CN109461786B - 双通道长波红外探测器 - Google Patents
双通道长波红外探测器 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109461786B CN109461786B CN201811104241.5A CN201811104241A CN109461786B CN 109461786 B CN109461786 B CN 109461786B CN 201811104241 A CN201811104241 A CN 201811104241A CN 109461786 B CN109461786 B CN 109461786B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- dual
- infrared detector
- semiconductor substrate
- absorption
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 60
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 50
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 34
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 22
- 230000004044 response Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 42
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 3
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 claims description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 7
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 4
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910005542 GaSb Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 2
- 235000015842 Hesperis Nutrition 0.000 description 1
- 235000012633 Iberis amara Nutrition 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000004297 night vision Effects 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/08—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
- H01L31/10—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
- H01L31/101—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
- H01L31/102—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier
- H01L31/103—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier the potential barrier being of the PN homojunction type
- H01L31/1035—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier the potential barrier being of the PN homojunction type the devices comprising active layers formed only by AIIIBV compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0232—Optical elements or arrangements associated with the device
- H01L31/02327—Optical elements or arrangements associated with the device the optical elements being integrated or being directly associated to the device, e.g. back reflectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/0352—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions
- H01L31/035236—Superlattices; Multiple quantum well structures
- H01L31/035263—Doping superlattices, e.g. nipi superlattices
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
Abstract
一种双通道长波红外探测器,包括一半导体衬底层、一高掺杂半导体基板层、一吸收层、一势垒层、一接触层以及一光栅层。本发明的双通道长波红外探测器避免了传统的探测器利用多个吸收区叠加实现多通道探测的方法,结构简单,节省成本;利用掺杂半导体介电常数在工作波段为有限值且虚部值小的特点,提高了吸收层内的吸收效率;降低了吸收层的厚度,提高了探测的响应率。
Description
技术领域
本发明属于红外探测技术领域,具体涉及一种双通道长波红外探测器。
背景技术
电磁波谱中,通常将波长范围为0.76~1000μm这一波谱区间称为红外波谱区。只要物体表面的温度高于绝对零度(-173°),总是存在将能量不断地从物体表面向外释放的红外热辐射现象。因此红外探测技术具有广泛的应用,尤其是在军事领域,各类军事目标都有其固有的红外辐射特征,特别是飞机、火箭等飞行器,都属于很强的红外辐射源。红外探测技术在军事上的广泛应用主要包括红外侦测、红外夜视、红外制导、红外隐身以及红外对抗等方面。红外探测技术针对大气层的吸收,具有不同的探测波长分类:1到2.6短波红外探测区、3~5μm中波红外探测区以及8~14μm长波红外探测区。然而,由于臭氧层在9.6μm附近有很强的红外吸收,对于长波红外探测器,不得不考虑臭氧层的影响,因此针对臭氧层红外吸收的双通道长波红外探测器的研究具有重要的科学价值和实际意义。
此外随着MBE等半导体生长工艺的成熟,掺杂半导体的掺杂程度接近掺杂极限,其等离子体波长延伸到中波红外波段。由于在靠近等离子体波长附近,掺杂半导体的介电常数的实部和虚部均具有较小数值,因此其在作为探测器吸收区衬底时,能够使能量更大程度的被吸收层吸收。
发明内容
针对现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种双通道长波红外探测器,以便解决上述问题的至少之一。
本发明是通过如下技术方案实现的:
本发明提供一种双通道长波红外探测器,包括:一半导体衬底层;一高掺杂半导体基板层,制备于所述半导体衬底的上方;一吸收层,制备于所述高掺杂半导体基板层的上方;一势垒层,制备于所述吸收层的上方,用于阻止吸收区多数载流子的扩散;一接触层,制备于所述势垒层的上方;以及一光栅层,制备于所述接触层的上方,用于实现偏振光双通道光学响应。
优选地,所述半导体衬底层材料为满足上下层之间晶格匹配的本征半导体材料。
优选地,所述高掺杂半导体基板层的材料为通过高掺杂实现的等离子体波长接近且小于工作波长的掺杂半导体材料。
优选地,所述高掺杂半导体基板层的厚度大于吸收器的工作波段光波的隧穿深度,透射为零。
优选地,所述吸收层为二类超晶格材料。
优选地,所述势垒层的材料满足吸收层的势垒要求。
优选地,所述势垒层为满足上下层晶格匹配的半导体材料。
优选地,所述接触层为掺杂半导体材料。
优选地,所述光栅层的材料是金属。
优选地,所述光栅层为一维光栅、二维光栅或复合光栅结构。
从上述技术方案可以看出,本发明的双通道长波红外探测器具有以下有益效果:
(1)避免了传统的探测器利用多个吸收区叠加实现多通道探测的方法,结构简单,节省成本;
(2)利用掺杂半导体介电常数在工作波段为有限值且虚部值小的特点,提高了吸收层内的吸收效率;
(3)降低了吸收层的厚度,提高了探测的响应率。
附图说明
图1为本发明实施例中双通道长波红外探测器的结构示意图;
图2为图1所示探测器结构的总吸收以及吸收层内的吸收谱线图;
【附图标记说明】
101-半导体衬底层; 102-高掺杂半导体基板层;
103-吸收层; 104-势垒层;
105-接触层; 106-光栅层。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本发明作进一步的详细说明。
一种双通道长波红外探测器,包括一半导体衬底层、一高掺杂半导体基板层、一吸收层、一势垒层、一接触层以及一光栅层。本发明的双通道长波红外探测器避免了传统的探测器利用多个吸收区叠加实现多通道探测的方法,结构简单,节省成本;利用掺杂半导体介电常数在工作波段为有限值且虚部值小的特点,提高了吸收层内的吸收效率;降低了吸收层的厚度,提高了探测的响应率。
具体地,本发明提供一种双通道长波红外探测器,包括:一半导体衬底层;一高掺杂半导体基板层,制备于所述半导体衬底的上方;一吸收层,制备于所述高掺杂半导体基板层的上方;一势垒层,制备于所述吸收层的上方,用于阻止吸收区多数载流子的扩散;一接触层,制备于所述势垒层的上方;以及一光栅层,制备于所述接触层的上方,用于实现偏振光双通道光学响应。
所述半导体衬底层材料为满足上下层之间晶格匹配的本征半导体材料。
所述高掺杂半导体基板层的材料为通过高掺杂实现的等离子体波长接近且小于工作波长的掺杂半导体材料。
所述高掺杂半导体基板层的厚度大于吸收器的工作波段光波的隧穿深度,透射为零。
所述吸收层为二类超晶格材料。
所述势垒层的材料满足吸收层的势垒要求。
所述势垒层为满足上下层晶格匹配的半导体材料。
所述接触层为掺杂半导体材料。
所述光栅层的材料是金属。
所述光栅层为一维光栅、二维光栅或复合光栅结构。
以下结合具体实施例和附图,对本发明的双通道长波红外探测器作进一步的详细说明。
图1为本发明实施例中双通道长波红外探测器的结构示意图。如图1所示,本发明提供一种双通道长波红外探测器,包括:一半导体衬底层101,为矩形,所述的半导体衬底材料是满足上下层晶格匹配的本征半导体材料;一高掺杂半导体基板层102,为矩形,制备于半导体衬底、101的上方,该高掺杂半导体的等离子体波长短于工作波段的波长,该高掺杂半导体的厚度大于吸收器的工作波段光波的邃穿深度,该实施例中,所述的掺杂半导体基板层为n型掺杂半导体材料(InAs),厚度为1.5μm;一吸收层103,制备于高掺杂半导体基板层102的上方,所述的吸收层材料为二类超晶格材料,该二类超晶格材料的吸收截止波长长于工作波长(也许换成MCT也可以),该实施例中,所述的吸收层材料为InAs/GaSb二类超晶格材料,厚度为0.8μm;一势垒层104,制备于吸收层103的上方,所述的势垒层材料满足上下层晶格匹配,所述的势垒层材料用以阻止吸收区多数载流子的扩散,该实施例中,所述的势垒层材料为InAs/GaSb超晶格材料,厚度为0.8μm;一接触层105,制备于势垒层104的上方,所述的接触层材料是满足上下层晶格匹配的掺杂半导体材料,该实施例中,所述的接触层材料为n型掺杂二类超晶格材料(InAs/GaSb),厚度为5nm;一光栅层106,制备于接触层105的上方,所述的光栅层材料为金属,所述的微结构光栅层为一维光栅、二维光栅或复合光栅结构,该实施例中,所述的光栅层材料是金属金,该光栅层是一维光栅结构,该光栅层周期为3.5μm,占空比为0.35,厚度为50nm。
图2为图1所示探测器结构的总吸收以及吸收层内的吸收谱线图。如图2所示,为在垂直入射光下,该探测器的总吸收和吸收层103内的吸收谱线。
本发明的目的是针对臭氧层9~10μm的红外吸收波段,实现一种结构简单的长波红外探测器。取代传统的利用不同吸收区叠加的方法,通过引入微结构金属表面光栅,实现双通道吸收。此外,半导体材料的生长和掺杂经过几十年的发展,已经趋于成熟,通过采用分子束外延技术、有机化合物气象沉积技术等,可以生长出晶格完美的高掺杂半导体材料,掺杂浓度接近掺杂极限。
综上所述,本发明的双通道长波红外探测器避免了传统的探测器利用多个吸收区叠加实现多通道探测的方法,结构简单,节省成本;利用掺杂半导体介电常数在工作波段为有限值且虚部值小的特点,提高了吸收层内的吸收效率;降低了吸收层的厚度,提高了探测的响应率。
以上所述的具体实施例,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施例而已,并不用于限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种双通道长波红外探测器,其特征在于,包括:
一半导体衬底层;
一高掺杂半导体基板层,制备于所述半导体衬底的上方,所述高掺杂半导体基板层的材料为通过高掺杂实现的等离子体波长接近且小于工作波长的掺杂半导体材料;
一吸收层,制备于所述高掺杂半导体基板层的上方;
一势垒层,制备于所述吸收层的上方,用于阻止吸收区多数载流子的扩散;
一接触层,制备于所述势垒层的上方;以及
一光栅层,制备于所述接触层上方,用于实现偏振光双通道光学响应。
2.如权利要求1所述的双通道长波红外探测器,其特征在于,所述半导体衬底层材料为满足上下层之间晶格匹配的本征半导体材料。
3.如权利要求1所述的双通道长波红外探测器,其特征在于,所述高掺杂半导体基板层的厚度大于吸收器的工作波段光波的隧穿深度,透射为零。
4.如权利要求1所述的双通道长波红外探测器,其特征在于,所述吸收层为二类超晶格材料。
5.如权利要求1所述的双通道长波红外探测器,其特征在于,所述势垒层的材料满足吸收层的势垒要求。
6.如权利要求1所述的双通道长波红外探测器,其特征在于,所述势垒层为满足上下层晶格匹配的半导体材料。
7.如权利要求1所述的双通道长波红外探测器,其特征在于,所述接触层为掺杂半导体材料。
8.如权利要求1所述的双通道长波红外探测器,其特征在于,所述光栅层的材料是金属。
9.如权利要求1所述的双通道长波红外探测器,其特征在于,所述光栅层为一维光栅、二维光栅或复合光栅结构。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201811104241.5A CN109461786B (zh) | 2018-09-20 | 2018-09-20 | 双通道长波红外探测器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201811104241.5A CN109461786B (zh) | 2018-09-20 | 2018-09-20 | 双通道长波红外探测器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN109461786A CN109461786A (zh) | 2019-03-12 |
CN109461786B true CN109461786B (zh) | 2020-06-19 |
Family
ID=65606781
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201811104241.5A Active CN109461786B (zh) | 2018-09-20 | 2018-09-20 | 双通道长波红外探测器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN109461786B (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114373826A (zh) * | 2022-01-11 | 2022-04-19 | 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 | 一种具有表面光调制层的ii类超晶格多色光电探测器及其制备方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101271933A (zh) * | 2007-03-21 | 2008-09-24 | 中国科学院半导体研究所 | 量子点-阱红外探测器的结构及其制备方法 |
CN102534764A (zh) * | 2012-02-17 | 2012-07-04 | 中国科学院半导体研究所 | Ⅱ类超晶格窄光谱红外光电探测器材料的外延生长方法 |
CN103325862A (zh) * | 2013-05-23 | 2013-09-25 | 中国科学院半导体研究所 | 一种双色量子阱红外光探测器 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102544229A (zh) * | 2012-02-17 | 2012-07-04 | 中国科学院半导体研究所 | 甚长波InAs/GaSb二类超晶格红外探测器材料的制备方法 |
CN103811580B (zh) * | 2014-03-05 | 2016-03-02 | 中国科学院半导体研究所 | InGaAs红外光探测器 |
CN205810841U (zh) * | 2016-05-25 | 2016-12-14 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 无铝型ii类超晶格长波双势垒红外探测器 |
JP6673038B2 (ja) * | 2016-06-10 | 2020-03-25 | 富士通株式会社 | 半導体結晶基板、赤外線検出装置、半導体結晶基板の製造方法及び赤外線検出装置の製造方法 |
-
2018
- 2018-09-20 CN CN201811104241.5A patent/CN109461786B/zh active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101271933A (zh) * | 2007-03-21 | 2008-09-24 | 中国科学院半导体研究所 | 量子点-阱红外探测器的结构及其制备方法 |
CN102534764A (zh) * | 2012-02-17 | 2012-07-04 | 中国科学院半导体研究所 | Ⅱ类超晶格窄光谱红外光电探测器材料的外延生长方法 |
CN103325862A (zh) * | 2013-05-23 | 2013-09-25 | 中国科学院半导体研究所 | 一种双色量子阱红外光探测器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN109461786A (zh) | 2019-03-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10629766B2 (en) | Method for manufacturing ultraviolet photodetector based on Ga2O3 material | |
CN104465853B (zh) | 一种雪崩光电二极管及其制作方法 | |
CN106409968B (zh) | AlGaN基超晶格雪崩型紫外探测器及其制备方法 | |
CN111900217B (zh) | 一种中/长波红外双波段超晶格红外探测器及其制备方法 | |
CN102800717A (zh) | 一种pin结构紫外雪崩光电探测器及其制备方法 | |
CN108988125B (zh) | 中红外超晶格带间跃迁激光器及其制备方法 | |
CN107910385B (zh) | 一种铟镓砷红外探测器制备方法 | |
CN112103354A (zh) | 透明Ga2O3的p-i-n异质结构日盲型紫外光探测器及其制备方法 | |
CN109461786B (zh) | 双通道长波红外探测器 | |
CN111710732A (zh) | 一种锑化物超晶格甚长波红外探测器中抑制扩散暗电流的结构 | |
Kabyshev et al. | Optical properties of GaAs films deposited via pulsed ion ablation | |
CN110047956B (zh) | 具有挡光层的非等平面AlGaN基肖特基型紫外探测器及其制备方法 | |
CN103579904A (zh) | 带间级联激光器及其制备方法 | |
CN103545713B (zh) | 一种具有w型有源区结构的带间级联激光器 | |
CN105977788B (zh) | 一种量子点带间级联激光器 | |
CN109326659B (zh) | 一种高响应度低暗电流PIN结构的4H-SiC紫外探测器及其制备方法 | |
CN103031596B (zh) | 基于铝镓氮材料的日盲型紫外光电阴极的外延生长方法 | |
CN102776567B (zh) | 在Si衬底上制备纤锌矿相MxZn1-xO单晶薄膜的方法 | |
Mohammedy et al. | Growth and fabrication issues of GaSb-based detectors | |
KR960001467B1 (ko) | 초격자구조(superlattice)의 증폭층을 갖는 애벌란체 포토다이오드(APD:Avalanche Photodiode) | |
Kilic et al. | The investigation of quantum efficiency constituents of InAs/AlSb/GaSb based N structure type-II SL photodetectors with InAlAs interface | |
CN102074609B (zh) | 一种紫外雪崩光电二极管探测器及其制作方法 | |
CN112864269A (zh) | 一种基于电场分布调控的高增益紫外雪崩探测器及其制备方法 | |
CN112234116A (zh) | 具有反射层的铟镓砷光电探测器及其制备方法 | |
CN114709281B (zh) | 一种基于氧化镓异质结构的日盲紫外探测器及制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |