CN109666902A - 一种前蓝后绿膜树脂镜片的镀膜方法 - Google Patents

一种前蓝后绿膜树脂镜片的镀膜方法 Download PDF

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Abstract

一种前蓝后绿膜树脂镜片的镀膜方法，包括以下步骤：1）装置及填料准备；2）抽真空；3）树脂镜片凸面蒸镀膜；4）树脂镜片凹面蒸镀膜。本发明，采用真空镀膜的方式进行镜片凸面蓝色镀膜，凹面绿色镀膜，其中凸面蓝膜在波长420‑430μm的反射率为10‑15%，凹面绿膜在波长510‑520μm的反射率达到1.5‑2%，均高于市场平均水平。

Description

一种前蓝后绿膜树脂镜片的镀膜方法
技术领域
本发明涉及树脂镜片的制造加工领域，特别是涉及一种前蓝后绿膜树脂镜片的镀膜方法。
背景技术
无论是树脂或玻璃镜片其本身的透光率都只有91%左右，会有部分光线被镜片的两个表面反射回来。镜片的反射可使光线透过率减少并在视网膜形成干扰像而影响成像的质量，并影响配戴者的外观。如镜片外观涡旋明显，照相反光，看不到配戴者的眼睛等等。而镀膜镜片是利用光学薄膜及真空的新技术，镀上一定厚度的单层或多层光学薄膜，使镜片获得一些新的、原本不具备的优良性能，以改善镜片反射光线的能力，起到增强或减少光线透过的作用使镜片的透光率增加到98%。目前眼镜市场上镜片的膜层颜色多为绿膜，随着人们对镜片功能及时尚的多重追求，单一的绿膜已无法满足人们的需求。
发明内容
针对目前以上镜片的不足，本发明的目的在于提供了一种前蓝后绿膜树脂镜片的镀膜方法，是采用真空镀膜的方式，根据蓝绿膜镀膜材料以及镀膜厚度要求，采用不同的镀膜工艺，将树脂镜片的凸凹面分别进行蒸镀膜以达到所需的镀膜厚度和色彩。
本发明的技术方案是通过以下方式实现的：一种前蓝后绿膜树脂镜片的镀膜方法，其特征在于，包括以下步骤：
1）装置及填料准备：把待镀膜的树脂镜片放到镀膜机的真空室内的镜片挂架上，然后人工添加镀膜所需的镀膜材料到真空室下方的三个不同坩埚内，检查每个坩埚与真空室相连接的电子喷枪固定牢靠到位，其中凸凹面镀膜材料均为：SiO2、ZrO2、ITO，做好准备工作后关上真空室门；
2）抽真空：打开镀膜机总电源，确定循环泵、压缩机工作，使镀膜机内部压力达到4×10-3Pa，温度加热200℃并保持恒温30分钟，去除镀膜机真空室中的空气水分；
3）树脂镜片凸面蒸镀膜：将树脂镜片的凸面朝下，设定镀膜真空室温度45~55℃，真空室压力3×10-3Pa~1×10-2Pa，将盛放镀膜材料的坩埚的温度设定为1200℃，电子喷枪的发射电子温度控制在350-400℃，功率20MA，使用电子喷枪将镀膜材料均匀喷涂在镜片的凸面上蒸镀形成蓝膜镀膜层，蓝膜镀膜层共为七层；
所述的步骤3）蓝膜镀膜层工艺为：第一层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.5nm/s，镀膜厚度为8.1nm，O2体积流量为20sccm；第二层，材料为SiO2，镀膜速率为2.40nm/s，镀膜厚度为206±5nm，O2体积流量为20sccm；第三层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.5nm/s，镀膜厚度为15.3±1nm，O2体积流量为5sccm；第四层，材料为SiO2，镀膜速率为1.50nm/s，镀膜厚度为41.3nm，O2体积流量为5sccm；第五层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.5nm/s，镀膜厚度为59.7±2nm，O2体积流量为5sccm；第六层，材料为ITO，镀膜速率为0.08nm/s，镀膜厚度为5.5nm，O2体积流量为45sccm；第七层，材料为SiO2，镀膜速率为2.40nm/s，镀膜厚度为115.2±3nm，O2体积流量为5sccm；七层镀膜的厚度为451.1±10nm。
4）树脂镜片凹面蒸镀膜：将树脂镜片凹面朝下，进行绿膜镀膜，重复步骤3）的工艺，其绿膜镀膜层也为七层；第一层，材料ZrO2，镀膜速率为0.45nm/s，镀膜厚度为7.6nm，O2体积流量为20sccm；第二层，材料为SiO2，镀膜速率为2.00nm/s，镀膜厚度为87.5±4nm，O2体积流量为20sccm；第三层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.45nm/s，镀膜厚度为11.8±1nm，O2体积流量为5sccm；第四层，材料为SiO2，镀膜速率为1.50nm/s，镀膜厚度为27.3nm，O2体积流量为5sccm；第五层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.45nm/s，镀膜厚度为92.9±2nm，O2体积流量为5sccm；第六层，材料为ITO，镀膜速率为0.08nm/s，镀膜厚度为5.9nm，O2体积流量为45sccm；第七层，材料为SiO2，镀膜速率为2.00nm/s，镀膜厚度为76.6±3nm，O2体积流量为5sccm；通过七层镀膜的树脂镜片凹面厚度为313.4±10nm形成凹面绿膜镀膜层。
所述的步骤3）、4）中第一、第二层镀膜的真空室压力为1×10-2Pa，第三层到第七层镀膜真空室压力为3×10-3Pa。
所述的步骤3）、4）中第一到第五层镀膜时，真空室采用阳极电压为80V，阳极电流为2.5A，中和电流为0.15A，AR体积流量15sccm；第六、第七层镀膜时，真空室采用阳极电压为80V，阳极电流为2A，中和电流为0.2A，AR体积流量为15sccm。
本发明，采用真空镀膜的方式进行镜片凸面蓝色镀膜，凹面绿色镀膜，其中凸面蓝膜在波长420-430μm的反射率为10-15%，凹面绿膜在波长510-520μm的反射率达到1.5-2%，均高于市场平均水平。
具体实施方式
实施例1：
一种前蓝后绿膜树脂镜片的镀膜方法，包括以下步骤：
1、装置及填料准备：把待镀膜的树脂镜片放到镀膜机的真空室内的镜片挂架上，然后人工添加镀膜所需的镀膜材料到真空室下方的三个不同坩埚内，检查每个坩埚与真空室相连接的电子喷枪固定牢靠到位，其中凸凹面镀膜材料均为：SiO2、ZrO2、ITO，做好准备工作后关上真空室门；
2、抽真空：打开镀膜机总电源，确定循环泵、压缩机工作，使镀膜机内部压力达到4×10-3Pa，温度加热200℃并保持恒温30分钟，去除镀膜机真空室中的空气水分；
3、树脂镜片凸面蒸镀膜：将树脂镜片的凸面朝下，设定镀膜真空室温度45℃，真空室压力3×10-3Pa~1×10-2Pa，将盛放镀膜材料的坩埚的温度设定为1200℃，电子喷枪的发射电子温度控制在350℃，功率20MA，使用电子喷枪将镀膜材料均匀喷涂在镜片的凸面上蒸镀形成蓝膜镀膜层，蓝膜镀膜层共为七层；第一层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.5nm/s，镀膜厚度为8.1nm，O2体积流量为20sccm；第二层，材料为SiO2，镀膜速率为2.40nm/s，镀膜厚度为206nm，O2体积流量为20sccm；第三层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.5nm/s，镀膜厚度为15nm，O2体积流量为5sccm；第四层，材料为SiO2，镀膜速率为1.50nm/s，镀膜厚度为41.3nm，O2体积流量为5sccm；第五层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.5nm/s，镀膜厚度为59nm，O2体积流量为5sccm；第六层，材料为ITO，镀膜速率为0.08nm/s，镀膜厚度为5.6nm，O2体积流量为45sccm；第七层，材料为SiO2，镀膜速率为2.40nm/s，镀膜厚度为114nm，O2体积流量为5sccm；七层镀膜的厚度为440nm。
4、树脂镜片凹面蒸镀膜：将树脂镜片凹面朝下，进行绿膜镀膜，重复步骤3的工艺，其绿膜镀膜层也为七层；第一层，材料ZrO2，镀膜速率为0.45nm/s，镀膜厚度为7.6nm，O2体积流量为20sccm；第二层，材料为SiO2，镀膜速率为2.00nm/s，镀膜厚度为84nm，O2体积流量为20sccm；第三层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.45nm/s，镀膜厚度为11nm，O2体积流量为5sccm；第四层，材料为SiO2，镀膜速率为1.50nm/s，镀膜厚度为27.3nm，O2体积流量为5sccm；第五层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.45nm/s，镀膜厚度为91nm，O2体积流量为5sccm；第六层，材料为ITO，镀膜速率为0.08nm/s，镀膜厚度为5.9nm，O2体积流量为45sccm；第七层，材料为SiO2，镀膜速率为2.00nm/s，镀膜厚度为74.1nm，O2体积流量为5sccm；通过七层镀膜的树脂镜片凹面厚度为303nm形成凹面绿膜镀膜层。
所述的步骤3、4中第一、第二层镀膜的真空室压力为1×10-2Pa，第三层到第七层镀膜真空室压力为3×10-3Pa。
所述的步骤3、4中第一到第五层镀膜时，真空室采用阳极电压为80V，阳极电流为2.5A，中和电流为0.15A，AR体积流量15sccm；第六、第七层镀膜时，真空室采用阳极电压为80V，阳极电流为2A，中和电流为0.2A，AR体积流量为15sccm。
实施2：
一种前蓝后绿膜树脂镜片的镀膜方法，包括以下步骤：
1、装置及填料准备：把待镀膜的树脂镜片放到镀膜机的真空室内的镜片挂架上，然后人工添加镀膜所需的镀膜材料到真空室下方的三个不同坩埚内，检查每个坩埚与真空室相连接的电子喷枪固定牢靠到位，其中凸凹面镀膜材料均为：SiO2、ZrO2、ITO，做好准备工作后关上真空室门；
2、抽真空：打开镀膜机总电源，确定循环泵、压缩机工作，使镀膜机内部压力达到4×10-3Pa，温度加热200℃并保持恒温30分钟，去除镀膜机真空室中的空气水分；
3、树脂镜片凸面蒸镀膜：将树脂镜片的凸面朝下，设定镀膜真空室温度55℃，真空室压力3×10-3Pa~1×10-2Pa，将盛放镀膜材料的坩埚的温度设定为1200℃，电子喷枪的发射电子温度控制在400℃，功率20MA，使用电子喷枪将镀膜材料均匀喷涂在镜片的凸面上蒸镀形成蓝膜镀膜层，蓝膜镀膜层共为七层；第一层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.5nm/s，镀膜厚度为8.1nm，O2体积流量为20sccm；第二层，材料为SiO2，镀膜速率为2.40nm/s，镀膜厚度为210nm，O2体积流量为20sccm；第三层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.5nm/s，镀膜厚度为16nm，O2体积流量为5sccm；第四层，材料为SiO2，镀膜速率为1.50nm/s，镀膜厚度为41.3nm，O2体积流量为5sccm；第五层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.5nm/s，镀膜厚度为61nm，O2体积流量为5sccm；第六层，材料为ITO，镀膜速率为0.08nm/s，镀膜厚度为5.5nm，O2体积流量为45sccm；第七层，材料为SiO2，镀膜速率为2.40nm/s，镀膜厚度为118nm，O2体积流量为5sccm；七层镀膜的厚度为459.9nm。
4、树脂镜片凹面蒸镀膜：将树脂镜片凹面朝下，进行绿膜镀膜，重复步骤3的工艺，其绿膜镀膜层也为七层；第一层，材料ZrO2，镀膜速率为0.45nm/s，镀膜厚度为7.6nm，O2体积流量为20sccm；第二层，材料为SiO2，镀膜速率为2.00nm/s，镀膜厚度为90nm，O2体积流量为20sccm；第三层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.45nm/s，镀膜厚度为12nm，O2体积流量为5sccm；第四层，材料为SiO2，镀膜速率为1.50nm/s，镀膜厚度为27.3nm，O2体积流量为5sccm；第五层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.45nm/s，镀膜厚度为94nm，O2体积流量为5sccm；第六层，材料为ITO，镀膜速率为0.08nm/s，镀膜厚度为5.9nm，O2体积流量为45sccm；第七层，材料为SiO2，镀膜速率为2.00nm/s，镀膜厚度为79nm，O2体积流量为5sccm；通过七层镀膜的树脂镜片凹面厚度为315.9nm形成凹面绿膜镀膜层。
所述的步骤3、4中第一、第二层镀膜的真空室压力为1×10-2Pa，第三层到第七层镀膜真空室压力为3×10-3Pa。
所述的步骤3、4中第一到第五层镀膜时，真空室采用阳极电压为80V，阳极电流为2.5A，中和电流为0.15A，AR体积流量15sccm；第六、第七层镀膜时，真空室采用阳极电压为80V，阳极电流为2A，中和电流为0.2A，AR体积流量为15sccm。
本发明，通过7层镀膜便可以达到所需颜色的镀膜镜片，镀膜过程中需不断的观察镜片膜层颜色，必要的时候对工艺进行微调，镀膜完成后，将镜片送至检验对膜层进行检验合格后方可进入下一步工序。

Claims (4)

1.一种前蓝后绿膜树脂镜片的镀膜方法，其特征在于，包括以下步骤：
1）装置及填料准备：把待镀膜的树脂镜片放到镀膜机的真空室内的镜片挂架上，然后人工添加镀膜所需的镀膜材料到真空室下方的三个不同坩埚内，检查每个坩埚与真空室相连接的电子喷枪固定牢靠到位，其中凸凹面镀膜材料均为：SiO2、ZrO2、ITO，做好准备工作后关上真空室门；
2）抽真空：打开镀膜机总电源，确定循环泵、压缩机工作，使镀膜机内部压力达到4×10-3Pa，温度加热200℃并保持恒温30分钟，去除镀膜机真空室中的空气水分；
3）树脂镜片凸面蒸镀膜：将树脂镜片的凸面朝下，设定镀膜真空室温度45~55℃，真空室压力3×10-3Pa~1×10-2Pa，将盛放镀膜材料的坩埚的温度设定为1200℃，电子喷枪的发射电子温度控制在350-400℃，功率20MA，使用电子喷枪将镀膜材料均匀喷涂在镜片的凸面上蒸镀形成蓝膜镀膜层，蓝膜镀膜层共为七层；
4）树脂镜片凹面蒸镀膜：将树脂镜片凹面朝下，进行绿膜镀膜，重复步骤3）的工艺，其绿膜镀膜层也为七层；第一层，材料ZrO2，镀膜速率为0.45nm/s，镀膜厚度为7.6nm，O2体积流量为20sccm；第二层，材料为SiO2，镀膜速率为2.00nm/s，镀膜厚度为87.5±4nm，O2体积流量为20sccm；第三层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.45nm/s，镀膜厚度为11.8±1nm，O2体积流量为5sccm；第四层，材料为SiO2，镀膜速率为1.50nm/s，镀膜厚度为27.3nm，O2体积流量为5sccm；第五层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.45nm/s，镀膜厚度为92.9±2nm，O2体积流量为5sccm；第六层，材料为ITO，镀膜速率为0.08nm/s，镀膜厚度为5.9nm，O2体积流量为45sccm；第七层，材料为SiO2，镀膜速率为2.00nm/s，镀膜厚度为76.6±3nm，O2体积流量为5sccm；通过七层镀膜的树脂镜片凹面厚度为313.4±10nm形成凹面绿膜镀膜层。
2.根据权利要求1所述的一种前蓝后绿膜树脂镜片的镀膜方法，其特征在于：所述的步骤3）蓝膜镀膜层工艺为：第一层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.5nm/s，镀膜厚度为8.1nm，O2体积流量为20sccm；第二层，材料为SiO2，镀膜速率为2.40nm/s，镀膜厚度为206±5nm，O2体积流量为20sccm；第三层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.5nm/s，镀膜厚度为15.3±1nm，O2体积流量为5sccm；第四层，材料为SiO2，镀膜速率为1.50nm/s，镀膜厚度为41.3nm，O2体积流量为5sccm；第五层，材料为ZrO2，镀膜速率为0.5nm/s，镀膜厚度为59.7±2nm，O2体积流量为5sccm；第六层，材料为ITO，镀膜速率为0.08nm/s，镀膜厚度为5.5nm，O2体积流量为45sccm；第七层，材料为SiO2，镀膜速率为2.40nm/s，镀膜厚度为115.2±3nm，O2体积流量为5sccm；七层镀膜的厚度为451.1±10nm。
3.根据权利要求1所述的一种前蓝后绿膜树脂镜片的镀膜方法，其特征在于：所述的步骤3）、4）中第一、第二层镀膜的真空室压力为1×10-2Pa，第三层到第七层镀膜真空室压力为3×10-3Pa。
4.根据权利要求1所述的一种前蓝后绿膜树脂镜片的镀膜方法，其特征在于：所述的步骤3）、4）中第一到第五层镀膜时，真空室采用阳极电压为80V，阳极电流为2.5A，中和电流为0.15A，AR体积流量15sccm；第六、第七层镀膜时，真空室采用阳极电压为80V，阳极电流为2A，中和电流为0.2A，AR体积流量为15sccm。
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