CN109171453A - 一种新型真空低温料理设备 - Google Patents

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陈跃文
刘飞建
蔡文强
刘飞扬
石玉刚
杨炉
张菁娜
沈诗柯
任少天
周大勇
董秀萍
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    • A47J36/00—Parts, details or accessories of cooking-vessels
    • A47J36/32—Time-controlled igniting mechanisms or alarm devices

Abstract

本发明公开一种新型真空低温料理设备，所述设备包括底座，所述底座上方有恒温水浴箱和控制器。所述水浴箱内部有环形加热棒、感温探头以及安全隔板，并且连通真空装置，所述真空装置包括真空泵以及抽真空头。所述环形加热棒、感温探头、真空装置连接有控制器，将食材放入真空袋中，拉上密封拉链，将真空袋上抽真空孔对准抽真空头，启动真空泵进行抽真空，然后在恒温水浴箱中灌入净化水，启动加热棒进行加热，感温探头实时监控水箱内温度，使食材能够处于一个真空低温烹饪环境，所加工的产品感官品质、质构特性与营养品质较常规加工方式都有显著提升。

Description

一种新型真空低温料理设备
技术领域
本发明涉及一种新型真空低温料理设备，属于食品温和加工技术领域。
背景技术
真空低热加工技术在保持产品风味、质构、营养品质方面有着突出优势，在国外的高级料理烹饪中掀起热潮。传统真空低热加工技术通常需要抽真空设备和恒温加热设备，少有设备能实现两种设备的一体化，以及程序化综合控制。鉴于上述背景，有必要提供一种新型真空低温料理设备实现真空低热加工技术在家庭烹饪、科研实验及小型商品化生产场景的应用。
发明内容
本发明的目的是针对现有真空技术和低热加工技术热潮，以及集成型精准低热加工设备空白，提供一种新型真空低温料理设备。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的：
一种新型真空低温料理设备，包括：
底座，在所述底座上方的一边设有恒温水浴箱，在所述底座上方的另一边设有控制器；
所述恒温水浴箱内设有环形加热棒和安全隔板，所述安全隔板位于所述环形加热棒的上方；所述恒温水浴箱连通真空装置，所述真空装置包括真空泵以及与所述真空泵连接的抽真空头，其中所述真空泵位于所述恒温水浴箱外部，所述抽真空头设置在恒温水浴箱的箱壁上；所述恒温水浴箱的箱壁上还设有感温探头；所述环形加热棒、感温探头和真空装置均与所述控制器连接。
进一步的，所述新型真空低温料理设备整体呈长方体状。
进一步的，所述恒温水浴箱呈长方体状，且所述恒温水浴箱的长度为所述新型真空低温料理设备长度的三分之二。
进一步的，所述环形加热棒位于所述恒温水浴箱底部上方3-5厘米；所述安全隔板位于所述环形加热棒上方2-3厘米，且所述安全隔板的表面均匀分布有若干小孔；所述感温探头位于所述安全隔板上方10-15厘米。
进一步的，所述控制器包括控制器壳体，且所述控制器壳体的长度为所述新型真空低温料理设备长度的三分之；所述控制器壳体的外部前侧设有控制面板，所述控制面板上设有暂定按钮、启动按钮和停止按钮；所述控制面板上还设有显示屏，所述显示屏用于显示所述感温探头的检测温度及设定温度和操作时间及设定时间。
进一步的，所述真空泵设于所述控制器壳体内部，且所述真空泵位于靠近所述恒温水浴箱的一侧；所述真空泵距离所述控制器壳体顶部15-20厘米。
进一步的，所述抽真空头伸入所述恒温水浴箱4-6厘米，且所述抽真空头的顶端分别套有第一强磁圈和橡胶密封圈。
进一步的，所述控制器壳体的顶部设有排气口；所述恒温水浴箱一侧箱壁的底端设有排水口。
进一步的，还包括用于料理食材的真空袋，所述真空袋放置于所述安全隔板上；所述真空袋封口处设有凹凸扣拉链及拉链扣；所述真空袋一侧的中间位置设有与所述抽真空头相对应的抽真空孔，所述真空袋内部靠近抽真空孔处设有第二强磁圈。
本发明的有益效果为：
1.将真空设备和恒温加热设备集成为一台设备，实现食材在低热真空条件下的温和物理加工，设备由集成控制模块控制，更加智能化、便捷化、精准化，操作更为简单，同时弥补市场上真空低温料理一体机的空白。
2.环形加热棒保证对传热介质的加热更为均匀，置于底部能够加快热力循环，提高升温速度。感温探头与食材处于同一水平面能够更加精确测定实时动态温度，实现精确控温的目的。
3.抽真空头置于设备顶部，保证抽真空装置单元与水面分离。抽真空头顶部以及真空包装袋抽真空孔顶部的两个异极强磁圈能保证真空包装袋和真空泵更好地对接，提高抽真空效率和衔接方便性。
综上所述，本发明结构设计巧妙，在食品低热低氧加工技术领域中具有很好的应用前景。
附图说明
图1为本发明所述新型真空低温料理设备的立体结构示意图；
图2为本发明所述新型真空低温料理设备的剖面结构示意图；
图3为本发明所述抽真空头的结构示意图；
图4为本发明所述真空袋的结构示意图；
图5为本发明所述真空袋抽真空孔处的第二强磁圈的设置结构示意图；
其中，1-底座，2-恒温水浴箱，3-控制器，4-抽真空头，5-感温探头，6-安全隔板，7-环形加热棒，8-控制面板，9-暂定按钮，10-启动按钮，11-停止按钮，12-排气口，13-排水口，14-真空泵，15-第一强磁圈，16-橡胶密封圈，17-抽真空孔，18-真空袋，19-凹凸扣拉链及拉链扣，20-第二强磁圈。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
一种新型真空低温料理设备，如图1所示，包括：
底座1，在所述底座1上方的一边设有恒温水浴箱2，在所述底座1上方的另一边设有控制器3.下部底座1能增加设备的整体稳定性，支撑整个设备结构。左右两边分布恒温水浴箱2以及控制器3能使操作区和控制区分离，保证对食材的加工过程能够更好地进行。
所述恒温水浴箱2内设有环形加热棒7和安全隔板6，所述安全隔板6位于所述环形加热棒7的上方；所述恒温水浴箱2连通真空装置，所述真空装置包括真空泵14以及与所述真空泵14连接的抽真空头4，其中所述真空泵位于所述恒温水浴箱2外部，所述抽真空头4设置在恒温水浴箱2的箱壁中上部；所述恒温水浴箱2的箱壁上还设有感温探头5。所述环形加热棒7、感温探头5和真空装置均与所述控制器3连接。
所述新型真空低温料理设备整体呈长方体状。设备外型为长方体，能够保证设备各部分的结合更为紧密，便于合理安排各部分空间，节约设备耗材。同时长方体能够给人简洁大方的视觉感觉，使设备看起来更为美观。所述恒温水浴箱2也呈长方体状，且所述恒温水浴箱2的长度为所述新型真空低温料理设备长度的三分之二，该设计能扩大操作区的空间，提供处理更多规格食材的可能。
还包括用于料理食材的真空袋18，所述真空袋18放置于所述安全隔板6上。
所述环形加热棒7位于所述恒温水浴箱2底部上方3-5厘米；所述安全隔板6位于所述环形加热棒7上方2-3厘米，且所述安全隔板6的表面均匀分布有若干小孔，安全隔板6隔离环形加热棒7以及装入真空袋18的食材，避免食材直接接触环形加热棒7导致受热不均的问题。所述感温探头5位于所述安全隔板6上方10-15厘米。感温探头5所处位置与食材处于同一水平面，能更加精确的测定食材所受加热温度。
所述控制器包括控制器壳体，且所述控制器壳体的长度为所述新型真空低温料理设备长度的三分之；所述控制器壳体的外部前侧设有控制面板8，所述控制面板8上设有暂定按钮9、启动按钮10和停止按钮11；所述控制面板8上还设有显示屏，所述显示屏用于显示所述感温探头5的检测温度及设定温度和操作时间及设定时间。所述启动按钮10能够控制设备开启，所诉暂停按钮9能够暂时停止设备的所有动作，所述停止按钮11能够完全停止设备的所有动作。通过控制面板8进行控制真空泵14的启动与关闭，控制环形加热棒7的启动与关闭，设定加热温度以及加热时间。通过控制面板8设定恒温水浴箱2内所需温度以及加热时长，感温探头5监测恒温水浴箱2内实际水温，并通过电脑板设定程序自动控制加热装置，保证箱内水温稳定在恒定数值，控制面板实时反馈检测温度以及设定温度，以及操作时间和设定时间。
所述真空泵14设于所述控制器壳体内部，且所述真空泵14位于靠近所述恒温水浴箱2的一侧；所述真空泵14距离所述控制器壳体顶部15-20厘米。
所述抽真空头4伸入所述恒温水浴箱2 4-6厘米，且所述抽真空头4的顶端分别套有第一强磁圈15和橡胶密封圈16。
所述控制器壳体的顶部设有排气口12；所述恒温水浴箱2一侧箱壁的底端设有排水口13。
所述真空袋18封口处设有凹凸扣拉链及拉链扣19，所述真空袋18一侧的中间位置设有与所述抽真空头4相对应的抽真空孔17，所述真空袋18内部靠近抽真空孔17处设有与所述第一强磁圈15相对应的第二强磁圈20。
点击启动按钮10进行设备预热，将食材放入真空袋18中，拉上拉链扣，将真空袋上抽真空孔17对准抽真空头4，在控制面板8上启动真空泵14进行抽真空，然后在恒温水浴箱2中灌入净化水，在控制面板8上启动环形加热棒7进行加热，感温探头5实时监控水箱内温度，使食材能够处于一个真空低温烹饪环境，加工出来的食材口感与营养价值较常规加工方式都有很好地提升。环形加热棒7对恒温水浴箱2中的介质进行加热，提供热量，感温探头5实时感受水浴箱内介质温度并且反馈给控制器3，控制器3再进行调整，使水浴箱内始终处于一个稳定的恒温环境之下。同时环形加热棒7位于恒温水浴箱2底部能保证箱内介质上下循环，促进介质热交换，使箱内温度更快达到设定值。安全隔板6为装入真空袋18的食材提供支撑，使食材周围受热均匀。抽真空过程真空袋上强磁圈20与抽真空头强磁圈15吸附对接，启动真空泵14进行抽真空，橡胶密封圈16能保证接口处密封不漏气。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种新型真空低温料理设备，其特征在于，包括：
底座(1)，在所述底座(1)上方的一边设有恒温水浴箱(2)，在所述底座(1)上方的另一边设有控制器(3)；
所述恒温水浴箱(2)内设有环形加热棒(7)和安全隔板(6)，所述安全隔板(6)位于所述环形加热棒(7)的上方；所述恒温水浴箱(2)连通真空装置，所述真空装置包括真空泵(14)以及与所述真空泵(14)连接的抽真空头(4)，其中所述真空泵位于所述恒温水浴箱(2)外部，所述抽真空头(4)设置在恒温水浴箱(2)的箱壁上；所述恒温水浴箱(2)的箱壁上还设有感温探头(5)；所述环形加热棒(7)、感温探头(5)和真空装置均与所述控制器(3)连接。
2.根据权利要求1所述的新型真空低温料理设备，其特征在于，所述新型真空低温料理设备整体呈长方体状。
3.根据权利要求2所述的新型真空低温料理设备，其特征在于，所述恒温水浴箱(2)呈长方体状，且所述恒温水浴箱(2)的长度为所述新型真空低温料理设备长度的三分之二。
4.根据权利要求1所述的新型真空低温料理设备，其特征在于，所述环形加热棒(7)位于所述恒温水浴箱(2)底部上方3-5厘米；所述安全隔板(6)位于所述环形加热棒(7)上方2-3厘米，且所述安全隔板(6)的表面均匀分布有若干小孔；所述感温探头(5)位于所述安全隔板(6)上方10-15厘米。
5.根据权利要求1所述的新型真空低温料理设备，其特征在于，所述控制器包括控制器壳体，且所述控制器壳体的长度为所述新型真空低温料理设备长度的三分之；所述控制器壳体的外部前侧设有控制面板(8)，所述控制面板(8)上设有暂定按钮(9)、启动按钮(10)和停止按钮(11)；所述控制面板(8)上还设有显示屏，所述显示屏用于显示所述感温探头(5)的检测温度及设定温度和操作时间及设定时间。
6.根据权利要求5所述的新型真空低温料理设备，其特征在于，所述真空泵(14)设于所述控制器壳体内部，且所述真空泵(14)位于靠近所述恒温水浴箱(2)的一侧；所述真空泵(14)距离所述控制器壳体顶部15-20厘米。
7.根据权利要求1所述的新型真空低温料理设备，其特征在于，所述抽真空头(4)伸入所述恒温水浴箱(2)4-6厘米，且所述抽真空头(4)的顶端分别套有第一强磁圈(15)和橡胶密封圈(16)。
8.根据权利要求5所述的新型真空低温料理设备，其特征在于，所述控制器壳体的顶部设有排气口(12)；所述恒温水浴箱(2)一侧箱壁的底端设有排水口(13)。
9.根据权利要求1所述的新型真空低温料理设备，其特征在于，还包括用于料理食材的真空袋(18)，所述真空袋(18)放置于所述安全隔板(6)上；所述真空袋(18)封口处设有凹凸扣拉链及拉链扣(19)，所述真空袋(18)一侧的中间位置设有与所述抽真空头(4)相对应的抽真空孔(17)，所述真空袋(18)内部靠近抽真空孔(17)处设有第二强磁圈(20)。
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