CN109333286A - 全方位多轴抛光机 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种全方位多轴抛光机,包括打磨系统、工件运动机构和驱动系统,打磨系统活动连接于竖向工作导轨上,并位于工件运动机构上面,工件运动机构位于水平工作台上,驱动系统分别为打磨系统、工件运动机构、竖向工作导轨和水平工作台分别提供由动力;打磨系统带动旋转台旋转,多个磨轮组件旋转的时候,同时连接有电机自转,设有气缸左右摆动,磨轮能实现多轴方向的移动并自转,并且多个工件设于工件运动机构的旋转磨台上自转,抛光磨轮还可通过气缸左右摆动,实现全方位抛光打磨工件,高效率和全自动化抛光设备。

Description

全方位多轴抛光机
技术领域
本发明涉及抛光设备技术领域,是指全方位多轴抛光机。
背景技术
随着工业的发展,现有的卫浴,五金行业龙头,锁具,把手,眼镜框,手表等异形工件清光工艺一般采用人工抛光,但抛光车间的工作环境恶劣,粉尘四处飞扬,并且抛光的粉尘为金属,易使人产生职业病。人工抛光,外界因数较多,工人技术很关键,不同的人生产的产品的质量不一样,质量不稳定,废品较多,浪费资源严重。工人培养成本很高,熟练抛光工人培养周期为1-2年,对工人身体素质要求较高。劳动强度很大,生产效率低下。
目前现有的抛光设备只能局限于抛光组件,也只局限于几个方向的运动和转动,抛光质量的要求很难达到方位精准,还需要人工进行配合,自动化程度不高,生产效率也不高,解决不了现有抛光工件质量、效率、成本高,和工人生产环境恶劣的问题。
因此,有必要开发出全方位多轴抛光机,对工件进行全方位角度全自动的抛光。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供全方位多轴抛光机,全方位对工件进行抛光,全自动化提高生产效率,降低了人工成本。
为了解决上述技术问题,本发明提供全方位多轴抛光机,包括打磨系统、工件运动机构和驱动系统,所述打磨系统活动连接于竖向工作导轨上,并位于工件运动机构上面,所述工件运动机构位于水平工作台上,所述驱动系统分别为打磨系统、工件运动机构、竖向工作导轨和水平工作台分别提供由动力;
所述打磨系统包括磨轮组件和旋转台组件,所述磨轮组件连接固定于所述旋转台上;
所述工件运动机构包括大转台,及设置于所述大转台上的多个旋转磨台和多个锥齿轮组;
所述磨轮组件连接有气缸,带动所述磨轮左右摆动。
进一步方案为,所述驱动系统包括旋转台电机组件、工件电机组件、竖向电机组件、锥齿轮组、横向电机和/或纵向电机。
进一步方案为,所述旋转台组件连接旋转台电机组件、多个旋转台和多个锥齿轮组,所述锥齿轮组旋转带动磨轮组件旋转。
进一步方案为,所述磨轮组件包括有磨轮电机组件、皮带轮、磨轮、磨轮轴和自动喷蜡装置,所述磨轮组件通过皮带轮带动磨轮轴和磨轮旋转。
进一步方案为,所述工件电机组件包括左侧旋转电机和右侧旋转电机,并分别设于旋转轴的左右侧,一起驱动所述旋转轴转动,并带动多个锥齿轮组转动和旋转磨台。
进一步方案为,所述旋转轴上分别固定连接多个旋转磨台和多个锥齿轮组,所述多个旋转磨台转动分别带动多个工件工作台转动。
进一步方案为,所述锥齿轮组设有相对两个锥齿轮分别与所述旋转台电机组件或工件电机组件的旋转轴的锥齿轮啮合。
进一步方案为,所述旋转磨台还设有治具夹紧固定工件。
进一步方案为,所述竖向工作导轨由所述竖向电机组件带动打磨系统上下移动。
进一步方案为,所述水平工作台包括横向导轨和纵向导轨分别由横向电机和纵向电机驱动。
本发明与现有技术相比的有益效果是:本发明的打磨系统带动磨台旋转,多个磨轮组件旋转的时候,同时连接有电机自转,设有气缸左右摆动,实现多轴方向的移动并自转,多个工件设于工件运动机构的旋转磨台上自转,水平工作台可以横向和纵向由电机带动移动,打磨系统位于竖向工作导轨上可以上下移动,工件运动机构转动,打磨轮转动,抛光轮可通过气缸左右移动,多个磨轮和工件同时自转,并且XYZ多轴方向转动和移动,实现全方位,高效率和全自动化抛光设备。
附图说明
图1为本发明具体实施例的结构分解示意图;
图2为本发明具体实施例的组装结构示意图;
图3为本发明具体实施例磨轮组件的结构分解示意图;
图4为本发明具体实施例工件运动机构的结构示意图;
图5为本发明具体实施例工件运动机构的旋转磨台和锥齿轮组的结构分解示意图。
附图标记
1、纵向导轨;2、横向导轨;3、右侧旋转电机;4、锥齿轮组;5、旋转轴;6、滚动轴承;7、旋转磨台;8、磨轮;9、皮带轮;10、磨轮电机组件;11、自动喷蜡装置;12、竖向工作导轨;13、竖向电机组件;14、旋转轴;15、旋转台电机组件;16、左侧旋转电机;17、旋转台;18、气缸;19、大转台;20、横向电机;21、锥齿轮;22、工件工作台;23、工件旋转轴;24、底座;25、支撑脚。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步详细说明。
如图1至图5所示,本发明的具体实施方案为:包括打磨系统、工件运动机构和驱动系统,打磨系统活动连接于竖向工作导轨12上,并位于工件运动机构上面,工件运动机构位于水平工作台上,驱动系统分别为打磨系统、工件运动机构、竖向工作导轨12和水平工作台分别提供由动力,并连接控制系统,如数控和PLC电脑控制驱动系统;
打磨系统包括磨轮组件和旋转台组件,磨轮组件连接固定于旋转台17上;
工件运动机构包括大转台19,及设置于大转台19上的多个旋转磨台7和多个锥齿轮组4,多个旋转磨台7上固定打磨工件。
磨轮组件连接有气缸18,带动磨轮左右摆动。
进一步地,驱动系统包括旋转台电机组件15、工件电机组件、竖向电机组件13、锥齿轮组4、横向电机20和/或纵向电机,分别提供动力。
进一步地,旋转台组件连接旋转台电机组件15、多个旋转台17、旋转轴14和多个锥齿轮组4,锥齿轮组4旋转带动磨轮组件旋转。
进一步地,磨轮组件包括有磨轮电机组件10、皮带轮9、磨轮8、磨轮轴和自动喷蜡装置11,磨轮组件通过皮带轮9带动磨轮轴和磨轮8旋转。
进一步地,磨轮8连接有气缸18,并由气缸18带动左右摆动,气缸18动力控制磨轮8左右方向,准确控制打磨时的左右摆动次数,控制打磨工件的表面打磨光洁度。
进一步地,工件电机组件包括左侧旋转电机16和右侧旋转电机3,并分别设于旋转轴5的左右侧,一起驱动旋转轴5转动,并带动多个锥齿轮组4转动和旋转磨台7。
进一步地,旋转轴5上分别固定连接多个旋转磨台7和多个锥齿轮组4,多个旋转磨台7转动分别带动多个工件工作台转动。旋转磨台7还设有工件工作台22和工件旋转轴23,连接滚动轴承6,带动工件转动。
进一步地,锥齿轮组4设有相对两个锥齿轮分别与所述旋转台电机组件15或工件电机组件的旋转轴5的锥齿轮啮合转动,并且旋转轴5上转动端连接固定有滚动轴承6,以便减少锥齿轮与旋转轴5的磨损。
进一步地,旋转磨台7还设有治具夹紧固定工件,定位夹紧,使工件在打磨中不会偏移。
进一步地,竖向工作导轨12由竖向电机组件13带动打磨系统上下移动,便于Y轴方向的移动。
进一步地,水平工作台包括横向导轨2和纵向导轨1分别由横向电机20和纵向电机驱动。水平工作台下方为设备底座24,底座24设有四个支撑脚25,用于支撑固定整个抛光设备。
本发明全方位多轴抛光机的打磨系统带动磨台旋转,多个磨轮组件旋转的时候,同时连接有电机自转,设有气缸18左右摆动,实现磨轮8的XYZ多轴方向的移动并自转,多个工件设于工件运动机构的旋转磨台7上自转,水平工作台可以横向和纵向由电机带动移动,打磨系统位于竖向工作导轨12上可以上下移动,工件运动机构转动,打磨轮8转动,抛光轮可通过气缸18左右移动,多个磨轮8和工件同时自转,并且XYZ多轴方向转动和移动,实现全方位,高效率和全自动化抛光设备。
以上所述仅为本专利优选实施方式,并非限制本专利范围,凡是利用说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,直接或间接运用在其它相关的技术领域,均属于本专利保护范围。

Claims (10)

1.一种全方位多轴抛光机,其特征在于:包括打磨系统、工件运动机构和驱动系统,所述打磨系统活动连接于竖向工作导轨上,并位于工件运动机构上面,所述工件运动机构位于水平工作台上,所述驱动系统分别为打磨系统、工件运动机构、竖向工作导轨和水平工作台分别提供由动力;
所述打磨系统包括磨轮组件和旋转台组件,所述磨轮组件连接固定于所述旋转台上;
所述工件运动机构包括大转台,及设置于所述大转台上的多个旋转磨台和多个锥齿轮组;
所述磨轮组件连接有气缸,带动所述磨轮左右摆动。
2.如权利要求1所述的全方位多轴抛光机,其特征在于:所述驱动系统包括旋转台电机组件、工件电机组件、竖向电机组件、锥齿轮组、横向电机和/或纵向电机。
3.如权利要求1所述的全方位多轴抛光机,其特征在于:所述旋转台组件连接旋转台电机组件、多个旋转台和多个锥齿轮组,所述锥齿轮组旋转带动磨轮组件旋转。
4.如权利要求1所述的全方位多轴抛光机,其特征在于:所述磨轮组件包括有磨轮电机组件、皮带轮、磨轮、磨轮轴和自动喷蜡装置,所述磨轮组件通过皮带轮带动磨轮轴和磨轮旋转。
5.如权利要求1所述的全方位多轴抛光机,其特征在于:所述工件电机组件包括左侧旋转电机和右侧旋转电机,并分别设于大转台的左右侧。
6.如权利要求5所述的全方位多轴抛光机,其特征在于:所述左侧旋转电机连接大转台,并带动大转台转动。
7.如权利要求5所述的全方位多轴抛光机,其特征在于:所述右侧旋转电机带动多个锥齿轮组和旋转磨台转动,所述多个旋转磨台转动分别带动多个工件转动。
8.如权利要求2、3或6所述的全方位多轴抛光机,其特征在于:所述锥齿轮组设有相对两个锥齿轮分别与所述旋转台电机组件或工件电机组件的旋转轴的锥齿轮啮合转动。
9.如权利要求1所述的全方位多轴抛光机,其特征在于:所述竖向工作导轨由所述竖向电机组件带动打磨系统上下移动。
10.如权利要求1所述的全方位多轴抛光机,其特征在于:所述水平工作台包括横向导轨和纵向导轨分别由横向电机和纵向电机驱动。
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