CN109455951A - 触摸屏盖板的等离子处理装置及处理方法 - Google Patents

Abstract

触摸屏盖板的等离子处理装置及处理方法，该处理装置包括底座，该底座上设置有一工作台；箱体，该箱体的顶部设置有一出风口；风机，用于使箱体内形成负压环境；定位组件，该定位组件包括定位底板、设置在底板上表面的托盘，底板可活动的安装在工作台上，工作台上设置有第一驱动单元；横梁，滑动的安装在横梁的且沿箱体的高度方向延伸的竖梁，横梁上设置有用于带动竖梁顺延其长度方向移动的第二驱动单元；活动的安装在竖梁上的安装板，该安装板上并排的设置有多个等离子喷头，竖梁上设置有用于带动安装板顺延竖梁上下运动的第三驱动单元。本发明提高了盖板表面的附着力，同时又能够有效的去除盖板表面的杂物。

Description

触摸屏盖板的等离子处理装置及处理方法

技术领域

本发明涉及触摸屏加工技术领域，具体涉及一种触摸屏盖板的等离子处理装置。

背景技术

触摸屏的玻璃盖板时屏幕总成的重要部件，在触摸屏的贴合工艺中，对于盖板表面附着力的要求较高，现有的工艺中，为了尽可能的增大触摸屏的表面附着力，目前的做法是在玻璃盖板的表面涂布一层粘合剂，其虽然能够确保玻璃盖板表面具有较强的附着力，但是加工工艺较为复杂，并且，由于触摸屏总成对厚度控制要求极高，因此，如何将粘合剂均匀的涂布在盖板表面，目前尚未存在有效的解决方案，以至于采用上述工艺加工的屏幕总成的良品率较低。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明的的目的是提供一种触摸屏盖板的等离子处理装置，其能够对触摸屏的玻璃盖板进行等离子处理，增大其表面的附着力，并能够提高触摸屏产品的良率。

本发明的目的二在于提供一种触摸屏盖板的等离子处理方法。

为实现上述目的一，本发明采用如下技术方案：

触摸屏盖板的等离子处理装置，包括，

底座，该底座上设置有一工作台；

位于底座上的密闭箱体，该箱体的顶部设置有一出风口；

风机，与出风口连通，用于使箱体内形成负压环境；

用于放置盖板的定位组件，该定位组件包括定位底板、设置在底板上表面的托盘，底板可活动的安装在工作台上，工作台上设置有用于带动底板顺延工作台的宽度方向运动的第一驱动单元；

固定在工作台上顺延工作台的长度方向延伸的横梁，滑动的安装在横梁的且沿箱体的高度方向延伸的竖梁，横梁上设置有用于带动竖梁顺延其长度方向移动的第二驱动单元；

活动的安装在竖梁上的安装板，该安装板上并排的设置有多个等离子喷头，竖梁上设置有用于带动安装板顺延竖梁上下运动的第三驱动单元。

箱体由多个侧壁和位于该多个侧壁顶部的顶壁围成，在该多个侧壁中至少有一个为透明玻璃，且至少有一个侧壁上安装有可打开的门。

第一驱动单元包括固定在工作台上且沿工作台宽度方向延伸的第一导轨、滑动的安装在第一导轨上的第一滑块、与第一导轨平行设置的第一传动丝杆、以及用于带动第一传动丝杆转动的第一伺服电机，第一传动丝杆穿接于第一滑块上且与第一滑块螺纹配合，定位底板固定连接在第一滑块上。

工作台上固定安装有一支架，横梁固定连接在该支架上。

第二驱动单元包括设置在横梁上且顺延横梁的长度方向延伸的第二直线导轨、滑动的安装在第二直线导轨上的第二滑块、与第二直线导轨平行设置的第二传动丝杆、以及用于带动第二传动丝杆转动的第二伺服电机，第二传动丝杆穿接在第二滑块上且与第二滑块螺纹配合，竖梁通过一三角支架固定连接在第二滑块上。

第三驱动单元包括设置在竖梁上且顺延竖梁的长度方向延伸的第三直线导轨、滑动的安装在第三直线导轨上的第三滑块、与第三直线导轨平行设置的第三传动丝杆、以及用于带动第三传动丝杆转动的第三伺服电机，第三传动丝杆穿接在第三滑块上且与第三滑块螺纹配合，安装板固定连接在第三滑块上，多个等离子喷头分别通过螺栓可拆卸的连接在安装板上。

底座的底部端角处安装有脚轮和支撑座，支撑座以螺纹配合的方式与底座固定连接。

为实现上述目的二，本发明采用如下技术方案：

触摸屏盖板的等离子处理方法，包括如下步骤：

步骤A、对盖板表面进行除尘处理后，将盖板放置于一个密闭的空间中；

步骤B、利用抽气装置持续的抽取密闭空间中的空气；

步骤C、在上述步骤B进行的过程中，利用压缩空气将等离子体均匀的喷向盖板的表面。

本发明的有益效果在于：

本发明采用等离子体喷射盖板表面，能够在盖板表面形成一个非常薄的粘附层，提高了盖板表面的附着力，同时又能够有效的去除盖板表面的杂物，尤其是能够去除对贴合工艺影响较大的杂物。

附图说明

图1为本发明的结构示意图；

图2为本发明横梁、竖梁以及等离子喷头的配合示意图。

具体实施方式

下面，结合附图和具体实施方式，对本发明作进一步描述：

如图1、2所示，为本发明的一种触摸屏盖板的等离子处理装置，其用于对盖板的表面进行加工，提高盖板的表面附着力，以使盖板满足屏幕贴合的要求。该处理装置包括底座10、箱体20、风机(图未示出)、定位组件、以及多个等离子喷头30，底座10的顶部设置有一工作台11，箱体20为密闭结构，其封盖在工作平台11上方，箱体20的顶部设置有一出风口24，风机通过管路连通该出风口24，启动风机，可使箱体20内部形成负压环境；在工作平台11上设置有定位组件，定位组件包括定位底板41和托盘42，定位底板41可活动的安装在工作台11上，其能够顺延工作平台11的宽度方向移动，托盘42放置在定位底板41上，定位底板41的端角处设置有用于限定托盘42位置的限位结构，托盘42上用于放置盖板，其上设置有限定盖板位置的限位结构，在针对不同大小的盖板进行处理时，更换不同的托盘42即可。定位底板41是由一个安装在工作平台11上的第一驱动单元来带动，顺延工作台11的宽度方向往复运动的。在工作台11上设置有一沿工作台11的长度方向延伸的横梁50，具体的，该横梁50可以是通过一个固定连接在工作台11上的支架安装在工作台11上，并且与工作台11的表面间隔一定的距离，横梁50上滑动的安装有一竖梁60，竖梁60能够在一第二驱动单元的带动下顺延横梁50的延伸方向往复运动；竖梁60上活动的安装有一安装板64，安装板64在一第三驱动单元的带动下顺延竖梁60的延伸方向往复运动，多个等离子喷头30并排的安装在安装板64上。

在本发明中，箱体20由多个固定在工作台11上的侧壁和位于侧壁顶部的顶壁23围成，其中，位于正面的侧壁为一个透明玻璃，有利于对内部盖板的处理情况进行观察，两侧的侧壁上均安装有可打开的门22，以便于向托盘42上放置盖板。

参见图2所示，横梁50、竖梁60以及第二驱动单元、第三驱动单元组成的双轴联动机构用于带动多个等离子喷头30调整好位置，第二驱动单元包括两个第二直线导轨51、第二滑块52、第二传动丝杆、第二伺服电机，两个第二直线导轨51分别设置在横梁50的两侧，第二滑块52跨设横梁50，其两侧分别滑动的安装在两个第二直线导轨51上，第二传动丝杆位于横梁50的内部，其穿接在第二滑块52上并与第二滑块52螺纹配合，第二伺服电机53安装在横梁50的一端，其用于带动第二传动丝杆转动，继而带动第二滑块52运动，竖梁50通过一个三角支架54固定连接在第二滑块52上。第三驱动单元与上述的第二驱动单元类似，其包括两个沿竖梁60的长度方向延伸的第三直线导轨61、两侧分别滑动的安装在两个第三直线导轨61上的第三滑块62、与第三直线导轨平行设置的第三传动丝杆、以及第三伺服电机63，第三传动丝杆穿接在第三滑块62上并与第三滑块螺纹配合，第三伺服电机63安装在竖梁60的顶端，用于带动第三传动丝杆转动，继而带动第三滑块62沿竖梁60滑动，安装板64固定在第三滑块62上，固定在安装板64上的多个等离子喷头30随着第三滑块62上下移动，以等离子喷头的末端与盖板待处理表面之间的间距。

上述的横梁50固定在一支架14上，该支架14固定连接在工作平台11上，用于使横梁50与工作平台保持一定的距离，从而能够为等离子喷头30的上下调节预留一个足够的空间。

本发明的第一驱动单元与上述的第二驱动单元和第三驱动单元相同，同样采用伺服电机带动的丝杆传动机构来带动定位底板41运动，在这里简单描述，该第一确定单元包括第一导轨、第一滑块、第一传动丝杆、第一伺服电机，定位底板41固定连接在第一滑块上。

为了便于移动，在上述底座10的底部端角处设置有脚轮12，同时，为了方便固定，在底座10的端角处还设置有支撑座13，支撑座13通过螺纹配合的方式与底座10固定连接，在需要移动时，向上旋支撑座13，使支撑座13高于脚轮12，当需要固定时，则向下旋支撑座13，将脚轮12悬空即可。

本发明采用上述装置对盖板进行等离子处理方法包括如下步骤：

步骤A、将盖板放置于托盘中后，置于定位底板上，关闭箱体的门，使箱体保持在一个密闭的状态；

步骤B、开启风机，抽气箱体内部的空气，使箱体内部形成负压环境；

步骤C、通过传感器检测盖板的位置，并将该位置信息发送给控制单元，控制单元控制第一驱动单元，调整盖板在工作平台宽度方向的位置，接着，控制单元控制第三驱动单元带动等离子喷头下降至适当的位置，开启等离子喷头，利用第二驱动单元带动多个等离子喷头匀速的往复运动2-3次，利用压缩空气将等离子体均匀的喷向盖板的表面；等离子体在高速喷向盖板表面后，使盖板表面的分子链结构得到改变，例如建立了羟基、羧基等自由基团，这些基团具有促进其粘合的作用，从而提高了盖板表面的附着力，同时，等离子体能够去除盖板表面的油脂、静电等，不仅能够对盖板表面起到清洁的作用，同时能够有效的去除对贴合工序中影响较为严重的碳化氢类物质。

相比于现有技术，本发明采用等离子体喷射盖板表面，能够在盖板表面形成一个非常薄的粘附层，提高了盖板表面的附着力，同时又能够有效的去除盖板表面的杂物，尤其是能够去除对贴合工艺影响较大的杂物。

以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (8)

1.触摸屏盖板的等离子处理装置，其特征在于，包括

底座，该底座上设置有一工作台；

位于底座上的密闭箱体，该箱体的顶部设置有一出风口；

风机，与出风口连通，用于使箱体内形成负压环境；

用于放置盖板的定位组件，该定位组件包括定位底板、设置在底板上表面的托盘，底板可活动的安装在工作台上，工作台上设置有用于带动底板顺延工作台的宽度方向运动的第一驱动单元；

固定在工作台上顺延工作台的长度方向延伸的横梁，滑动的安装在横梁的且沿箱体的高度方向延伸的竖梁，横梁上设置有用于带动竖梁顺延其长度方向移动的第二驱动单元；

活动的安装在竖梁上的安装板，该安装板上并排的设置有多个等离子喷头，竖梁上设置有用于带动安装板顺延竖梁上下运动的第三驱动单元。

2.如权利要求1所述的触摸屏盖板的等离子处理装置，其特征在于，箱体由多个侧壁和位于该多个侧壁顶部的顶壁围成，在该多个侧壁中至少有一个为透明玻璃，且至少有一个侧壁上安装有可打开的门。

3.如权利要求1所述的触摸屏盖板的等离子处理装置，其特征在于，第一驱动单元包括固定在工作台上且沿工作台宽度方向延伸的第一导轨、滑动的安装在第一导轨上的第一滑块、与第一导轨平行设置的第一传动丝杆、以及用于带动第一传动丝杆转动的第一伺服电机，第一传动丝杆穿接于第一滑块上且与第一滑块螺纹配合，定位底板固定连接在第一滑块上。

4.如权利要求1所述的触摸屏盖板的等离子处理装置，其特征在于，工作台上固定安装有一支架，横梁固定连接在该支架上。

5.如权利要求4所述的触摸屏盖板的等离子处理装置，其特征在于，第二驱动单元包括设置在横梁上且顺延横梁的长度方向延伸的第二直线导轨、滑动的安装在第二直线导轨上的第二滑块、与第二直线导轨平行设置的第二传动丝杆、以及用于带动第二传动丝杆转动的第二伺服电机，第二传动丝杆穿接在第二滑块上且与第二滑块螺纹配合，竖梁通过一三角支架固定连接在第二滑块上。

6.如权利要求5所述的触摸屏盖板的等离子处理装置，其特征在于，第三驱动单元包括设置在竖梁上且顺延竖梁的长度方向延伸的第三直线导轨、滑动的安装在第三直线导轨上的第三滑块、与第三直线导轨平行设置的第三传动丝杆、以及用于带动第三传动丝杆转动的第三伺服电机，第三传动丝杆穿接在第三滑块上且与第三滑块螺纹配合，安装板固定连接在第三滑块上，多个等离子喷头分别通过螺栓可拆卸的连接在安装板上。

7.如权利要求1所述的触摸屏盖板的等离子处理装置，其特征在于，底座的底部端角处安装有脚轮和支撑座，支撑座以螺纹配合的方式与底座固定连接。

8.触摸屏盖板的等离子处理方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤A、对盖板表面进行除尘处理后，将盖板放置于一个密闭的空间中；

步骤B、利用抽气装置持续的抽取密闭空间中的空气；

步骤C、在上述步骤B进行的过程中，利用压缩空气将等离子体均匀的喷向盖板的表面。