质供给器。
2.根据权利要求1所述的边缘感测装置，其中来自所述回射传感器的数据被用于识别沿着所述介质路径供给的所述介质的前缘。
3.根据权利要求1所述的边缘感测装置，其中所述回射传感器位于自动进稿器壳体的面向扫描仪光学组件的一侧。
4.根据权利要求3所述的边缘感测装置，其中所述自动进稿器壳体铰接在旋转枢轴上，以从显露所述盖玻片的扫描床上提起。
5.根据权利要求1所述的边缘感测装置，进一步包括在扫描床的表面上并在所述盖玻片下方的校准标签。
6.一种边缘感测装置，包括:
位于自动进稿器壳体的面向扫描仪光学组件的一侧的回射传感器；
在所述回射传感器的光路中的反射器，其中所述反射器位于扫描仪玻璃和固定到扫描仪主体的盖玻片之间；以及
用于沿着所述盖玻片和所述回射传感器之间的介质路径供给介质的介质供给器。
7.根据权利要求6所述的边缘感测装置，其中来自所述回射传感器的数据被用于确定所述自动进稿器壳体是否在所述扫描仪主体上枢转到闭合位置。
8.根据权利要求6所述的边缘感测装置，其中所述介质路径离开所述自动进稿器壳体，并且在重新进入所述自动进稿器壳体之前穿过扫描仪光学组件的成像路径。
9.根据权利要求8所述的边缘感测装置，其中所述回射传感器的所述光路位于所述自动进稿器壳体的出口点和所述自动进稿器壳体的再进入点之间。
10.根据权利要求6所述的边缘感测装置，其中所述介质供给器被配置为沿着包括所述盖玻片的介质路径的一部分并相对于所述盖玻片成锐角供给所述介质的前缘。
11.一种边缘感测系统，包括:
位于自动进稿器壳体的面向扫描仪光学组件的一侧的回射传感器；
在所述回射传感器的光路中的反射器，其中所述反射器位于扫描仪玻璃和固定到扫描仪主体的盖玻片之间；以及
介质供给器，被配置为在所述盖玻片和所述回射传感器之间相对于盖玻片成锐角供给介质，以从所述盖玻片上擦拭杂物。
12.根据权利要求11所述的边缘感测系统，其中所述自动进稿器壳体被配置为远离所述扫描仪主体枢转到开放配置，提供对用于平板扫描的扫描床的访问。
13.根据权利要求12所述的边缘感测系统，其中所述开放配置显露出所述盖玻片用于清洁。
14.根据权利要求12所述的边缘感测系统，其中来自所述回射传感器的数据被用于确定所述自动进稿器壳体是否处于所述开放配置。
15.根据权利要求11所述的边缘感测系统，其中所述回射传感器基于检测到的反射率的变化来识别所述介质的前缘。
16.根据权利要求11所述的边缘感测系统，其中所述回射传感器基于检测到的反射光量来检测是否应该执行手动清洁操作。
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