CN109275283B - 导通结构的制作方法 - Google Patents

导通结构的制作方法 Download PDF

Info

Publication number
CN109275283B
CN109275283B CN201710581583.5A CN201710581583A CN109275283B CN 109275283 B CN109275283 B CN 109275283B CN 201710581583 A CN201710581583 A CN 201710581583A CN 109275283 B CN109275283 B CN 109275283B
Authority
CN
China
Prior art keywords
hole
holes
conductive
substrate
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201710581583.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109275283A (zh
Inventor
邹雪云
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hongqisheng Precision Electronics Qinhuangdao Co Ltd
Avary Holding Shenzhen Co Ltd
Original Assignee
Hongqisheng Precision Electronics Qinhuangdao Co Ltd
Avary Holding Shenzhen Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hongqisheng Precision Electronics Qinhuangdao Co Ltd, Avary Holding Shenzhen Co Ltd filed Critical Hongqisheng Precision Electronics Qinhuangdao Co Ltd
Priority to CN201710581583.5A priority Critical patent/CN109275283B/zh
Priority to TW106126804A priority patent/TWI658762B/zh
Publication of CN109275283A publication Critical patent/CN109275283A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN109275283B publication Critical patent/CN109275283B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42Plated through-holes or plated via connections
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/09Shape and layout
    • H05K2201/09209Shape and layout details of conductors
    • H05K2201/095Conductive through-holes or vias

Abstract

一种导通结构的制作方法,其包括如下步骤:提供一基板;在所述基板上形成多个第一通孔,该第一通孔的孔径为d;在所述每一第一通孔的孔壁上电镀铜,形成铜层,得到导电通孔;对所述每一导电通孔塞孔;以相邻的两个导电通孔的中心连线的中点为圆心,以D为孔径,在所述形成有多个导电通孔的基板上形成第二通孔,第一通孔的孔径d与第二通孔的孔径D之间的关系为:L‑d+50μm<D<L‑50μm,其中,L为相邻的两个第一通孔之间的距离,形成第二通孔时每一导电通孔的部分铜层被移除,每一导电通孔的未被移除的部分铜层被相邻的两个第二通孔间隔开来,得到两个导通结构。

Description

导通结构的制作方法
技术领域
本发明涉及一种导通结构的制作方法。
背景技术
近年来,随着电子产品的小型化及薄型化趋势,要求其所使用的电路板也具有小型化及薄型化的特点。为满足电子产品的小型化及薄型化,电子产品的电路板需采用密集电路设计,以减小电路板的体积。
电路板中一般具有多个导电通孔,用于连接不同的导电线路层,以作为不同线路之间的信号连接。导电通孔一般通过在电路基板上利用机械钻孔或激光钻孔形成通孔,然后在通孔内壁电镀形成铜金属层后制作而成。然而,由于目前机械钻孔加工形成的通孔的孔径最小约为0.25mm,电路基板上相邻的两个通孔中心轴之间的距离之最小可以达到0.4mm。即使成本较高的激光钻孔加工形成的通孔,相邻的两个通孔中心轴之间的距离之最小也仅可以达到0.25mm。使得目前制作的电路板上导电通孔的密度较小,对电路板的小型化具有一定的限制。
发明内容
有鉴于此,有必要提供一种新的导通结构的制作方法。
一种导通结构的制作方法,其包括如下步骤:
步骤S1:提供一基板;
步骤S2:在所述基板上形成多个第一通孔,该第一通孔的孔径为d;
步骤S3:在所述每一第一通孔的孔壁上电镀铜,形成铜层,得到导电通孔;
步骤S4:对所述每一导电通孔塞孔;
步骤S5:以相邻的两个导电通孔的中心连线的中点为圆心,以D为孔径,在所述形成有多个导电通孔的基板上形成第二通孔,第一通孔的孔径d与第二通孔的孔径D之间的关系为:L-d+50μm<D<L-50μm,其中,L为相邻的两个第一通孔之间的距离,形成第二通孔时每一导电通孔的部分铜层被移除,每一导电通孔的未被移除的部分铜层被相邻的两个第二通孔间隔开来,得到两个导通结构。
所述导通结构的制作方法可以在基板上制作出更为密集的用于导通不同的导电线路层的导通结构,有利于电路板的密集电路设计,利于电路板的小型化。
附图说明
图1是基板的截面示意图。
图2是在图1所示的基板上形成第一通孔的示意图。
图3是在图2所示的第一通孔内形成导电通孔的示意图。
图4是对图3所示的导电通孔进行塞孔的示意图。
图5是图4所示的塞孔后的基板的俯视图。
图6是在图5所示的基板上设置第二通孔的示意图。
图7是对图6所示的第二通孔进行塞孔的示意图。
主要元件符号说明
基板 10
第一表面 11
第二表面 12
第一通孔 20
孔壁 21
铜层 22
导电通孔 30
树脂油墨 31
第二通孔 40
导通结构 50
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
请结合参阅图1~7,本发明第一实施方式提供一种导通结构的制作方法,其包括如下步骤:
步骤S1:提供一基板10。
所述基板10包括第一表面11及与该第一表面11相背的第二表面12。所述基板10可以为覆铜板。
步骤S2:以d为孔径,在所述基板10上开设至少一列第一通孔20,每一列第一通孔20包括多个第一通孔20。该每一第一通孔20具有一孔壁21。
所述每一第一通孔20连接所述第一表面11及所述第二表面12。
优选的,所述第一通孔20的孔径d≦0.3mm。
所述开设多个第一通孔20的方法可以为激光钻孔、机械钻孔等常规用于电路板制作的成孔方法。
步骤S3:在所述每一第一通孔20的孔壁21上电镀铜,以形成铜层22,得到导电通孔30。
步骤S4:对所述每一导电通孔30塞孔。
具体的,使用树脂油墨31将每一导电通孔30填满。
所述塞孔可以防止水汽进入导电通孔30中,从而避免造成爆米花效应(PopcornEffect)。
步骤S5:在塞孔后的基板10上开设至少一列第二通孔40,每一列第二通孔40包括多个第二通孔40,每一第二通孔40连接所述第一表面11及所述第二表面12。每一列第二通孔40的多个第二通孔40的中心连线与其中一列第一通孔20的多个第一通孔20的中心连线重合,在每一列第二通孔40上,其中两个第二通孔40的中心分别位于该列上的所有第一通孔20的中心的相对两个外侧,其余的第二通孔40的中心均为相邻的两个第一通孔20的中心连线的中点。定义第二通孔40的孔径为D,第一通孔20的孔径d与第二通孔40的孔径D之间的关系为:L-d+50μm<D<L-50μm,其中,L为相邻的两个第一通孔20之间的距离。开设第二通孔40时每一导电通孔30的部分铜层22被切除,每一导电通孔30的未被切除的部分铜层22被相邻的两个第二通孔40完全间隔开来,得到两个完全分离的导通结构50。
在至少一实施例中,所述第二通孔40的孔径D比第一通孔20的孔径d大0.5mm~1.0mm。在至少一实施例中,所述第一通孔20的孔径d为0.3mm,所述第二通孔40的孔径D为0.35mm。
所述导通结构50同时连接所述基板10的第一表面11及第二表面12。在利用该基板10制作电路板的时候,该导通结构50可以同时与第一表面11上的导电线路层及第二表面12上的导电线路层电连接,从而将第一表面11上的导电线路层与第二表面12上的导电线路层电连接在一起。
所述开设多个第二通孔40的方法可以为激光钻孔、机械钻孔等常规用于电路板制作的成孔方法。
步骤S6:对所述每一第二通孔40进行塞孔。
具体的,使用树脂油墨31将每一第二通孔40填满。
所述用于导通不同的导电线路层的导通结构的制作方法中先对导电通孔30塞孔,然后再形成第二通孔40,如此,可以有效的保护未被切除的铜层22,有利于得到结构完好的导通结构50。
可以理解的,在所述步骤S4与步骤S5之间还包括对导电通孔30塞孔后的基板10的第一表面11及第二表面12进行研磨的步骤。该研磨用于去除堆积在导电通孔30外部的树脂油墨,以便于后续形成第二通孔40,并避免铜层22的与第一表面11或第二表面12连接的端部被树脂油墨覆盖。
可以理解的,在所述步骤S6之后还包括对第二通孔40塞孔后的基板10的第一表面11及第二表面12进行研磨的步骤。该研磨用于去除堆积在第二通孔40外部的树脂油墨,以避免导通结构50的与第一表面11或第二表面12连接的端部被树脂油墨覆盖。
可以理解的,在其它实施方式中,还可以不包括所述步骤S6。
可以理解的,在其它实施方式中,可以省略所述步骤S4,在步骤S3之后直接进行步骤S5,将所述步骤S6替换为:在相邻的导通结构50之间及第二通孔40填充树脂油墨。
本发明的导通结构的制作方法,可以在基板10上制作出更为密集的用于导通不同的导电线路层的导通结构50,有利于电路板的密集电路设计,利于电路板的小型化。
另外,对于本领域的普通技术人员来说,可以根据本发明的技术构思做出其它各种相应的改变与变形,而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种导通结构的制作方法,其包括如下步骤:
步骤S1:提供一基板;
步骤S2:在所述基板上开设至少一列第一通孔,每一列第一通孔包括多个第一通孔,该第一通孔的孔径为d,所述多个第一通孔之间并不相交;
步骤S3:在所述每一第一通孔的孔壁上电镀铜,形成铜层,得到导电通孔;
步骤S4:对所述每一导电通孔塞孔;
步骤S5:在塞孔后的基板上开设至少一列第二通孔,每一列第二通孔包括多个第二通孔,每一列第二通孔的多个第二通孔的中心连线与其中一列第一通孔的多个第一通孔的中心连线重合,在每一列第二通孔上,其中两个第二通孔的中心分别位于该列上的所有第一通孔的中心的相对两个外侧,其余的第二通孔的中心均为相邻的两个第一通孔的中心连线的中点,定义第二通孔的孔径为D,第一通孔的孔径d与第二通孔的孔径D之间的关系为:L-d+50μm<D<L-50μm且所述第二通孔的孔径D比第一通孔的孔径d大0.5mm~1.0mm,其中,L为相邻的两个第一通孔之间的距离,开设第二通孔时每一导电通孔的部分铜层被切除,每一导电通孔的未被切除的部分铜层被相邻的两个第二通孔完全间隔开来,得到两个完全分离的导通结构。
2.如权利要求1所述的导通结构的制作方法,其特征在于:所述基板包括第一表面及与该第一表面相背的第二表面,所述每一第一通孔连接该第一表面及该第二表面。
3.如权利要求1所述的导通结构的制作方法,其特征在于:所述第一通孔的孔径d≦0.3mm。
4.如权利要求1所述的导通结构的制作方法,其特征在于:在所述基板上开设多个第一通孔的方法为激光钻孔或机械钻孔。
5.如权利要求2所述的导通结构的制作方法,其特征在于:在所述步骤S4与步骤S5之间还包括对导电通孔塞孔后的基板的第一表面及第二表面进行研磨的步骤。
6.如权利要求1所述的导通结构的制作方法,其特征在于:所述对所述每一导电通孔塞孔的方法为使用树脂油墨将每一导电通孔填满。
7.如权利要求2所述的导通结构的制作方法,其特征在于:所述导通结构同时连接所述基板的第一表面及第二表面。
8.如权利要求1所述的导通结构的制作方法,其特征在于:所述开设第二通孔的方法为激光钻孔或机械钻孔。
9.如权利要求1所述的导通结构的制作方法,其特征在于:所述步骤S5后还包括:
步骤S6:使用树脂油墨对每一第二通孔塞孔。
10.如权利要求9所述的导通结构的制作方法,其特征在于:在所述步骤S6之后还包括对第二通孔塞孔后的基板的第一表面及第二表面进行研磨的步骤。
CN201710581583.5A 2017-07-17 2017-07-17 导通结构的制作方法 Active CN109275283B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710581583.5A CN109275283B (zh) 2017-07-17 2017-07-17 导通结构的制作方法
TW106126804A TWI658762B (zh) 2017-07-17 2017-08-08 導通結構的製作方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710581583.5A CN109275283B (zh) 2017-07-17 2017-07-17 导通结构的制作方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109275283A CN109275283A (zh) 2019-01-25
CN109275283B true CN109275283B (zh) 2021-04-20

Family

ID=65152531

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710581583.5A Active CN109275283B (zh) 2017-07-17 2017-07-17 导通结构的制作方法

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN109275283B (zh)
TW (1) TWI658762B (zh)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03105995A (ja) * 1989-09-20 1991-05-02 Hitachi Ltd 高密度プリント配線基板
JPH06188563A (ja) * 1992-12-17 1994-07-08 Sumitomo Bakelite Co Ltd 印刷配線板の製造方法
CN102595790A (zh) * 2011-01-18 2012-07-18 富葵精密组件(深圳)有限公司 电路板制作方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6848912B2 (en) * 2002-12-12 2005-02-01 Broadcom Corporation Via providing multiple electrically conductive paths through a circuit board
JP4345598B2 (ja) * 2004-07-15 2009-10-14 パナソニック株式会社 回路基板の接続構造体とその製造方法
CN102256453B (zh) * 2010-05-21 2013-12-25 富葵精密组件(深圳)有限公司 多层电路板制作方法
TWI389619B (zh) * 2010-05-27 2013-03-11 Zhen Ding Technology Co Ltd 多層電路板製作方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03105995A (ja) * 1989-09-20 1991-05-02 Hitachi Ltd 高密度プリント配線基板
JPH06188563A (ja) * 1992-12-17 1994-07-08 Sumitomo Bakelite Co Ltd 印刷配線板の製造方法
CN102595790A (zh) * 2011-01-18 2012-07-18 富葵精密组件(深圳)有限公司 电路板制作方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI658762B (zh) 2019-05-01
CN109275283A (zh) 2019-01-25
TW201909708A (zh) 2019-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102867807B (zh) 无核心层的封装基板的制造方法
JP5556273B2 (ja) 配線基板
US20070272436A1 (en) Printed circuit board unit
JP5056080B2 (ja) 多層プリント配線板及びその製造方法
CN103369868B (zh) 一种pcb板的制作方法及pcb板
US9449762B2 (en) Embedded package substrate capacitor with configurable/controllable equivalent series resistance
US20150282317A1 (en) Edge contacts of circuit boards, and related apparatus and methods
CN106165093B (zh) 包括表面互连和包含无电镀填充物的空腔的封装基板
CN105304584A (zh) 中介基板及其制造方法
CN104244582A (zh) 埋入式高密度互连印刷电路板及其制作方法
CN109788663B (zh) 电路板的制作方法及由该方法制得的电路板
CN104604345A (zh) 布线板及布线板的制造方法
CN109803481B (zh) 多层印刷电路板及制作多层印刷电路板的方法
JP2018512694A (ja) 電気接続構造の製造方法
US8227699B2 (en) Printed circuit board
CN105323948A (zh) 中介基板及其制造方法
TWI483655B (zh) 具有埋入式連接桿之電路板及其製造方法
JP2009170561A (ja) 配線基板およびその製造方法
US10869382B2 (en) Interposer and electronic apparatus
CN109275283B (zh) 导通结构的制作方法
JP6367479B2 (ja) 伝送線路ビア構造
CN107666782A (zh) 具厚铜线路的电路板及其制作方法
CN110021831A (zh) 微波垂直过渡连接结构和微波器件
CN112616245B (zh) 加速处理器加速卡及其制作方法
JP2007042957A (ja) 半導体装置用多層基板の部分めっき方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant