CN109585696B - 掩膜组件及掩膜组件的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种掩膜组件及掩膜组件的制造方法，掩膜组件包括：掩膜框架，包括开口部；掩膜，布置在掩膜框架上；以及支撑杆，布置在掩膜框架与掩膜之间，并包括沿着长边而排列的第一夹紧部、中心部及第二夹紧部，并且中心部与所述掩膜重叠，支撑杆的中心线以经过所述支撑杆的短边的中点而穿过第一夹紧部和第二夹紧部的短边的中点的方式沿着长边延伸而被定义，支撑杆的重心定义于所述中心线上，中心部以中心线为基准而分为具有不同形状的第一部分及第二部分。

Description

掩膜组件及掩膜组件的制造方法

技术领域

本发明涉及一种掩膜组件及掩膜组件的制造方法，尤其涉及一种在掩膜框架及掩膜之间布置支撑杆而使沉积物质能够沉积于目标位置的掩膜组件及掩膜组件的制造方法。

背景技术

显示装置为了向用户提供多种视觉信息而通过显示区域输出影像或图像。显示装置中的有机发光显示装置具有视野宽、对比度优秀及响应速度快的优点。这种有机发光显示装置的显示区域由多个像素构成，并且多个像素可以通过沉积物质的沉积过程而形成显示区域。例如，可以利用高精度金属掩膜(FMM)将有机物沉积于基板上，从而形成所期望的图案的薄膜。

在有机物沉积过程中，为了在显示区域形成沉积物质无法穿过的非活性区域，在掩膜组件及掩膜之间布置支撑杆。此时，支撑杆以被施加张力的状态得到固定，且由于张力产生变形，从而存在无法在所期望的位置沉积有机物的问题。

发明内容

本发明涉及一种用于掩膜组件的支撑杆，其目的在于提供一种用于在施加张力的情况下最小化支撑杆的变形的掩膜组件。

根据本发明的一实施例的掩膜组件包括：掩膜框架，包括开口部；掩膜，布置在所述掩膜框架上；以及支撑杆，布置在所述掩膜框架与所述掩膜之间，并包括沿着长边而排列的第一夹紧部、中心部及第二夹紧部，并且所述中心部与所述掩膜重叠，所述支撑杆的中心线以经过所述支撑杆的短边的中点而穿过所述第一夹紧部和所述第二夹紧部的短边的中点的方式沿着所述长边延伸而被定义，所述支撑杆的重心定义于所述中心线上，所述中心部以所述中心线为基准而分为具有不同形状的第一部分及第二部分。

所述掩膜可以包括多个开口，所述多个开口由与所述支撑杆重叠的非活性区域以及作为与所述非活性区域以外的部分的活性区域定义。

所述第一部分及所述第二部分可以具有相同的面积。所述第一部分及所述第二部分各自的暴露的边中的至少一个可以具有图案部，所述暴露的边是所述支撑杆的所述长边的一部分。所述第一部分及所述第二部分各自的暴露的边可以包括彼此不同的图案部，所述暴露的边是所述支撑杆的所述长边的一部分。所述第一夹紧部及第二夹紧部的面积可以相同。所述支撑杆的厚度为50μm至150μm。所述支撑杆可以利用非磁性物质构成。

根据本发明的一实施例的掩膜组件包括：支撑杆，包括长边及短边，并包括沿着所述第一长边排列的第一夹紧部、中心部及第二夹紧部；多个掩膜，沿着所述长边方向排列，并且分别与所述支撑杆重叠；所述支撑杆的中心线，以如下方式定义：沿着所述长边方向延伸，并经过所述支撑杆的所述短边的中点而穿过所述第一夹紧部和所述第二夹紧部的短边的中点，所述中心部以所述中心线为基准而分为具有彼此不同的形状的第一部分及第二部分。

所述支撑杆可以配备多个，并且沿着所述短边方向而相隔布置。

所述掩膜可以包括多个开口，所述多个开口由与所述支撑杆重叠的非活性区域以及作为与所述非活性区域以外的部分的活性区域定义。

所述第一部分及所述第二部分可以具有相同面积。所述第一部分及所述第二部分各自的暴露的边中的至少一个可以具有图案部。所述第一部分及所述第二部分各自的暴露的边可以具有彼此不同的图案部。所述第一夹紧部及第二夹紧部的面积可以相同。

根据本发明的一实施例的掩膜组件制造方法包括如下步骤：提供包括开口部的掩膜框架；提供支撑杆，该支撑杆布置在所述掩膜框架上，包括长边及短边，并包括沿着长边排列的第一夹紧部、中心部及第二夹紧部；利用夹具固定所述第一夹紧部及所述第二夹紧部的至少一部分；提供布置在所述支撑杆上并包括多个开口的掩膜；将所述支撑杆布置在所述掩膜与所述掩膜组件之间，并将所述掩膜与所述掩膜组件接合。其中，所述支撑杆包括：中心线，以如下方式定义：沿着所述长边方向延伸，并经过所述支撑杆的所述短边的中点而穿过所述第一夹紧部和第二夹紧部的短边的中点，所述中心部以所述中心线为基准分为具有彼此不同的形状的第一部分及第二部分。

根据本发明的实施例，通过将支撑杆的短边的长度以由支撑杆的重心定义的中心线为基准而设定，从而可以在向支撑杆施加张力的情况下最小化张力导致的变形。因此，在沉积有机物时有机膜均匀地沉积，从而能够生产提高质量的显示装置。

附图说明

图1是根据本发明的一实施例的掩膜组件的立体图。

图2是示出根据本发明的一实施例的掩膜组件的局部的放大图。

图3是示出根据本发明的一实施例的显示区域的一部分的等价电路图。

图4a及图4b是分别示出根据本发明的一实施例的显示区域的局部的剖面图。

图5是示出根据本发明的一实施例的掩膜组件的局部的放大图。

图6是根据本发明的一实施例的支撑杆的平面图。

图7a及图7b是根据本发明的一实施例的支撑杆的平面图。

图8a至图8d是根据本发明的一实施例的掩膜组件制造方法的立体图。

符号说明

1000：掩膜组件 100：掩膜

110：多个开口 200：支撑杆

210：上端部 220：下端部

300：掩膜框架 310：框架开口部

400：母基板 VA：多个沉积区域

PD：图案部 WP：支撑杆重心

CL：中心线 CM：夹具

具体实施方式

本发明可以被加以多种变形并且可以具有多种形态，因此将特定实施例图示于附图并在本文中进行详细说明。但是，其目的不在于将本发明限定于特定的公开形态，应理解为包括被包含于本发明的思想及技术范围内的所有变形、等同物乃至替代物。

在对各个附图进行说明时，对于类似的构成要素使用类似的附图符号。在附图中，结构物的尺寸为了本发明的明确性而相比于实际有所放大或缩小示出。第一、第二等术语可以用于说明多种构成要素，但是构成要素不应被术语限定。术语仅用于区分一个构成要素与其他构成要素。例如，在不脱离本发明的权利范围的情况下，第一构成要素可以被命名为第二构成要素，类似地，第二构成要素可以被命名为第一构成要素。单数的表述在文章中没有明确相反含义的情况下包括复数的表述。

本申请中，“包括”或“具有”等术语用于指定说明书上记载的特征、数字、步骤、动作、构成要素、部件或其组合的存在，不应理解为预先排除一个或以上的其他特征、数字、步骤、动作、构成要素、部件或其组合的存在或附加可能性。

对于用于实现上述目的的本发明的实施例，参照附图对本发明的优选实施例进行详细说明。

图1是根据本发明的一实施例的掩膜组件的立体图。图2是示出根据本发明的一实施例的掩膜组件的局部的放大图。图3是示出根据本发明的一实施例的显示区域的一部分的等价电路图。图4a及图4b是分别示出根据本发明的一实施例的显示区域的局部的剖面图。

参照图1至图4b对掩膜组件进行说明。

参照图1，根据本发明的一实施例的掩膜组件1000可以包括掩膜100、支撑杆200、掩膜框架300及母基板400。

在将被包含于有机电致发光显示装置的多个薄膜图案通过掩膜组件1000形成于基板上时利用到掩膜组件1000。掩膜组件1000包括用于将多个薄膜图案形成于基板上的掩膜100、用于与薄膜图案对应的支撑杆200以及为了防止掩膜的下垂而固定掩膜的掩膜框架300。

掩膜100可以具有沿着第一方向D1延伸的长边以及沿着与第一方向D1交叉的第二方向D2延伸的短边。掩膜100可以被提供多个而沿着第二方向排列，并且可以是被分割的杆型掩膜。

掩膜100可以包括分别沿着掩膜100的厚度方向贯通掩膜100的多个开口110。掩膜100可以通过多个开口110将欲沉积的区域暴露于沉积物质(未示出)。提供的沉积物质可以沉积于布置于掩膜100下侧的母基板400。

多个开口110可以通过蚀刻法而制作。可以利用光刻胶(photoresist)在薄板形成具有与多个开口110相同的图案的光刻胶层，或者将具有与开口110对应的形状的薄膜附着于薄板后通过蚀刻薄板而制造。不仅如此，掩膜100可以通过电铸法(electro-forming)或者无电解镀覆法(Electroless plating)而制作。

支撑杆200可以具有沿着第一方向D1延伸的短边以及沿着与第一方向D1交叉的第二方向D2延伸的长边。支撑杆200的长边可以布置在掩膜100与掩膜框架300之间。支撑杆200可以以与掩膜100交叉的方式布置。并且，支撑杆200可以包括以与多个掩膜分别交叉的方式沿着第一方向D1相隔预定间距而排列的多个支承杆。支撑杆200的包括短边的两个末端可以沿着第二方向D2延伸而向掩膜框架300的外廓凸出。凸出的两个末端可以被从外部提供的夹具(未示出)等固定。在下文中进行对此的详细的说明。支撑杆200可以利用非磁性物质形成，厚度可以为50μm至150μm之间。

掩膜框架300可以具有框架开口部310。掩膜框架300可以布置在支撑杆200下侧。掩膜框架300支撑掩膜100及支撑杆200。在掩膜框架300上可以依次布置有支撑杆200、掩膜100，并且在掩膜框架300的背面可以布置有母基板400。

掩膜框架300可以由金属形成。例如，掩膜框架300为了容易与掩膜100结合而可以利用焊接时变形小的材料，例如刚性高的金属构成。虽未图示，但是在掩膜框架300形成有使掩膜框架300和掩膜100通过焊接结合的焊接部(未示出)，并且在这种焊接部周围产生高热，因此掩膜框架300可以利用热变形小的物质构成。

框架开口部310可以使作为沉积对象的母基板400暴露。框架开口部310形成为具有与母基板400上的多个沉积区域VA对应的面积，因此可以在沉积工序中使沉积物质通过。

母基板400布置在掩膜框架300的下侧。母基板400可以包括多个沉积区域VA。多个沉积区域VA可以沿着第一方向D1及第二方向D2而以矩阵形状排列。多个沉积区域VA可以是在提供沉积物质时通过掩膜100而暴露于沉积物质的区域。

参照图2，掩膜100可以被定义为作为使沉积物质通过多个开口110而穿过的区域的活性区域AS以及被支撑杆200覆盖而使沉积物质被阻断的非活性区域NAS。

显示区域DA可以被定义为相隔布置的支撑杆之间以及活性区域AS。

活性区域AS可以使沉积物质通过而沉积于母基板400，从而形成多个沉积区域VA。多个沉积区域VA可以分别与显示区域DA对应。

具体地，多个沉积区域VA可以以形成显示区域DA的部分元件的状态被提供。多个沉积区域VA可以是布置有晶体管、电容器等薄膜元件等的区域。

根据本发明的一实施例的显示区域DA包括多个像素。活性区域AS中的一开口OP可以与显示区域DA的一像素对应。图3中举例示出了多个像素中的一像素PX(i,j)的信号图，并且在图4a及图4b中示出了布置有一像素PX(i,j)的显示区域DA的剖面图。

像素PX(i,j)从第i个栅极线GLi接收栅极信号，并从第j个数据线DLj接收数据信号。并且，像素PX(i,j)从电源线KL接收第一电源电压ELVDD。像素PX(i,j)包括第一薄膜元件TFT1、第二薄膜元件TFT2、电容器Cap及有机发光元件。

第一薄膜元件TFT1响应于施加到第i个栅极线GLi的栅极信号而输出施加到第j个数据线DLj的数据信号。电容器Cap充电为与从所述第一薄膜元件TFT1接收的所述数据信号对应的电压。

第二薄膜元件TFT2连接于有机发光元件OLED。第二薄膜元件TFT2对应于存储于电容器Cap的电荷量而控制流动于有机发光元件OLED的驱动电流。

有机发光元件OLED包括连接于第二薄膜元件TFT2的第一电极(未示出)及接收第二电源电压ELVSS的第二电极(未示出)。第二电源电压ELVSS具有低于第一电源电压ELVDD的电平。

并且，有机发光元件OLED至少包括布置于第一电极与第二电极之间的有机发光层。所述有机发光元件OLED在所述第二薄膜元件TFT2的接通区间发光。

像素PX(i,j)的构成可以包括多种实施例，并且不限于任意一个实施例。

参照图4a至图4b，显示层DPL包括基层SUB、第一薄膜元件TFT1、第二薄膜元件TFT2、电容器Cap及有机发光元件OLED。基层SUB包括玻璃基板、金属基板及柔性塑料基板。

基层SUB上布置有第一薄膜元件TFT1的半导体图案AL1(以下称为第一半导体图案)、第二薄膜元件TFT2的半导体图案AL2(以下称为第二半导体图案)及绝缘层IL1。第一绝缘层IL1覆盖第一半导体图案AL1和第二半导体图案AL2。另外，在第一绝缘层IL1上可以布置有电容器Cap的第一电极CE1。

在第一绝缘层IL1上布置有第一薄膜元件TFT1的控制电极GE1(以下称为第一控制电极)、第二薄膜元件TFT2的控制电极GE2(以下称为第二控制电极)及第二绝缘层IL2。第二绝缘层IL2覆盖第一控制电极GE1和第二控制电极GE2。

第一绝缘层IL1及第二绝缘层IL2分别包括有机膜和/或无机膜。第一绝缘层IL1及第二绝缘层IL2可以分别包括多个薄膜。

在第二绝缘层IL2上布置有第一薄膜元件TFT1的输入电极SE1(以下称为第一输入电极)和输出电极DE1(以下称为第一输出电极)、第二薄膜元件TFT2的输入电极SE2(以下称为第二输入电极)及输出电极DE2(以下称为第二输出电极)以及第三绝缘层IL3。

另外，在第二绝缘层IL2上可以布置有电容器Cap的第二电极CE2。第三绝缘层IL3覆盖第一输入电极SE1、第一输出电极DE1、第二输入电极SE2、第二输出电极DE2及第二电极CE2。

第一输入电极SE1及第一输出电极DE1通过贯通第一绝缘层IL1及第二绝缘层IL2的第一贯通孔CH1及第二贯通孔CH2分别连接于第一半导体图案AL1。通过相同的方式，第二输入电极SE2及第二输出电极DE2通过贯通第一绝缘层IL1及第二绝缘层IL2的第三贯通孔CH3及第四贯通孔CH4分别与第二半导体图案AL2连接。

在第三绝缘层IL3上布置有有机发光元件OLED及像素定义膜PDL。像素定义膜PDL使第三绝缘层IL3中的与有机发光元件OLED重叠的区域暴露。像素定义膜PDL实质上定义发光区域。

有机发光元件OLED包括阳极电极AE、发光图案EML、阴极电极CE、在阳极电极AE与发光图案EML之间定义的空穴传输区域CL1(或者第一共同层)以及在发光图案EML与阴极电极CE之间定义的电子传输区域CL2，阳极电极AE布置在第三绝缘层IL3上。阳极电极AE具备为多个而且分别以与多个发光元件重叠的方式布置。像素定义膜PDL布置在阳极电极AE上，并使阳极电极AE的至少一部分暴露。另外，阳极电极AE通过被第三绝缘层IL3定义的第五贯通孔CH5而与第二输出电极DE2连接。

空穴传输区域CL1布置在阳极电极AE上而覆盖阳极电极AE及像素定义膜PDL。空穴传输区域CL1可以包括空穴注入层、空穴传输层及同时具有空穴注入功能及空穴传输功能的单层中的至少一个。

发光图案EML布置在空穴传输区域CL1上。发光图案EML配备多个而分别与发光区域重叠。发光图案EML可以包括荧光物质或磷光物质。发光图案EML可以生成具有一个颜色的光或者生成混合至少两个颜色的光。

电子传输区域CL2可以布置在发光图案EML上而覆盖发光图案EML及空穴传输区域CL1。电子传输区域CL2可以包括电子传输物质及电子注入物质中的至少任意一个。电子传输区域CL2可以是包括电子传输物质的电子传输层或者包括电子传输物质及电子注入物质的电子注入/传输单层。

阴极电极CE布置在电子传输区域CL2上而与阳极电极AE相对。阴极电极CE可以利用具有低的功函数的物质构成以使电子注入容易。

阴极电极CE及阳极电极AE可以根据发光方式而利用不同材料构成。例如，根据本发明的显示区域DA为上表面发光型的情况下，阴极电极CE可以是穿透型电极，阳极电极AE可以是反射型电极。

并且，例如在根据本发明的显示区域DA为背面发光型的情况下，阴极电极CE可以是反射型电极，阳极电极AE可以是穿透型电极。根据本发明的显示区域DA可以包括多种结构的有机发光元件，并且不限于一个实施例。

在阴极电极CE上布置有薄膜包封层TFE。薄膜包封层TFE覆盖阴极电极CE的前表面并密封有机发光元件OLED。

薄膜包封层TFE可以具有1至10μm的厚度。显示区域DA可以包括薄膜包封层TFE，从而实现薄型显示区域DA。

薄膜包封层TFE可以包括多个无机膜。无机膜可以分别包括氮化硅及氧化硅中的至少一个。并且，薄膜包封层TFE还可以包括布置在无机膜之间的其他功能层。

滤色层CFL包括黑色矩阵BM及颜色图案CP。黑色矩阵BM及颜色图案CP布置在相同层上。黑色矩阵BM及颜色图案CP可以直接布置在薄膜包封层TFE上而与薄膜包封层TFE的上表面接触。

黑色矩阵BM可以利用遮光物质构成。黑色矩阵BM吸收入射到黑色矩阵BM的光。据此，黑色矩阵BM可以大致具有黑色系列的颜色。

颜色图案CP包括具有至少两个彼此不同的颜色的颜色图案。本实施例中，颜色图案CP可以包括分别具有彼此不同的颜色的第一颜色图案、第二颜色图案及第三颜色图案。

例如，颜色图案CP中的相邻的颜色图案可以具有彼此不同的颜色。具有彼此不同的颜色的第一颜色图案、第二颜色图案及第三颜色图案依次排列而彼此相邻。

另外，这只是示例性的图示，颜色图案CP可以具有四个以上的颜色，并且相邻的颜色图案中的一部分可以具有彼此相同的颜色。根据本发明的滤色层CFL可以包括多种实施例，并且不限于任意一个实施例。

保护层PTL布置在滤色层CFL上而保护滤色层CFL。保护层PTL在上部提供平坦面。平坦面对应于显示区域DA的前表面。另外，这只是示例性的记载，根据本发明的一实施例的显示区域DA中，可以省略保护层PTL。

图1中示出的掩膜100可以应用于构成显示区域DA的多种元件的制造工序中。例如，图1中图示的母基板400可以以在多个沉积区域VA分别形成有空穴传输区域CL1层的状态被提供。此后，通过掩膜形成发光图案EML。据此，掩膜100可以应用于发光图案EML形成步骤。但是，这只是示例性的记载，根据本发明的一实施例的掩膜100可以应用于多种工序，并且不限于此。

图5是示出根据本发明的一实施例的掩膜组件的局部的放大图。

支撑杆200可以包括图案部PD。图案部PD以掩膜宽度MW为基准而重复相同的图案，并且可以在多个掩膜相隔排列。

图案部PD中沿着第二方向D2延伸的一边和与一边相对的另一边可具有彼此不同的形状。作为一示例，不同形状的一边和另一边中的至少一个可以包括凹凸形状，其余边可以包括与第二方向D2平行的边。包括凹凸形状的边可以包括具有沿着第一方向D1凸出的彼此不同的长度的凸出形状。具有第一长度L1的凸出形状可以在形成第一方向D1上的长边的掩膜100的两个末端凸出布置。具有比第一长度L1长的第二长度L2的凸出形状可以布置在具有第一长度L1的凸出形状之间。

图案部PD的形状可以定义活性区域AS与非活性区域NAS的边界。这仅仅是本发明的一示例，并不限制不同的长度、凸出部的数量及图案部PD的形状。图案部PD的形状可以对应于显示区域DA的活性区域AS及非活性区域NAS的用途而形成多种图案。

图6是根据本发明的一实施例的支撑杆的平面图。

支撑杆200-1可以包括第一夹紧部P1、中心部P3及第二夹紧部P2。并且，可以包括虚拟的支撑杆重心WP及中心线CL。

第一夹紧部P1、中心部P3及第二夹紧部P2可以沿着第二方向D2排列。支撑杆200的短边沿着第一方向D1而被定义，长边可以沿着第二方向D2而被定义。

中心部P3可以包括上端部210及下端部220。上端部210及下端部220可以以中心线CL为基准而被区分。

上端部210及下端部220中的至少一个可以包括图案部PD-1。作为一示例，下端部220具有图案部PD-1，并且图案部PD-1可以沿着下端部220的被暴露的边而具有凹凸形状。

第一夹紧部P1及第二夹紧部P2可以在中心部P3的沿着第二方向D2彼此相对的两端排列。第一夹紧部P1及第二夹紧部P2的面积可以相同。夹紧部的沿第一方向D1的短边的长度可以是10mm至50mm。

支撑杆重心WP是针对中心部P3的面积的重心，其可以定义于中心部的面上。这是因为，在第一夹紧部P1和第二夹紧部P2的面积相同的情况下，可以仅考虑针对中心部P3面积的重心。为了便于说明支撑杆的重心WP，示出了包括凹凸形状的下端部220的暴露的边为具有正方形形态的预定形状的凹凸形状的情形。在上端部210及下端部220的面积相同的情况下，可以在中心部P3的面上定义支撑杆的重心WP。

下端部220的面积可以通过将凸出的凸出部ST的正方形面积布置在相邻的槽部HM而与上端部210的面积相同。这是为了说明上端部210与下端部220的面积相同的情况下支撑杆重心WP定义在中心部P3的面上而进行的假设，其中将凸出部ST与槽部HM对应。

在上端部210与下端部220的面积相同的情况下，中心线CL沿着第二方向D2延伸，并且可以经过定义在中心部P3的面上的支撑杆重心WP。经过支撑杆重心WP而被定义的中心线CL可以经过支撑杆200-1的短边的中点。具体地，可以经过第一夹紧部P1及第二夹紧部P2沿着第一方向D1所具有的短边的中点。

一实施例中，支撑杆200-1的厚度为100μm且恒定，并且第一夹紧部P1及第二夹紧部P2的短边的长度可以为10mm至50mm。因此，在支撑杆200-1具有恒定的厚度的情况下，可以通过支撑杆200的面积定义支撑杆重心WP。

第一夹紧部P1的短边可以由从中心线CL到支撑杆200-1的一边的第一长度W1以及从中心线CL到支撑杆200-1的另一边的第二长度W2之和定义。在此情况下，第一长度W1和第二长度W2可以具有相同的长度。这可以与第二夹紧部P2相同地对应。在此情况下，第二夹紧部P2的短边由第一长度W1’与第二长度W2’之和定义，并且第一长度W1’与第二长度W2’可以具有相同的长度。

因此，中心线CL以穿过第一夹紧部P1及第二夹紧部P2的各短边的中点的方式沿着长边延伸，并且可以经过支撑杆重心WP而被定义。

以中心线CL为基准定义短边的原因在于，在夹紧部由于夹具CM(参照图8a)受到张力而被固定的情况下，最小化支撑杆200-1的变形。以支撑杆重心WP为基准定义中心线CL，并且在以中心线CL穿过短边的中点的方式制造夹紧部的情况下，可以最小化在夹紧时因拉伸引起的变形。即，本发明的夹紧部的短边的长度可以利用通过中心部P3的重心定义的中心线CL来定义。以中心线CL为基准，到短边的一边的长度W1以及到另一边的长度W2可以相同，并且可以利用各个到一边及另一边的长度之和(W1+W2)定义短边的长度。

一示例中，在中心部P3的厚度不同的情况下，为了将支撑杆重心WP定义在中心部P3的面上，第一夹紧部P1和第二夹紧部P2的面积可以彼此不同。

图7a及图7b是根据本发明的一实施例的支撑杆的平面图。

参照图7a，支撑杆200-2可以包括第一夹紧部P1-1、中心部P3-1及第二夹紧部P2-1。

中心部P3-1可以包括上端部210-1及下端部220-1。上端部210-1及下端部220-1可以以中心线CL-1为基准而被区分。

并且，可以包括支撑杆重心WP-1及中心线CL-1。作为一示例，上端部210-1的被暴露的边可以包括与长边平行的边。下端部220-1具有图案部PD-2，并且图案部PD-2可以沿着下端部220-1的被暴露的边而具有凹凸形状。图案部PD-2可以以掩膜100作为边界而具有相同形状且相隔排列。

第一夹紧部P1-1及第二夹紧部P2-1可以布置于中心部P3-1的沿着第二方向D2彼此相对的两端。第一夹紧部P1-1及第二夹紧部P2-1的面积可以相同。

支撑杆重心WP-1是对于中心部P3-1的面积的重心，可以定义于中心部P3-1的面上。下端部220-1的图案部PD-2可以形成彼此不同长度的凸出部。具有第一长度L1-1的凸出形状沿着第一方向D1凸出，并且可以在形成长边的掩膜100的两个末端凸出而布置。具有大于第一长度L1-1的第二长度L2-1的凸出形状可以布置在具有第一长度L1-1的凸出形状之间。

此时，中心线CL-1沿着第二方向D2延伸，并且可以经过定义于中心部P3-1的面上的支撑杆重心WP-1。被定义为经过支撑杆重心WP-1的中心线CL-1可以经过第一夹紧部P1-1及第二夹紧部P2-1沿着第一方向D1所具备的短边的中点。

在支撑杆200-2具有恒定的厚度的情况下，可以通过支撑杆200-2的面积而定义支撑杆重心WP-1。

第一夹紧部P1-1的短边可以由从中心线CL-1到支撑杆200-2的一边的第一长度W1-1以及从中心线CL-1到支撑杆200-2的另一边的第二长度W2-1之和定义。在这种情况下，第一长度W1-1和第二长度W2-1可以具有相同长度。这可以与第二夹紧部P2-1相同地对应。在此情况下，第二夹紧部P2-1的沿着第一方向D1的短边由第一长度W1-1’及第二长度W2-1’之和定义，并且第一长度W1-1’与第二长度W2-1’可以具有相同的长度。

因此，中心线CL-1以穿过第一夹紧部P1-1及第二夹紧部P2-1的各短边的中点的方式沿着长边延伸，并且可以被定义为经过支撑杆重心WP-1。

参照图7b，支撑杆200-3可以包括第一夹紧部P1-2、中心部P3-2及第二夹紧部P2-3。

中心部P3-2可以包括上端部210-2及下端部220-2。上端部210-2及下端部220-2可以以中心线CL-2为基准而被区分。

作为一例，下端部220-2具有图案部PD-3，并且图案部PD-3可以沿着下端部220-2的暴露的边而具有凹凸形状。下端部220-2的图案部PD-3可以形成彼此不同长度的凸出部。具有第一长度L1-2的凸出形状可以在形成第一方向D1上的长边的掩膜100的两端凸出布置。具有大于第一长度L1-2的第二长度L2-2的凸出形状可以布置在具有第一长度L1-2的凸出形状之间。

上端部210-2具有图案部PD-4，在图案部PD-4，沿着上端部210-2的暴露的边可以连续排列有具有预定的第三长度L3的凸出部。上端部210-2的图案部PD-4和下端部220-2的图案部PD-3可以分别以掩膜100作为边界而具有相同形状且相隔排列。

本实施例的上端部210-2与下端部220-2的面积可以相同。在上端部210-2与下端部220-2的面积相同的情况下，可以在中心部P3-2的面上形成有支撑杆重心WP-2。

此时，中心线CL-2沿着第二方向D2延伸，并且可以经过定义于中心部P3-2的面上的支撑杆重心WP-2。被定义为经过支撑杆重心WP-2的中心线CL-2可以经过第一夹紧部P1-2及第二夹紧部P2-2沿第一方向D1所具有的短边的中点。

因此，中心线CL-2以经过第一夹紧部P1-2及第二夹紧部P2-2的各短边的中点的方式沿着长边延伸，并且可以被定义为经过支撑杆重心WP-2。

这只是一实施例，在上端部210-2和下端部220-2的面积维持相同的情况下，不限制各图案部的形状及凸出部的长度。

图8a至图8d是根据本发明的一实施例的掩膜组件制造方法的立体图。

参照图8a至图8d对掩膜组件制造方法进行说明。附图符号将参照图1而进行说明。

掩膜组件制造方法可以包括如下步骤：提供掩膜框架；提供支撑杆；用夹具固定支撑杆；提供掩膜；将掩膜和掩膜组件接合。

参照图8a，在提供掩膜框架的步骤中，掩膜框架300可以包括框架开口部310。框架开口部310可以是使沉积物质通过的区域。

在提供支撑杆的步骤中，支撑杆200可以包括以与多个掩膜分别交叉的方式沿着第一方向D1相隔预定间距而排列的多个支撑杆。支撑杆200中沿着长边延伸的一边和另一边可具有不同的形状。一边及另一边中的至少一边可以形成图案部PD。图案部PD以掩膜为边界具有相同形状，并且可以沿着第二方向D2排列。支撑杆200的夹紧部可以比掩膜框架300更突出。突出的夹紧部可以具有相同的面积。

用夹具固定支撑杆的步骤中，可以在掩膜100布置于上部的过程中为了固定支撑杆200而提供夹具CM。夹具CM可以通过向比掩膜框架300更突出的夹紧部施加张力而固定支撑杆200。这是为了在结合掩膜100与掩膜框架300的过程中防止抖动或翘起，或防止因支撑杆200自身的重量导致的下垂。

参照图8b，在提供掩膜的步骤中，包括多个开口110的掩膜以杆形态被提供而可以沿着第二方向D2排列。掩膜与掩膜框架300重叠而布置，并且在掩膜框架300与掩膜100之间可以布置有支撑杆200。沉积物质(未示出)通过多个开口110而通过，并且沉积物质可以不通过与支撑杆200重叠的区域。

参照图8c及图8d，接合掩膜与掩膜组件的步骤中，将支撑杆布置于掩膜框架300与掩膜之间，并且可以通过激光LZ将掩膜框架300和掩膜接合。作为一示例，在接合时使用焊接的情况下，可以利用刚性高的金属构成掩膜框架及掩膜的接合部位。在实现掩膜框架300与掩膜100的接合的情况下，可以去除夹具CM。夹具CM可以在焊接过程中防止支撑杆200的游动，并且可以使掩膜100和掩膜框架300稳定地结合。

如上所述地在附图和说明书中公开了实施例。在此使用了特定术语，但是其目的仅在于说明本发明，而不应用于限定含义或者限制权利要求书中记载的本发明的范围。因此，应当理解为，在本技术领域中具有基本知识的人员可以据此实现多种变形及等同的其他实施例。因此，本发明的真正的技术保护范围应根据权利要求书的技术思想而确定。

Claims (14)

1.一种掩膜组件，包括：

掩膜框架，包括开口部；

掩膜，布置在所述掩膜框架上；以及

支撑杆，布置在所述掩膜框架与所述掩膜之间，定义有沿第一方向延伸的短边及沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸的长边，并包括沿着所述长边而排列的第一夹紧部、中心部及第二夹紧部，并且所述中心部与所述掩膜重叠，

所述支撑杆的中心线以经过所述支撑杆的短边的中点而穿过所述第一夹紧部和所述第二夹紧部的短边的中点的方式沿着所述长边延伸而被定义，

所述支撑杆的重心定义于所述中心线上，

所述中心部以所述中心线为基准而分为具有不同形状的第一部分及第二部分，

所述第一部分包括具有比所述第一夹紧部及所述第二夹紧部朝所述第一方向更凸出的凸出部以及朝与所述第一方向相反的方向更凹陷的槽部的第一图案部。

2.如权利要求1所述的掩膜组件，其中，

所述掩膜包括多个开口，

所述多个开口由与所述支撑杆重叠的非活性区域以及作为与所述非活性区域以外的部分的活性区域定义。

3.如权利要求2所述的掩膜组件，其中，

所述第一部分及所述第二部分具有相同的面积。

4.如权利要求3所述的掩膜组件，其中，

所述第二部分包括具有比所述第一夹紧部及所述第二夹紧部朝与所述第一方向相反的方向更凸出的凹凸形状的第二图案部。

5.如权利要求1所述的掩膜组件，其中，

所述第一夹紧部及所述第二夹紧部的面积相同。

6.如权利要求1所述的掩膜组件，其中，

所述支撑杆的厚度为50μm至150μm。

7.如权利要求1所述的掩膜组件，其中，

所述支撑杆利用非磁性物质构成。

8.一种掩膜组件，包括：

支撑杆，包括沿第一方向延伸的短边以及沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸的长边，并包括沿着所述长边排列的第一夹紧部、中心部及第二夹紧部；

多个掩膜，沿着所述第二方向排列，并且分别与所述支撑杆重叠；

所述支撑杆的中心线，以如下方式定义：沿着所述第二方向延伸，并经过所述支撑杆的所述短边的中点而穿过所述第一夹紧部和所述第二夹紧部的短边的中点，并经过所述中心部的重心，

所述中心部以所述中心线为基准而分为具有彼此不同的形状的第一部分及第二部分，

所述第一部分包括具有比所述第一夹紧部及所述第二夹紧部朝所述第一方向更凸出的凸出部以及朝与所述第一方向相反的方向更凹陷的槽部的第一图案部。

9.如权利要求8所述的掩膜组件，其中，

所述支撑杆配备多个，并且沿着所述第一方向而相隔布置。

10.如权利要求9所述的掩膜组件，其中，

所述掩膜包括多个开口，

所述多个开口由与所述支撑杆重叠的非活性区域以及作为与所述非活性区域以外的部分的活性区域定义。

11.如权利要求10所述的掩膜组件，其中，

所述第一部分及所述第二部分具有相同面积。

12.如权利要求9所述的掩膜组件，其中，

所述第二部分包括具有比所述第一夹紧部及所述第二夹紧部朝与所述第一方向相反的方向更凸出的凹凸形状的第二图案部。

13.如权利要求8所述的掩膜组件，其中，

所述第一夹紧部及第二夹紧部的面积相同。

14.一种掩膜组件制造方法，包括如下步骤：

提供包括开口部的掩膜框架；

提供支撑杆，该支撑杆布置在所述掩膜框架上，包括沿第一方向延伸的短边以及沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸的长边，并包括沿着所述长边排列的第一夹紧部、中心部及第二夹紧部；

利用夹具固定所述第一夹紧部及所述第二夹紧部的至少一部分；

提供布置在所述支撑杆上并包括多个开口的掩膜；

将所述支撑杆布置在所述掩膜与所述掩膜框架之间，并将所述掩膜与所述掩膜框架接合，

其中，所述支撑杆包括：中心线，以如下方式定义：沿着所述第二方向延伸，并经过所述支撑杆的所述短边的中点而穿过所述第一夹紧部和第二夹紧部的短边的中点，

所述中心部以所述中心线为基准分为具有彼此不同的形状的第一部分及第二部分，

所述第一部分包括具有比所述第一夹紧部及所述第二夹紧部朝所述第一方向更凸出的凸出部以及朝与所述第一方向相反的方向更凹陷的槽部的图案部。