CN109656054A - 彩膜基板的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种彩膜基板的制造方法，包括：减反射薄膜设置步骤、底面曝光步骤、顶面曝光步骤、显影步骤、以及导电聚合物薄膜设置步骤。本发明彩膜基板的制造方法通过在所述基板与导电聚合物薄膜之间设置负型减反射材料层，且负型减反射材料层的折射率大于基板的折射率且小于导电聚合物薄膜的折射率，利用光从光疏进入光密介质形成半波损失减少反射光能量，降低液晶显示装置光线的反射率，改善视觉效果。

Description

彩膜基板的制造方法
技术领域
本发明是有关于一种彩膜基板的制造方法，其适用于黑色矩阵(Black Matrix onArray,BOA)技术。
背景技术
黑色矩阵(Black Matrix on Array,BOA)技术是一种将彩膜层及遮光层直接制作在阵列基板上的一种集成技术，它能够有效解决成盒工艺中因对位偏差造成的漏光问题，并能显著提升显示像素开口率及减少寄生电容，有望成为主流技术。
然而，此种显示屏由于没有彩膜层的过滤作用，白光可直接穿透玻璃、液晶直接射到阵列基板，从而在玻璃、彩膜透明导电膜、液晶、阵列透明导电膜等各个表面形成反射面，反光效果加剧，在暗态时表现更为明显，影响视觉效果。为了降低反射率，目前的方案是在玻璃表面粘贴一层反射率更低的偏光片(价格更高)，然而，额外的偏光片导致制造成本的增加。
故，有必要提供一种彩膜基板的制造方法，以解决现有技术所存在的问题。
发明内容
本发明提供一种彩膜基板的制造方法，以解决现有采用黑色矩阵(Black Matrixon Array,BOA)技术的显示屏必须采用偏光片导致制造成本的增加的技术问题。
本发明的主要目的在于提供一种彩膜基板的制造方法，包括：
减反射薄膜设置步骤，包括涂布一负型减反射材料层到一透明的基板的上表面上；
底面曝光步骤，包括从所述基板的下表面对所述负型减反射材料层进行背面曝光，曝光光线穿过所述基板照射而到所述负型减反射材料层上，使所述负型减反射材料层邻接所述基板的底面部分固化而形成一固化层；
顶面曝光步骤，包括通过一半色调光罩，从所述基板的所述上表面对所述负型减反射材料层进行正面曝光，使所述负型减反射材料层的顶面部分固化而形成多个固化部；
显影步骤，包括对所述负型减反射材料层进行显影，将所述负型减反射材料层上未固化的部分去除，以使所述固化层形成一减反射薄膜层，并使所述多个固化部分别形成位于所述减反射薄膜层上的多个彩膜隔垫物；以及
导电聚合物薄膜设置步骤，包括涂布一导电聚合物薄膜到所述减反射薄膜层以及所述多个彩膜隔垫物上。
于本发明较佳实施例中，所述负型减反射材料层的厚度大于或等于2um。
于本发明较佳实施例中，所述半色调光罩包括遮光区、多个半透光区及多个全透光区，所述固化部是经由所述半透光区及所述全透光区而形成，通过所述半透光区所形成的所述固化部的尺寸小于通过所述全透光区所形成的所述固化部的尺寸。
于本发明较佳实施例中，各所述彩膜隔垫物为倒梯形而具有一宽顶部以及一窄底部，所述窄底部连接所述减反射薄膜层；在所述导电聚合物薄膜设置步骤中，通过呈倒梯形的所述彩膜隔垫物，使得所述导电聚合物薄膜位于彩膜隔垫物的宽顶部的较上部分与所述导电聚合物薄膜位于所述减反射薄膜层的顶面的较下部分相互分离。
于本发明较佳实施例中，各所述彩膜隔垫物的宽顶部高于所述减反射薄膜层的顶面。
于本发明较佳实施例中，所述减反射薄膜层的折射率大于基板的折射率，且小于所述导电聚合物薄膜的折射率。
于本发明较佳实施例中，在所述底面曝光步骤中，控制曝光能量使所述负型减反射材料层的厚度e满足e＝(λ/4n)(2k+1)，其中λ为所需要增透的光的光波长，n为所述负型减反射材料层的折射率，k为自然数。
于本发明较佳实施例中，λ为绿光波长，且n满足n1<n<n2，其中n1和n2分别为所述基板和所述导电聚合物薄膜的折射率，n满足n＝(n1·n2)1/2。
于本发明较佳实施例中，所述基板以玻璃制造，所述导电聚合物薄膜以聚3,4-乙撑二氧噻吩(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene),PEDOT)制造，所述负型减反射材料层以聚酯类材料制造。
本发明的另一目的在于提供一种彩膜基板的制造方法，其特征在于：所述彩膜基板的制造方法，包括：
减反射薄膜设置步骤，包括涂布一负型减反射材料层到一透明的基板的上表面上；
底面曝光步骤，包括从所述基板的下表面对所述负型减反射材料层进行背面曝光，曝光光线穿过所述基板而照射到所述负型减反射材料层上，使所述负型减反射材料层邻接所述基板的底面部分固化而形成一固化层；
顶面曝光步骤，包括通过一半色调光罩，从所述基板的所述上表面对所述负型减反射材料层进行正面曝光，使所述负型减反射材料层的顶面部分固化而形成多个固化部；
显影步骤，包括对所述负型减反射材料层进行显影，将所述负型减反射材料层上未固化的部分去除，以使所述固化层形成一减反射薄膜层，并使所述多个固化部分别形成位于所述减反射薄膜层上的多个彩膜隔垫物；以及导电聚合物薄膜设置步骤，包括涂布一导电聚合物薄膜到所述减反射薄膜层以及所述多个彩膜隔垫物上；
其中，所述减反射薄膜层的折射率大于所述基板的折射率，且小于所述导电聚合物薄膜的折射率；
其中，所述基板以玻璃制造，所述导电聚合物薄膜以聚3,4-乙撑二氧噻吩(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene),PEDOT)制造，所述负型减反射材料层以聚酯类材料制造。
与现有技术相比较，本发明彩膜基板的制造方法通过在所述基板与导电聚合物薄膜之间设置负型减反射材料层，且负型减反射材料层的折射率大于所述基板的折射率且小于导电聚合物薄膜的折射率，利用光从光疏进入光密介质形成半波损失减少反射光能量，降低液晶显示装置光线的反射率，改善视觉效果；且负型减反射材料层与彩膜隔垫物仅需一道制程，大大简化了工艺流程，降低成本并缩短生产周期；另外，整张彩膜基板均为有机材料，柔韧性及材料层间接合性更好，有利于开发柔性显示面板。
为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：
附图说明
图1是一本发明实施例彩膜基板的制造方法的步骤流程图。
图2是本发明实施例对应彩膜基板的制造方法中的减反射薄膜设置步骤的彩膜基板半成品的侧面剖视图。
图3是本发明实施例对应彩膜基板的制造方法中的底面曝光步骤的彩膜基板半成品的侧面剖视图。
图4是本发明实施例对应彩膜基板的制造方法中的顶面曝光步骤的彩膜基板半成品的侧面剖视图。
图5是本发明实施例对应彩膜基板的制造方法中的显影步骤的彩膜基板半成品的侧面剖视图。
图6是本发明实施例对应彩膜基板的制造方法中的导电聚合物薄膜设置步骤的彩膜基板半成品的侧面剖视图。
具体实施方式
请参照图1，本发明实施例彩膜基板的制造方法包括：减反射薄膜设置步骤S01、底面曝光步骤S02、顶面曝光步骤S03、显影步骤S04、以及导电聚合物薄膜设置步骤S05。
请参照图2，所述减反射薄膜设置步骤S01，包括涂布一负型减反射材料层20到一透明的基板10的上表面11上。于本发明较佳实施例中，所述负型减反射材料层20的厚度大于或等于2um。于本发明较佳实施例中，所述基板10以玻璃制造。
请参照图3，所述底面曝光步骤S02，包括从所述基板10的下表面12对所述负型减反射材料层20进行背面曝光，曝光光线穿过基板10照射到所述负型减反射材料层20上，使所述负型减反射材料层20邻接所述基板10的底面部分固化而形成一固化层25。
于本发明较佳实施例中，在所述底面曝光步骤S02中，控制曝光能量使所述负型减反射材料层20的厚度e满足e＝(λ/4n)(2k+1)，其中λ为所需要增透的光的光波长，n为所述负型减反射材料层20的折射率，k为自然数。于本发明较佳实施例中，λ为绿光波长，约550nm，绿光是对人视觉较为敏感，且n满足n1<n<n2，其中n1和n2分别为所述玻璃基板10和导电聚合物薄膜40(聚3,4-乙撑二氧噻吩(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene),PEDOT))(导电聚合物薄膜40将在下列步骤提到)的折射率。于本发明较佳实施例中，n满足n＝(n1·n2)1/2。于本发明较佳实施例中，所述负型减反射材料层20可以聚酯类材料制造，所述聚酯类材料折射率约1.7。
请参照图4，所述顶面曝光步骤S03，包括通过一半色调光罩，从所述基板10的上表面11对所述负型减反射材料层20进行正面曝光，使所述负型减反射材料层20的顶面部分固化而形成多个固化部26。于本发明较佳实施例中，所述半色调光罩包括遮光区、多个半透光区及多个全透光区，所述固化部26是经由所述半透光区及所述全透光区而形成，通过所述半透光区所形成的所述固化部26的尺寸小于通过所述全透光区所形成的所述固化部26的尺寸。
请参照图5，所述显影步骤S04，包括对所述负型减反射材料层20进行显影，将所述负型减反射材料层20上未固化的部分去除，以使所述固化层25形成一减反射薄膜层25a，并使所述多个固化部26分别形成位于所述减反射薄膜层25a上的多个彩膜隔垫物26a。于本发明较佳实施例中，各所述彩膜隔垫物26a为倒梯形而具有一宽顶部261以及一窄底部263，所述窄底部263连接所述减反射薄膜层25a。于本发明较佳实施例中，各所述彩膜隔垫物26a的宽顶部261高于所述减反射薄膜层25a的顶面。
请参照图6，所述导电聚合物薄膜设置步骤S05，包括通过喷涂或喷墨打印技术，涂布一导电聚合物薄膜40到所述减反射薄膜层25a以及所述多个彩膜隔垫物26a上。于本发明较佳实施例中，在所述导电聚合物薄膜设置步骤S05中，通过呈倒梯形的所述彩膜隔垫物26a，使得所述导电聚合物薄膜40位于彩膜隔垫物26a的宽顶部261的较上部分41与所述导电聚合物薄膜40位于所述减反射薄膜层25a的顶面的较下部分43相互分离。于本发明较佳实施例中，所述导电聚合物薄膜40以聚3,4-乙撑二氧噻吩(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene),PEDOT)制造，PEDOT的折射率大于聚酯类材料折射率。于本发明较佳实施例中，所述减反射薄膜层25a的折射率大于所述基板10的折射率，且小于所述导电聚合物薄膜40的折射率。
相较于现有技术，本发明实施例彩膜基板的制造方法通过在所述基板10与导电聚合物薄膜40之间设置负型减反射材料层20，且负型减反射材料层20的折射率大于所述基板10的折射率且小于导电聚合物薄膜40的折射率，利用光从光疏进入光密介质形成半波损失减少反射光能量，降低液晶显示装置光线的反射率，改善视觉效果；且负型减反射材料层20与彩膜隔垫物26a仅需一道制程，大大简化了工艺流程，降低成本并缩短生产周期；另外，整张彩膜基板10均为有机材料，柔韧性及材料层间接合性更好，有利于开发柔性显示面板。

Claims (10)

1.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于：所述彩膜基板的制造方法，包括：
减反射薄膜设置步骤，包括涂布一负型减反射材料层到一透明的基板的上表面上；
底面曝光步骤，包括从所述基板的下表面对所述负型减反射材料层进行背面曝光，曝光光线穿过所述基板而照射到所述负型减反射材料层上，使所述负型减反射材料层邻接所述基板的底面部分固化而形成一固化层；
顶面曝光步骤，包括通过一半色调光罩，从所述基板的所述上表面对所述负型减反射材料层进行正面曝光，使所述负型减反射材料层的顶面部分固化而形成多个固化部；
显影步骤，包括对所述负型减反射材料层进行显影，将所述负型减反射材料层上未固化的部分去除，以使所述固化层形成一减反射薄膜层，并使所述多个固化部分别形成位于所述减反射薄膜层上的多个彩膜隔垫物；以及
导电聚合物薄膜设置步骤，包括涂布一导电聚合物薄膜到所述减反射薄膜层以及所述多个彩膜隔垫物上。
2.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于：所述负型减反射材料层的厚度大于或等于2um。
3.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于：所述半色调光罩包括遮光区、多个半透光区及多个全透光区，所述固化部是经由所述半透光区及所述全透光区而形成，通过所述半透光区所形成的所述固化部的尺寸小于通过所述全透光区所形成的所述固化部的尺寸。
4.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于：各所述彩膜隔垫物为倒梯形而具有一宽顶部以及一窄底部，所述窄底部连接所述减反射薄膜层；在所述导电聚合物薄膜设置步骤中，通过呈倒梯形的所述彩膜隔垫物，使得所述导电聚合物薄膜位于彩膜隔垫物的宽顶部的较上部分与所述导电聚合物薄膜位于所述减反射薄膜层的顶面的较下部分相互分离。
5.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于：各所述彩膜隔垫物的宽顶部高于所述减反射薄膜层的顶面。
6.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于：所述减反射薄膜层的折射率大于所述基板的折射率，且小于所述导电聚合物薄膜的折射率。
7.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于：在所述底面曝光步骤中，控制曝光能量使所述负型减反射材料层的厚度e满足e＝(λ/4n)(2k+1)，其中λ为所需要增透的光的光波长，n为所述负型减反射材料层的折射率，k为自然数。
8.如权利要求7所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于：λ为绿光波长，且n满足n1<n<n2，其中n1和n2分别为所述基板和所述导电聚合物薄膜的折射率，n满足n＝(n1·n2)1/2。
9.如权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于：所述基板以玻璃制造，所述导电聚合物薄膜以聚3,4-乙撑二氧噻吩(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene),PEDOT)制造，所述负型减反射材料层以聚酯类材料制造。
10.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于：所述彩膜基板的制造方法，包括：
减反射薄膜设置步骤，包括涂布一负型减反射材料层到一透明的基板的上表面上；
底面曝光步骤，包括从所述基板的下表面对所述负型减反射材料层进行背面曝光，曝光光线穿过所述基板而照射到所述负型减反射材料层上，使所述负型减反射材料层邻接所述基板的底面部分固化而形成一固化层；
顶面曝光步骤，包括通过一半色调光罩，从所述基板的所述上表面对所述负型减反射材料层进行正面曝光，使所述负型减反射材料层的顶面部分固化而形成多个固化部；
显影步骤，包括对所述负型减反射材料层进行显影，将所述负型减反射材料层上未固化的部分去除，以使所述固化层形成一减反射薄膜层，并使所述多个固化部分别形成位于所述减反射薄膜层上的多个彩膜隔垫物；以及导电聚合物薄膜设置步骤，包括涂布一导电聚合物薄膜到所述减反射薄膜层以及所述多个彩膜隔垫物上；
其中，所述减反射薄膜层的折射率大于所述基板的折射率，且小于所述导电聚合物薄膜的折射率；
其中，所述基板以玻璃制造，所述导电聚合物薄膜以聚3,4-乙撑二氧噻吩(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene),PEDOT)制造，所述负型减反射材料层以聚酯类材料制造。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110082977A (zh) * 2019-05-15 2019-08-02 深圳市华星光电技术有限公司 一种tft阵列基板及显示面板
CN111123588A (zh) * 2020-02-16 2020-05-08 南京中电熊猫平板显示科技有限公司 一种彩膜基板及其制造方法
CN114265247A (zh) * 2021-12-20 2022-04-01 绵阳惠科光电科技有限公司 封装胶、显示面板以及显示装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105527744A (zh) * 2016-02-01 2016-04-27 武汉华星光电技术有限公司 彩膜基板的制作方法
US20160252771A1 (en) * 2015-02-27 2016-09-01 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display
CN108646482A (zh) * 2018-04-18 2018-10-12 深圳市华星光电技术有限公司 一种彩膜基板、液晶显示面板及彩膜基板的制备方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20160252771A1 (en) * 2015-02-27 2016-09-01 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display
CN105527744A (zh) * 2016-02-01 2016-04-27 武汉华星光电技术有限公司 彩膜基板的制作方法
CN108646482A (zh) * 2018-04-18 2018-10-12 深圳市华星光电技术有限公司 一种彩膜基板、液晶显示面板及彩膜基板的制备方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110082977A (zh) * 2019-05-15 2019-08-02 深圳市华星光电技术有限公司 一种tft阵列基板及显示面板
US11251202B2 (en) 2019-05-15 2022-02-15 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Thin film transistor (TFT) array substrate and display panel
CN111123588A (zh) * 2020-02-16 2020-05-08 南京中电熊猫平板显示科技有限公司 一种彩膜基板及其制造方法
CN114265247A (zh) * 2021-12-20 2022-04-01 绵阳惠科光电科技有限公司 封装胶、显示面板以及显示装置
CN114265247B (zh) * 2021-12-20 2023-05-12 绵阳惠科光电科技有限公司 封装胶、显示面板以及显示装置

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