CN112305780B - 一种高增透镀膜防雾树脂镜片 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种高增透镀膜防雾树脂镜片及其制备方法，该镜片包括镜片基体和基体内外两面的加硬层，所述内外两面的加硬层表面都镀有高增透防雾膜层，所述高增透防雾膜层包括多个无机物分层，其中包括羟基磷灰石和氧化铈混合物层，氧化铝和氧化锆混合物层。通过引进新的镀膜材料，在加硬层表面镀制高增透防雾膜层，不但可以提高其耐摩擦能力，而且可以提高透过率。该高增透防雾膜层增加了水分子的亲和力，降低了水接触角，便于水汽形成水薄膜，易挥发；同时加工温度低，与加硬层粘结力好，工艺流程更顺，避免了中间过程由于毛头垃圾的影响，导致镜片报废，合格率低的问题。
Description
技术领域
本发明属于树脂镜片领域，更具体地，涉及一种高增透镀膜防雾树脂镜片。
背景技术
和无机玻璃镜片相比，光学树脂镜片凭借自身的优点，比如重量轻、韧性好、价格便宜等等，已经越来越受广大消费者的欢迎。但是佩戴眼镜的人都会发现，当树脂镜片在温差的环境里特别容易产生雾滴，形成雾滴的原理是气温降低造成树脂镜片表面水的饱和蒸气压低于空气中的水蒸气分压，使水蒸气凝结成小水滴。这些雾滴会对光线产生折射和散射，改变了镜片的光学性质，影响透光性，由此给生活带来诸多不便。
目前，也已经针对树脂镜片有了大量的防雾方面的研发，但是现有的防雾涂料主要是一些亲水性高分子涂料，仅仅是采用浸涂或者旋涂等方式把亲水的防雾涂层镀在未加硬镀膜的树脂镜片上。如果树脂没有加硬镀膜的话，其耐磨性能差，容易划伤；透过率低，影响透光效果。如果在在加硬镀膜层上喷涂或者浸涂防雾涂料，则其固化温度一般都要超过100℃，如此高的温度，会使加硬层开裂，而且，防雾涂料在加硬层上的附着力很差。因此现有防雾镜片虽然有一定的防雾效果，但结构和工艺均存在一定的缺陷，舒适性非常差且耐久性也不好。
发明内容
本发明的目的是克服以上不足，设计了一种高增透镀膜防雾树脂镜片，并公开了其制备方法，选择了新的镀膜药品组合，在镀膜时形成一种无机防雾膜层，可以镀制在加硬层上，加工温度低粘结力好，并且还能达到增加透过率的作用。
为了实现上述目的，本发明是通过以下技术方案实现的：
一种高增透镀膜防雾树脂镜片，包括镜片基体和基体内外两面的加硬层，所述内外两面的加硬层表面都镀有高增透防雾膜层，所述高增透防雾膜层包括多个无机物分层，其中包括羟基磷灰石和氧化铈混合物层，氧化铝和氧化锆混合物层。
本发明所述树脂基体包括折射率为1.50～1.74的树脂镜片。
本发明所述加硬层是有机硅类树脂，其厚度范围为1.0～10.0微米，优选的是1.5～5.0微米。
上述羟基磷灰石和氧化铈的混合物中，羟基磷灰石和氧化铈的质量比为1～9:9～1，优选质量比为4～6:6～4。
上述氧化铝和氧化锆的混合物中，氧化铝和氧化锆的质量比为 2～8:8～2，优选质量比为3～7:7～3。
本发明所述高增透防雾膜层包括二氧化硅层、二氧化锆层、羟基磷灰石和氧化铈混合物层以及氧化铝和氧化锆混合物层组成的5个分层，其厚度为50～400nm，优选厚度为100～250nm。
上述高增透防雾膜层的5个分层从内向外依次为第一层二氧化硅层，第二层二氧化锆层，第三层二氧化硅层，第四层氧化铝和氧化锆混合物层，第五层羟基磷灰石和氧化铈混合物层。
优选第一层二氧化硅层的厚度为50nm～200nm，第二层二氧化锆层的厚度为10nm～88nm，第三层二氧化硅层的厚度为8nm～54nm，第四层氧化铝和氧化锆的混合物层的厚度为5nm～20nm，第五层羟基磷灰石和氧化铈混合物层的厚度为4nm～15nm。
进一步优选第一层二氧化硅层的厚度为60nm～100nm，第二层二氧化锆层的厚度为20nm～50nm，第三层二氧化硅层的厚度为15nm～35nm，第四层氧化铝和氧化锆的混合物层的厚度为8nm～16nm，第五层羟基磷灰石和氧化铈混合物层的厚度为5nm～10nm。
一种高增透镀膜防雾树脂镜片的制备方法，包括以下步骤：
(1)浸涂加硬层：将镜片基体在加硬液中进行浸涂处理，然后在 100～120℃下固化2～3小时；所述加硬液为有机硅类加硬液；所述浸涂工艺为：将镜片基体放入加硬液中，下落速度为每秒3～4mm，待镜片基体全部没入加硬液后，浸渍时间10～50s，然后将镜片提起，上升速度为每秒3～4mm，提拉时间20～60s。
(2)真空镀膜：将固化好加硬膜层的镜片进行真空蒸发镀膜，在加硬膜层上，依次蒸镀第一层二氧化硅、第二层二氧化锆、第三层二氧化硅，第四层氧化铝和氧化锆的混合物，第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物。
上述真空镀膜步骤中，可以设置第一层二氧化硅层厚度为 50nm～200nm，蒸发速率为0.8nm/s～1.2nm/s；第二层二氧化锆层厚度为 10nm～88nm，蒸发速率为0.4nm/s～0.6nm/s；第三层二氧化硅层厚度为 8nm～54nm，蒸发速率为0.6nm/s～0.8nm/s；第四层氧化铝和氧化锆的混合物层厚度为5nm～20nm，蒸发速率为0.08nm/s～0.25nm/s；第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物层厚度为4nm～15nm，蒸发速率为0.08nm/s～0.25nm/s。
具体操作步骤如下：
镀膜室温度设定在50-60℃，真空抽至压力5×10-5Pa，打开离子源和电子枪，溅射旋转沉积并镀制在树脂镜片基片的氧化硅加硬膜层上，调整第一层二氧化硅药槽至指定位置对其使用电子枪预熔、蒸发，预熔功率设定为10％～13％，预熔时间为10S～15S，预熔维持阶段功率设定为14％～17％，预熔维持阶段时间设置为10S～16S，设定蒸发速率为0.8nm/s～1.2nm/s,镀制第一层二氧化硅层厚度为50nm～200nm；调整第二层二氧化锆药槽至指定位置对其使用电子枪预熔、蒸发，预熔功率设定为20％～22％，预熔时间为 13S～16S，预熔维持阶段功率设定为22％～25％，预熔维持阶段时间设置为10S～14S，设定蒸发速率为0.4nm/s～0.6nm/s,镀制第二层二氧化锆层厚度为 10nm～88nm；调整第三层二氧化硅药槽至指定位置对其使用电子枪预熔、蒸发，预熔功率设定为8％～11％，预熔时间为10S～15S，预熔维持阶段功率设定为12％～15％，预熔维持阶段时间设置为10S～16S，设定蒸发速率为 0.6nm/s～0.8nm/s,镀制第三层二氧化硅层厚度为8nm～54nm；调整第四层氧化铝和氧化锆混合物的药槽至指定位置对其使用电子枪充氧预熔、充氧蒸发，充氧流量是设定为12sccm,预熔功率设定为20％～25％，预熔时间为 60S～70S，预熔维持阶段功率设定为18％～22％，预熔维持阶段时间设置为 20S～50S，设定蒸发速率为0.08nm/s～0.25nm/s,镀制第四层氧化铝和氧化锆的混合物层厚度为5nm～20nm；调整第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物药槽至指定位置对其使用电子枪充氧预熔、充氧蒸发，充氧流量是设定为10sccm,预熔功率设定为7％～15％，预熔时间为90S～110S，预熔维持阶段功率设定为10％～18％，预熔维持阶段时间设置为100S～130S，设定蒸发速率为0.08nm/s～0.25nm/s，镀制第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物层厚度为 4nm～15nm。该步骤中，所述药品的预熔是保证混合均匀，减少镀膜时间，本领域技术人员可根据实际情况进行调整。
上述真空镀膜步骤中，还可以设置第一层二氧化硅层厚度为60nm ～100nm，蒸发速率为0.9nm/s～1.1nm/s；第二层二氧化锆层厚度为20nm ～50nm，蒸发速率为0.45nm/s～0.55nm/s；第三层二氧化硅层厚度为15nm ～35nm，蒸发速率为0.65nm/s～0.75nm/s；第四层氧化铝和氧化锆混合物层厚度为8nm～16nm，蒸发速率为0.10nm/s～0.20nm/s；第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物层的厚度为5nm～10nm，蒸发速率为0.10nm/s～0.20nm/s。
具体操作步骤如下：
镀膜室温度设定在50-60℃，真空抽至压力5×10-5Pa，打开离子源和电子枪，溅射旋转沉积并镀制在树脂镜片基片的氧化硅加硬膜层上，调整第一层二氧化硅药槽至指定位置对其使用电子枪预熔、蒸发，预熔功率设定为11％～13％，预熔时间为11S～14S，预熔维持阶段功率设定为15％～16％，预熔维持阶段时间设置为11S～15S，设定蒸发速率为0.9nm/s～1.1nm/s,镀制第一层二氧化硅层厚度为60nm～100nm；调整第二层二氧化锆药槽至指定位置对其使用电子枪预熔、蒸发，预熔功率设定为20％～22％，预熔时间为 13S～16S，预熔维持阶段功率设定为23％～24％，预熔维持阶段时间设置为 11S～13S，设定蒸发速率为0.45nm/s～0.55nm/s,镀制第二层二氧化锆层厚度为20nm～50nm；调整第三层二氧化硅药槽至指定位置对其使用电子枪预熔、蒸发，预熔功率设定为8％～11％，预熔时间为11S～14S，预熔维持阶段功率设定为12％～15％，预熔维持阶段时间设置为11S～15S，设定蒸发速率为 0.65nm/s～0.75nm/s,镀制第三层二氧化硅层厚度为15nm～35nm；调整第四层氧化铝和氧化锆混合物的药槽至指定位置对其使用电子枪充氧预熔、充氧蒸发，充氧流量是设定为12sccm,预熔功率设定为21％～24％，预熔时间为 60S～70S，预熔维持阶段功率设定为18％～22％，预熔维持阶段时间设置为 20S～50S，设定蒸发速率为0.10nm/s～0.20nm/s,镀制第四层氧化铝和氧化锆的混合物层厚度为8nm～16nm；调整第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物药槽至指定位置对其使用电子枪充氧预熔、充氧蒸发，充氧流量是设定为 10sccm,预熔功率设定为7％～15％，预熔时间为90S～110S，预熔维持阶段功率设定为11％～17％，预熔维持阶段时间设置为100S～130S，设定蒸发速率为0.10nm/s～0.20nm/s,镀制第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物层厚度为 5nm～10nm。该步骤中，所述药品的预熔是保证混合均匀，减少镀膜时间，本领域技术人员可根据实际情况进行调整。
与现有技术相比，本发明的有益效果为：通过引进新的镀膜材料，在加硬层表面镀制高增透防雾膜层，不但可以提高其耐摩擦能力，而且可以提高透过率。该高增透防雾膜层增加了水分子的亲和力，降低了水接触角，便于水汽形成水薄膜，易挥发；同时加工温度低，与加硬层粘结力好，工艺流程更顺，避免了中间过程由于毛头垃圾的影响，导致镜片报废，合格率低的问题。此外，该膜层不但可以提高可见光透过率，达到96.5％以上，而且防雾效果持久，并且可以通过国标的耐磨测试、百格等膜层测试。
具体实施方式
下面将结合具体实施例更详细地描述本发明的优选实施方式。
实施例1
一种高增透镀膜防雾树脂镜片，包括镜片基体和基体内外两面的加硬层，所述内外两面的加硬层表面都镀有高增透防雾膜层，所述镜片基体为 1.50(CR-39)，所述加硬层是有机硅类树脂，其厚度为1.0微米。所述高增透防雾膜层包括五个分层，第一层二氧化硅层的厚度为50nm，第二层二氧化锆层的厚度为10nm，第三层二氧化硅层的厚度为8nm，第四层氧化铝和氧化锆的混合物层的厚度为5nm，其中氧化铝和氧化锆的质量比为1:4，第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物层的厚度为4nm，其中羟基磷灰石和氧化铈的质量比为1:9。
上述高增透镀膜防雾树脂镜片，是通过以下方法制备得到的：
(1)浸涂加硬层：将镜片基体在加硬液中进行浸涂处理，然后在 100～120℃下固化2～3小时；所述加硬液为有机硅类加硬液；所述浸涂工艺为：将镜片基体放入加硬液中，下落速度为每秒3～4mm，待镜片基体全部没入加硬液后，浸渍时间10～50s，然后将镜片提起，上升速度为每秒3～4mm，提拉时间20～60s。
(2)真空镀膜：镀膜室温度设定在50-60℃，真空抽至压力5×10-5Pa，打开离子源和电子枪，溅射旋转沉积并镀制在树脂镜片基片的氧化硅加硬膜层上，调整第一层二氧化硅药槽至指定位置对其使用电子枪预熔、蒸发，预熔功率设定为10％～13％，预熔时间为10S～15S，预熔维持阶段功率设定为14％～17％，预熔维持阶段时间设置为10S～16S，设定蒸发速率为 0.8nm/s～1.2nm/s,镀制第一层二氧化硅层；调整第二层二氧化锆药槽至指定位置对其使用电子枪预熔、蒸发，预熔功率设定为20％～22％，预熔时间为 13S～16S，预熔维持阶段功率设定为22％～25％，预熔维持阶段时间设置为 10S～14S，设定蒸发速率为0.4nm/s～0.6nm/s,镀制第二层二氧化锆层；调整第三层二氧化硅药槽至指定位置对其使用电子枪预熔、蒸发，预熔功率设定为8％～11％，预熔时间为10S～15S，预熔维持阶段功率设定为12％～15％，预熔维持阶段时间设置为10S～16S，设定蒸发速率为0.6nm/s～0.8nm/s,镀制第三层二氧化硅层；调整第四层氧化铝和氧化锆混合物的药槽至指定位置对其使用电子枪充氧预熔、充氧蒸发，充氧流量是设定为12sccm,预熔功率设定为20％～25％，预熔时间为60S～70S，预熔维持阶段功率设定为 18％～22％，预熔维持阶段时间设置为20S～50S，设定蒸发速率为 0.08nm/s～0.25nm/s,镀制第四层氧化铝和氧化锆的混合物层；调整第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物药槽至指定位置对其使用电子枪充氧预熔、充氧蒸发，充氧流量是设定为10sccm,预熔功率设定为7％～15％，预熔时间为 90S～110S，预熔维持阶段功率设定为10％～18％，预熔维持阶段时间设置为 100S～130S，设定蒸发速率为0.08nm/s～0.25nm/s,镀制第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物层。该步骤中，所述药品的预熔是保证混合均匀，减少镀膜时间，本领域技术人员可根据实际情况进行调整。
实施例2
一种高增透镀膜防雾树脂镜片，包括镜片基体和基体内外两面的加硬层，所述内外两面的加硬层表面都镀有高增透防雾膜层，所述镜片基体为 1.50(CR-39)，所述加硬层是有机硅类树脂，其厚度为1.5微米。所述高增透防雾膜层包括五个分层，第一层二氧化硅层的厚度为60nm，第二层二氧化锆层的厚度为20nm，第三层二氧化硅层的厚度为15nm，第四层氧化铝和氧化锆的混合物层的厚度为8nm，其中氧化铝和氧化锆的质量比为1:1，第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物层的厚度为5nm，其中羟基磷灰石和氧化铈的质量比为1:1。
上述高增透镀膜防雾树脂镜片，是通过以下方法制备得到的：
(1)浸涂加硬层：将镜片基体在加硬液中进行浸涂处理，然后在 100～120℃下固化2～3小时；所述加硬液为有机硅类加硬液；所述浸涂工艺为：将镜片基体放入加硬液中，下落速度为每秒3～4mm，待镜片基体全部没入加硬液后，浸渍时间10～50s，然后将镜片提起，上升速度为每秒3～4mm，提拉时间20～60s。
(2)真空镀膜：镀膜室温度设定在50-60℃，真空抽至压力5×10-5Pa，打开离子源和电子枪，溅射旋转沉积并镀制在树脂镜片基片的氧化硅加硬膜层上，调整第一层二氧化硅药槽至指定位置对其使用电子枪预熔、蒸发，预熔功率设定为11％～13％，预熔时间为11S～14S，预熔维持阶段功率设定为15％～16％，预熔维持阶段时间设置为11S～15S，设定蒸发速率为 0.9nm/s～1.1nm/s,镀制第一层二氧化硅层厚度为60nm～100nm；调整第二层二氧化锆药槽至指定位置对其使用电子枪预熔、蒸发，预熔功率设定为 20％～22％，预熔时间为13S～16S，预熔维持阶段功率设定为23％～24％，预熔维持阶段时间设置为11S～13S，设定蒸发速率为0.45nm/s～0.55nm/s,镀制第二层二氧化锆层厚度为20nm～50nm；调整第三层二氧化硅药槽至指定位置对其使用电子枪预熔、蒸发，预熔功率设定为8％～11％，预熔时间为 11S～14S，预熔维持阶段功率设定为12％～15％，预熔维持阶段时间设置为 11S～15S，设定蒸发速率为0.65nm/s～0.75nm/s,镀制第三层二氧化硅层厚度为15nm～35nm；调整第四层氧化铝和氧化锆混合物的药槽至指定位置对其使用电子枪充氧预熔、充氧蒸发，充氧流量是设定为12sccm,预熔功率设定为21％～24％，预熔时间为60S～70S，预熔维持阶段功率设定为18％～22％，预熔维持阶段时间设置为20S～50S，设定蒸发速率为0.10nm/s～0.20nm/s,镀制第四层氧化铝和氧化锆的混合物层厚度为8nm～16nm；调整第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物药槽至指定位置对其使用电子枪充氧预熔、充氧蒸发，充氧流量是设定为10sccm,预熔功率设定为7％～15％，预熔时间为90S～110S，预熔维持阶段功率设定为11％～17％，预熔维持阶段时间设置为 100S～130S，设定蒸发速率为0.10nm/s～0.20nm/s,镀制第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物层厚度为5nm～10nm。该步骤中，所述药品的预熔是保证混合均匀，减少镀膜时间，本领域技术人员可根据实际情况进行调整。
实施例3
一种高增透镀膜防雾树脂镜片，包括镜片基体和基体内外两面的加硬层，所述内外两面的加硬层表面都镀有高增透防雾膜层，所述镜片基体为 1.56(丙烯酸树脂)，所述加硬层是有机硅类树脂，其厚度为2.5微米。所述高增透防雾膜层包括五个分层，第一层二氧化硅层的厚度为80nm，第二层二氧化锆层的厚度为30nm，第三层二氧化硅层的厚度为20nm，第四层氧化铝和氧化锆的混合物层的厚度为10nm，其中氧化铝和氧化锆的质量比为2:1，第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物层的厚度为8nm，其中羟基磷灰石和氧化铈的质量比为4:1。
上述高增透镀膜防雾树脂镜片的制备方法同实施例2。
实施例4
一种高增透镀膜防雾树脂镜片，包括镜片基体和基体内外两面的加硬层，所述内外两面的加硬层表面都镀有高增透防雾膜层，所述镜片基体为 1.74(MR174)，所述加硬层是有机硅类树脂，其厚度为2.5微米。所述高增透防雾膜层包括五个分层，第一层二氧化硅层的厚度为100nm，第二层二氧化锆层的厚度为50nm，第三层二氧化硅层的厚度为35nm，第四层氧化铝和氧化锆的混合物层的厚度为16nm，其中氧化铝和氧化锆的质量比为 2:1，第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物层的厚度为10nm，其中羟基磷灰石和氧化铈的质量比为4:1。
上述高增透镀膜防雾树脂镜片的制备方法同实施例2。
对比例1
镜片基体为折射率1.50的CR39单体，将镜片清洗干净，烘干后将镜片浸泡在加硬液中，一段时间后进行烘干形成1.5微米厚度的加硬层。用低温等离子表面处理对镜片进行表面处理，采用喷涂、涂抹或者滴涂方法使镜片两侧完整覆盖防雾亲水涂料，采用热风干燥形成防雾化涂层。
对比例2
一种高增透镀膜防雾树脂镜片，包括镜片基体和基体内外两面的加硬层，所述内外两面的加硬层表面都镀有高增透防雾膜层，所述镜片基体为 1.50(CR-39)，所述加硬层是有机硅类树脂，其厚度为1.0微米。所述高增透防雾膜层包括五个分层，第一层二氧化硅层的厚度为30nm，第二层二氧化锆层的厚度为5nm，第三层二氧化硅层的厚度为5nm，第四层氧化铝和氧化锆的混合物层的厚度为3nm，其中氧化铝和氧化锆的质量比为1:4，第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物层的厚度为3nm，其中羟基磷灰石和氧化铈的质量比为1:9。其制备方法同实施例1。
对比例3
一种高增透镀膜防雾树脂镜片，包括镜片基体和基体内外两面的加硬层，所述内外两面的加硬层表面都镀有高增透防雾膜层，所述镜片基体为1.50(CR-39)，所述加硬层是有机硅类树脂，其厚度为1.0微米。所述高增透防雾膜层包括五个分层，第一层二氧化硅层的厚度为250nm，第二层二氧化锆层的厚度为100nm，第三层二氧化硅层的厚度为60nm，第四层氧化铝和氧化锆的混合物层的厚度为30nm，其中氧化铝和氧化锆的质量比为 1:4，第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物层的厚度为20nm，其中羟基磷灰石和氧化铈的质量比为1:9。其制备方法同实施例1。
对比例4
一种高增透镀膜防雾树脂镜片，包括镜片基体和基体内外两面的加硬层，所述内外两面的加硬层表面都镀有高增透防雾膜层，所述镜片基体为 1.50(CR-39)，所述加硬层是有机硅类树脂，其厚度为1.0微米。所述高增透防雾膜层包括五个分层，第一层二氧化锆层的厚度为20nm，第二层二氧化硅层的厚度为50nm，第三层二氧化硅层的厚度为15nm，第四层羟基磷灰石和氧化铈的混合物层的厚度为5nm，其中羟基磷灰石和氧化铈的质量比为1:9，第五层氧化铝和氧化锆的混合物层的厚度为8nm，其中氧化铝和氧化锆的质量比为1:4。其制备方法中，根据各膜层的设置顺序调整参数，其余同实施例1。
通过实验验证实施例和对比例所述镜片的防雾效果及镜片质量对比如下表：
注：可见光透过率测试仪器TM-3；耐热性：时间240h温度120℃无起雾为通过；耐湿性：为 50℃95％湿度下240h无起雾为通过；耐水性：40℃温水浸泡240h无起雾为通过；耐摩擦性：负重 500克钢丝绒1000个循环，雾度变化小于10％；湿百格：为纯水下煮半个小时后并冷却后拉百格，脱落面积小于10％为通过，一点不脱落B5，小于10％B4，小于30％B3，小于50％B2，小于80％B1，全脱落B0；防雾性能：60℃的温水蒸气5分钟不起雾为通过。
由上表中可知，本发明实施例所制备的镜片可见光透过率高，防雾性能好，耐热性、耐水性、耐摩擦性能都达到较高标准要求，且膜层粘结力好，不会脱落；由对比例1可知，现有技术制备的防雾镜片可见光透过率低于本发明，耐摩擦力不好，粘结力差，容易脱落；由对比例2～对比例4 可知，通过调节不同层的顺序或者层厚，所制得镜片虽然有的能够通过防雾性测试，可见光透过率也较高，但是耐热性、耐水性、耐摩擦性和耐湿性不能都达到要求，且膜层均有不同程度的脱落。
以上已经描述了本发明的各实施例，上述说明是示例性的，并非穷尽性的，并且也不限于所披露的各实施例。在不偏离所说明的各实施例的范围和精神的情况下，对于本技术领域的普通技术人员来说许多修改和变更都是显而易见的。
Claims (7)
1.一种高增透镀膜防雾树脂镜片，包括镜片基体和基体内外两面的加硬层，其特征在于所述内外两面的加硬层表面都镀有高增透防雾膜层，所述高增透防雾膜层中包括多个无机物分层，其中包括羟基磷灰石和氧化铈的混合物层，氧化铝和氧化锆的混合物层；
所述高增透防雾膜层包括二氧化硅层、二氧化锆层、羟基磷灰石和氧化铈的混合物层以及氧化铝和氧化锆的混合物层组成的5个分层，5个膜层总厚度为50 nm ~400nm；
5个分层从内向外依次为第一层二氧化硅层，厚度为50 nm ~200 nm，第二层二氧化锆层，厚度为10 nm ~88 nm，第三层二氧化硅层，厚度为8 nm ~54 nm，第四层氧化铝和氧化锆的混合物层，厚度为5 nm ~20 nm，第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物层，厚度为4 nm ~15nm。
2.根据权利要求1所述的高增透镀膜防雾树脂镜片，其特征在于所述氧化铝和氧化锆的混合物层中，氧化铝和氧化锆的质量比为2~8:8~2。
3.根据权利要求1所述的高增透镀膜防雾树脂镜片，其特征在于所述羟基磷灰石和氧化铈的混合物层中，羟基磷灰石和氧化铈的质量比为1~9:9~1。
4.根据权利要求1所述的高增透镀膜防雾树脂镜片，其特征在于所述第一层二氧化硅层的厚度为60 nm ~100nm，第二层二氧化锆层的厚度为20 nm ~50nm，第三层二氧化硅层的厚度为15 nm ~35nm，第四层氧化铝和氧化锆的混合物层的厚度为8 nm ~16nm，第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物层的厚度为5 nm ~10nm。
5.一种高增透镀膜防雾树脂镜片的制备方法，其特征在于包括以下步骤：
(1)浸涂加硬层：将镜片基体在加硬液中进行浸涂处理，然后在100~120℃下固化2~3小时；所述加硬液为有机硅类加硬液；
(2)真空镀膜：将固化好加硬膜层的镜片进行真空蒸发镀膜，在加硬层上，依次蒸镀第一层二氧化硅层、第二层二氧化锆层、第三层二氧化硅层，第四层氧化铝和氧化锆混合物层，第五层羟基磷灰石和氧化铈混合物层，5个膜层总厚度为50 nm ~400nm；5个分层从内向外依次为第一层二氧化硅层，厚度为50 nm ~200 nm，第二层二氧化锆层，厚度为10 nm ~88nm，第三层二氧化硅层，厚度为8 nm ~54 nm，第四层氧化铝和氧化锆的混合物层，厚度为5nm ~20 nm，第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物层，厚度为4 nm ~15nm。
6.根据权利要求5所述的高增透镀膜防雾树脂镜片的制备方法，其特征在于所述真空镀膜步骤中：第一层二氧化硅层厚度为50nm~200nm，蒸发速率为0.8nm/s~1.2nm/s；第二层二氧化锆层厚度为10nm~88nm，蒸发速率为0.4nm/s~0.6nm/s；第三层二氧化硅层厚度为8nm~54nm，蒸发速率为0.6nm/s~0.8nm/s；第四层氧化铝和氧化锆的混合物层厚度为5nm~20nm，蒸发速率为0.08nm/s~0.25nm/s；第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物层厚度为4nm~15nm，蒸发速率为0.08nm/s~0.25nm/s。
7.根据权利要求5所述的高增透镀膜防雾树脂镜片的制备方法，其特征在于所述真空镀膜步骤中：
第一层二氧化硅层厚度为60 nm ~100nm，蒸发速率为0.9nm/s~1.1nm/s；第二层二氧化锆层厚度为20nm ~50nm，蒸发速率为0.45nm/s~0.55nm/s；第三层二氧化硅层厚度为15nm ~35nm，蒸发速率为0.65nm/s~0.75nm/s；第四层氧化铝和氧化锆混合物层厚度为8nm~16nm，蒸发速率为0.10nm/s~0.20nm/s；第五层羟基磷灰石和氧化铈的混合物层的厚度为5nm ~10nm，蒸发速率为0.10nm/s~0.20nm/s。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
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