CN109148340B - 一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置 - Google Patents
一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109148340B CN109148340B CN201811166558.1A CN201811166558A CN109148340B CN 109148340 B CN109148340 B CN 109148340B CN 201811166558 A CN201811166558 A CN 201811166558A CN 109148340 B CN109148340 B CN 109148340B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- plate
- etching
- adjusting
- scale
- baffle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 124
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 32
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 15
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 13
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 4
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 3
- 244000309464 bull Species 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
- H01L21/67075—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Abstract
本发明涉及晶圆生产附属装置的技术领域,特别是涉及一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,其方便对晶圆刻蚀的深度进行控制调节操作,同时提高深度调节精确度,提高使用可靠性;并且提高刻蚀机在支撑板上的稳定性,提高实用性;包括刻蚀机和支撑板;包括放置板、左刻度板、右刻度板、左调节板、右调节板、左定位板、右定位板、左螺纹杆、右螺纹杆、左螺纹管、右螺纹管、左大齿轮、右大齿轮、左支撑轴、右支撑轴、左带动轴、右带动轴、左大锥齿轮、右大锥齿轮和四组定位滑柱;还包括左顶紧块、右顶紧块、压板、顶板、调节丝杠、上锁紧螺母和下锁紧螺母,顶板横向连接在左挡板和右挡板内部上侧,并且顶板的顶端中部设置有上下贯穿的螺纹通孔。
Description
技术领域
本发明涉及晶圆生产附属装置的技术领域,特别是涉及一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置。
背景技术
众所周知,用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置是一种晶圆刻蚀作业过程中对其刻蚀机底部输出端的刻蚀探头进行深度调节,以便于更好的根据工艺生产要求调节对晶圆的刻蚀深度的辅助装置,其在晶圆生产的领域中得到了广泛的使用;现有的用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置包括刻蚀机、支撑板、左调节螺栓和右调节螺栓,支撑板的顶端的左侧和右侧分别设置有左挡板和右挡板,并且刻蚀机位于左挡板和右挡板之间,刻蚀机的左端与左挡板的右端可滑动接触,刻蚀机的右端与右挡板的左端可滑动接触,支撑板的顶端中部设置有上下贯穿的调节通孔,并且支撑板的底端左侧和右侧分别设置有上下贯穿的左调节螺纹通孔和右调节螺纹通孔,左调节螺栓和右调节螺栓的顶端均自支撑板的底端分别插入并螺装至左螺纹通孔和右螺纹通孔内部,刻蚀机的底部输出端设置有刻蚀探头,并且刻蚀探头的底端自支撑板的顶端可滑动穿过调节通孔内部并伸出至支撑板的底端外界,左调节螺栓和右调节螺栓的顶端分别与刻蚀机底端的左侧和右侧接触;现有的用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置使用时,首先将支撑板安装在晶圆刻蚀作业的架台上,使刻蚀探头位于晶圆的上方,然后将刻蚀机与外部电源接通,通过转动左调节螺栓和右调节螺栓,调节刻蚀机与支撑板之间的距离,从而改变刻蚀探头在调节通孔内部伸出至支撑板底端的长度,从而根据工艺要求,调节刻蚀探头对晶圆的刻蚀深度后,最后通过刻蚀探头对晶圆进行刻蚀即可;现有的用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置使用中发现,其对晶圆刻蚀的深度控制调节操作不便,同时精确度较差,使用可靠性较低;并且刻蚀机在支撑板上的稳定性较差,实用性较差。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明提供一种方便对晶圆刻蚀的深度进行控制调节操作,同时提高深度调节精确度,提高使用可靠性;并且提高刻蚀机在支撑板上的稳定性,提高实用性的用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置。
本发明的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,包括刻蚀机和支撑板,支撑板的顶端的左侧和右侧分别设置有左挡板和右挡板,并且刻蚀机位于左挡板和右挡板之间,刻蚀机的左端与左挡板的右端可滑动接触,刻蚀机的右端与右挡板的左端可滑动接触,支撑板的顶端中部设置有上下贯穿的调节通孔,刻蚀机的底部输出端设置有刻蚀探头,并且刻蚀探头的底端自支撑板的顶端可滑动穿过调节通孔内部并伸出至支撑板的底端外界;包括放置板、左刻度板、右刻度板、左调节板、右调节板、左定位板、右定位板、左螺纹杆、右螺纹杆、左螺纹管、右螺纹管、左大齿轮、右大齿轮、左支撑轴、右支撑轴、左带动轴、右带动轴、左大锥齿轮、右大锥齿轮和四组定位滑柱,所述左刻度板和右刻度板的底端分别与所述放置板顶端的左侧和右侧连接,并且放置板的左端探出至左刻度板的左端外界,左刻度板和右刻度板上分别设置有左刻度尺和右刻度尺,所述四组定位滑柱的底端分别与所述放置板顶端中部区域的左前侧、左后侧、右前侧和右后侧连接,并且所述支撑板顶端的左前侧、左后侧、右前侧和右后侧均设置有上下贯穿的滑动通孔,四组定位滑柱的顶端均自支撑板的底端分别可滑动穿过四组滑动通孔内部并伸出至支撑板的顶端外界,所述左调节板和右调节板的底端分别与支撑板顶端的左侧和右侧连接,并且所述左定位板的右端与调节板的左端上侧连接,左定位板的左端设置有左指针,所述右定位板的左端与左调节板的右端上侧连接,并且右定位板的右端设置有右指针,所述左指针的左端指向左刻度尺的右端刻度位置,并且右指针的右端指向右刻度尺左端的刻度位置,所述左螺纹杆和右螺纹杆的顶端分别与所述左定位板和右定位板底端的左侧和右侧中部连接,并且左螺纹杆和右螺纹杆的底端分别插入并螺装至左螺纹管和右螺纹管的顶端内部,支撑板顶端的左侧和右侧分别对应设置有左固定槽和右固定槽,左固定槽和右固定槽内部分别设置有左滚珠轴承和右滚珠轴承,所述左螺纹管和右螺纹管的底端分别插入并固定安装至左滚珠轴承和右滚珠轴承内部,所述左大齿轮固定套装在左螺纹管的外部,并且所述右大齿轮固定套装在右螺纹管的外部,支撑板的顶端左侧和右侧分别设置有左调节槽和右调节槽,并且左调节槽位于左刻度板与左固定槽之间,右调节槽位于所述右刻度板与右固定槽之间,左调节槽和右调节槽内部分别设置有左调节滚珠轴承和右调节滚珠轴承,所述左支撑轴和右支撑轴的底端分别插入并固定安装至左调节滚珠轴承和右调节滚珠轴承内部,左支撑轴和右支撑轴的顶端分别同心设置有左小齿轮和右小齿轮,左小齿轮与左大齿轮啮合,右小齿轮与右大齿轮啮合,所述左刻板和右刻度板上分别横向设置有左右贯穿的左带动通孔和右带动通孔,左带动通孔的左端同心设置有左轴承座,左轴承座内部设置有左带动滚珠轴承,右带动通孔的右端同心设置有右轴承座,并且右轴承座内部设置有右带动滚珠轴承,所述左带动轴的右端自左刻度板的左端依次穿过左带动滚珠轴承和左带动通孔内部并伸出至左刻度板的右端外界,左带动轴的右端同心设置有左小锥齿轮,所述左大锥齿轮固定套装在所述左支撑轴的外部上侧,并且左小齿轮与左大齿轮啮合,所述右带动轴的左端自右刻度板的右端依次穿过右带动滚珠轴承和右带动通孔内部并伸出至右刻度板的左端外界,右带动轴的左端同心设置有右小锥齿轮,所述右大锥齿轮固定套装在所述右支撑轴的外部上侧,并且右小齿轮与右大齿轮啮合,放置板的顶端中部设置有上下贯穿的定位通孔,并且刻蚀探头的底端自放置板的顶端穿过定位通孔并伸出至放置板的底端外界;还包括左顶紧块、右顶紧块、压板、顶板、调节丝杠、上锁紧螺母和下锁紧螺母,所述顶板横向连接在所述左挡板和右挡板内部上侧,并且顶板的顶端中部设置有上下贯穿的螺纹通孔,所述压板位于所述顶板的下方,并且所述左顶紧块和右顶紧块的顶端分别与所述压板底端的左侧和右侧连接,左顶紧块和右顶紧块的底端分别与所述刻蚀机的顶端左侧和右侧顶紧接触,所述调节丝杠的底端自顶板的顶端螺装穿过螺纹通孔内部并旋出至顶板的底端外界与所述压板的顶端中部顶紧接触,所述上锁紧螺母和下锁紧螺母分别位于所述顶板的上方和下方,并且上锁紧螺母和下锁紧螺母均螺装套设在调节丝杠的外部,上锁紧螺母的底端与所述顶板的顶端锁紧接触,下锁紧螺母的顶端与顶板的底端锁紧接触。
本发明的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,还包括左固定螺栓和右固定螺栓,所述左挡板和右挡板的内部上侧分别横向设置有左右贯穿的左安装通孔和右安装通孔,所述顶板的左端和右端分别设置有左螺纹孔和右螺纹孔,所述左固定螺栓的右端自左挡板的左端穿过左安装通孔内部并伸出至左挡板的右端外界,并且左固定螺栓的右端插入并螺装至左螺纹孔内部,所述右固定螺栓的左端自右挡板的右端穿过右安装通孔内部并伸出至右挡板的左端外界,并且右固定螺栓的左端插入并螺装至右螺纹孔内部。
本发明的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,还包括左滑块和右滑块,所述左滑块的右端与所述压板的左端连接,并且所述右滑块的左端与压板的右端连接,所述左挡板的右端纵向设置有左滑槽,并且右挡板的左端纵向设置有右滑槽,所述左滑块和右滑块分别可滑动设置在左滑槽和右滑槽内部。
本发明的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,还包括上手轮,所述上手轮的底端与所述调节丝杠的顶端同心连接。
本发明的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,还包括左手轮和右手轮,所述左手轮的右端与所述左带动轴的左端同心连接,并且所述右手轮的左端与所述右带动轴的右端同心连接。
本发明的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,还包括左固定圈、右固定圈、左紧固螺母和右紧固螺母,所述左固定圈和右固定圈分别套设在所述左螺纹管和右螺纹管的外部下侧,并且左固定圈和右固定圈的底端均与所述放置板的顶端连接,左固定圈和右固定圈的顶端均设置有防滑纹,所述左螺纹管和右螺纹管的外部分别设置有左外部螺纹和右外部螺纹,并且左紧固螺母通过左外部螺纹螺装套设在左螺纹管的外部,并且右紧固螺母通过右外部螺纹螺装套设在右螺纹管的外部。
本发明的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,还包括四组限位板,所述四组限位板的底端分别与所述四组定位滑柱的顶端连接。
本发明的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,所述左指针和右指针的前端均涂装设置有红色漆料。
与现有技术相比本发明的有益效果为:可以通过放置板将整体固定安装在晶圆刻蚀作业的架台上,然后可以通过同时转动左带动轴和右带动轴,使左小锥齿轮和右小锥齿轮同时转动,从而分别带动左大锥齿轮和右大锥齿轮转动,由于左小锥齿轮带动左大锥齿轮为降速传动,同时右小锥齿轮带动右大锥齿轮亦为降速传动,同时由于左小齿轮与左大锥齿轮同步转动,左小齿轮带动左大齿轮为降速传动,所以转动左带动轴可以使左螺纹管进行缓慢转动,同时由于右小齿轮与右大锥齿轮同步转动,右小齿轮带动右大齿轮为降速传动,所以转动右带动轴可以使右螺纹管进行缓慢转动,所以可以分别是左螺纹杆和右螺纹杆分别自左螺纹管和右螺纹管内部缓慢的旋进和旋出,可以通过对照刻蚀探针与晶圆刻蚀作业的架台上晶圆的位置,对左指针和右指针进行调试,使左指针和右指针分别在左刻度尺和右刻度尺上选取初始刻度位置作为参考位置,并做好标记,然后通过同时转动左带动轴和右带动轴,对左指针和右指针的高度进行缓慢调节,从而可以缓慢的向下调节刻蚀探针伸出至放置板底端外界的长度,从而可以方便操作人员精确的对刻蚀探针进行深度调节,同时观察左指针和右指针分别在左刻度尺和右刻度尺上与初始刻度位置之间的距离变化,记录刻蚀探针调节的深度,通过四组定位滑柱分别与支撑板上的四组滑动通孔之间的滑动配合,使刻蚀探针可以沿着四组滑动通孔的方形稳定的进行上下调节,从而可以方便对晶圆刻蚀的深度进行控制调节操作,同时提高深度调节精确度,提高使用可靠性;并且可以通过转动调节丝杠,使调节丝杠在顶板内部向下旋出,从而带动压板向下运动,使左顶紧块和右顶紧块分别将刻蚀机顶端的左侧和右侧在与支撑板的配合下固定在左挡板和右挡板之间,并且可以通过分别向下转动上锁紧螺母和向上转动下锁紧螺母,使调节丝杠与顶板调节后的相对位置进行锁紧固定,从而可以提高刻蚀机在支撑板上的稳定性,提高实用性。
附图说明
图1是本发明的结构示意图;
图2是本发明A处的局部放大结构示意图;
附图中标记:1、刻蚀机;2、支撑板;3、放置板;4、左刻度板;5、左调节板;6、左定位板;7、左螺纹杆;8、左螺纹管;9、左大齿轮;10、左支撑轴;11、左带动轴;12、左大锥齿轮;13、定位滑柱;14、左顶紧块;15、压板;16、顶板;17、调节丝杠;18、上锁紧螺母;19、左固定螺栓;20、左滑块;21、上手轮;22、左手轮;23、左固定圈;24、左紧固螺母;25、限位板;26、红色漆料。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。
如图1至图2所示,本发明的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,包括刻蚀机1和支撑板2,支撑板2的顶端的左侧和右侧分别设置有左挡板和右挡板,并且刻蚀机1位于左挡板和右挡板之间,刻蚀机1的左端与左挡板的右端可滑动接触,刻蚀机1的右端与右挡板的左端可滑动接触,支撑板2的顶端中部设置有上下贯穿的调节通孔,刻蚀机1的底部输出端设置有刻蚀探头,并且刻蚀探头的底端自支撑板2的顶端可滑动穿过调节通孔内部并伸出至支撑板2的底端外界;包括放置板3、左刻度板4、右刻度板、左调节板5、右调节板、左定位板6、右定位板、左螺纹杆7、右螺纹杆、左螺纹管8、右螺纹管、左大齿轮9、右大齿轮、左支撑轴10、右支撑轴、左带动轴11、右带动轴、左大锥齿轮12、右大锥齿轮和四组定位滑柱13,左刻度板4和右刻度板的底端分别与放置板3顶端的左侧和右侧连接,并且放置板3的左端探出至左刻度板4的左端外界,左刻度板4和右刻度板上分别设置有左刻度尺和右刻度尺,四组定位滑柱13的底端分别与放置板3顶端中部区域的左前侧、左后侧、右前侧和右后侧连接,并且支撑板2顶端的左前侧、左后侧、右前侧和右后侧均设置有上下贯穿的滑动通孔,四组定位滑柱13的顶端均自支撑板2的底端分别可滑动穿过四组滑动通孔内部并伸出至支撑板2的顶端外界,左调节板5和右调节板的底端分别与支撑板2顶端的左侧和右侧连接,并且左定位板6的右端与调节板的左端上侧连接,左定位板6的左端设置有左指针,右定位板的左端与左调节板5的右端上侧连接,并且右定位板的右端设置有右指针,左指针的左端指向左刻度尺的右端刻度位置,并且右指针的右端指向右刻度尺左端的刻度位置,左螺纹杆7和右螺纹杆的顶端分别与左定位板6和右定位板底端的左侧和右侧中部连接,并且左螺纹杆7和右螺纹杆的底端分别插入并螺装至左螺纹管8和右螺纹管的顶端内部,支撑板2顶端的左侧和右侧分别对应设置有左固定槽和右固定槽,左固定槽和右固定槽内部分别设置有左滚珠轴承和右滚珠轴承,左螺纹管8和右螺纹管的底端分别插入并固定安装至左滚珠轴承和右滚珠轴承内部,左大齿轮9固定套装在左螺纹管8的外部,并且右大齿轮固定套装在右螺纹管的外部,支撑板2的顶端左侧和右侧分别设置有左调节槽和右调节槽,并且左调节槽位于左刻度板4与左固定槽之间,右调节槽位于右刻度板与右固定槽之间,左调节槽和右调节槽内部分别设置有左调节滚珠轴承和右调节滚珠轴承,左支撑轴10和右支撑轴的底端分别插入并固定安装至左调节滚珠轴承和右调节滚珠轴承内部,左支撑轴10和右支撑轴的顶端分别同心设置有左小齿轮和右小齿轮,左小齿轮与左大齿轮9啮合,右小齿轮与右大齿轮啮合,左刻板和右刻度板上分别横向设置有左右贯穿的左带动通孔和右带动通孔,左带动通孔的左端同心设置有左轴承座,左轴承座内部设置有左带动滚珠轴承,右带动通孔的右端同心设置有右轴承座,并且右轴承座内部设置有右带动滚珠轴承,左带动轴11的右端自左刻度板4的左端依次穿过左带动滚珠轴承和左带动通孔内部并伸出至左刻度板4的右端外界,左带动轴11的右端同心设置有左小锥齿轮,左大锥齿轮12固定套装在左支撑轴10的外部上侧,并且左小齿轮与左大齿轮9啮合,右带动轴的左端自右刻度板的右端依次穿过右带动滚珠轴承和右带动通孔内部并伸出至右刻度板的左端外界,右带动轴的左端同心设置有右小锥齿轮,右大锥齿轮固定套装在右支撑轴的外部上侧,并且右小齿轮与右大齿轮啮合,放置板3的顶端中部设置有上下贯穿的定位通孔,并且刻蚀探头的底端自放置板3的顶端穿过定位通孔并伸出至放置板3的底端外界;还包括左顶紧块14、右顶紧块、压板15、顶板16、调节丝杠17、上锁紧螺母18和下锁紧螺母,顶板16横向连接在左挡板和右挡板内部上侧,并且顶板16的顶端中部设置有上下贯穿的螺纹通孔,压板15位于顶板16的下方,并且左顶紧块14和右顶紧块的顶端分别与压板15底端的左侧和右侧连接,左顶紧块14和右顶紧块的底端分别与刻蚀机1的顶端左侧和右侧顶紧接触,调节丝杠17的底端自顶板16的顶端螺装穿过螺纹通孔内部并旋出至顶板16的底端外界与压板15的顶端中部顶紧接触,上锁紧螺母18和下锁紧螺母分别位于顶板16的上方和下方,并且上锁紧螺母18和下锁紧螺母均螺装套设在调节丝杠17的外部,上锁紧螺母18的底端与顶板16的顶端锁紧接触,下锁紧螺母的顶端与顶板16的底端锁紧接触;可以通过放置板将整体固定安装在晶圆刻蚀作业的架台上,然后可以通过同时转动左带动轴和右带动轴,使左小锥齿轮和右小锥齿轮同时转动,从而分别带动左大锥齿轮和右大锥齿轮转动,由于左小锥齿轮带动左大锥齿轮为降速传动,同时右小锥齿轮带动右大锥齿轮亦为降速传动,同时由于左小齿轮与左大锥齿轮同步转动,左小齿轮带动左大齿轮为降速传动,所以转动左带动轴可以使左螺纹管进行缓慢转动,同时由于右小齿轮与右大锥齿轮同步转动,右小齿轮带动右大齿轮为降速传动,所以转动右带动轴可以使右螺纹管进行缓慢转动,所以可以分别是左螺纹杆和右螺纹杆分别自左螺纹管和右螺纹管内部缓慢的旋进和旋出,可以通过对照刻蚀探针与晶圆刻蚀作业的架台上晶圆的位置,对左指针和右指针进行调试,使左指针和右指针分别在左刻度尺和右刻度尺上选取初始刻度位置作为参考位置,并做好标记,然后通过同时转动左带动轴和右带动轴,对左指针和右指针的高度进行缓慢调节,从而可以缓慢的向下调节刻蚀探针伸出至放置板底端外界的长度,从而可以方便操作人员精确的对刻蚀探针进行深度调节,同时观察左指针和右指针分别在左刻度尺和右刻度尺上与初始刻度位置之间的距离变化,记录刻蚀探针调节的深度,通过四组定位滑柱分别与支撑板上的四组滑动通孔之间的滑动配合,使刻蚀探针可以沿着四组滑动通孔的方形稳定的进行上下调节,从而可以方便对晶圆刻蚀的深度进行控制调节操作,同时提高深度调节精确度,提高使用可靠性;并且可以通过转动调节丝杠,使调节丝杠在顶板内部向下旋出,从而带动压板向下运动,使左顶紧块和右顶紧块分别将刻蚀机顶端的左侧和右侧在与支撑板的配合下固定在左挡板和右挡板之间,并且可以通过分别向下转动上锁紧螺母和向上转动下锁紧螺母,使调节丝杠与顶板调节后的相对位置进行锁紧固定,从而可以提高刻蚀机在支撑板上的稳定性,提高实用性。
本发明的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,还包括左固定螺栓19和右固定螺栓,左挡板和右挡板的内部上侧分别横向设置有左右贯穿的左安装通孔和右安装通孔,顶板16的左端和右端分别设置有左螺纹孔和右螺纹孔,左固定螺栓19的右端自左挡板的左端穿过左安装通孔内部并伸出至左挡板的右端外界,并且左固定螺栓19的右端插入并螺装至左螺纹孔内部,右固定螺栓的左端自右挡板的右端穿过右安装通孔内部并伸出至右挡板的左端外界,并且右固定螺栓的左端插入并螺装至右螺纹孔内部;可以通过左固定螺栓和右固定螺栓分别与左螺纹孔和右螺纹孔之间的螺装配合,使顶板可以进行拆卸,从而使刻蚀机方便进行拆卸和安装,方便对刻蚀机进行检修和刻蚀液等的添加,提高实用性。
本发明的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,还包括左滑块20和右滑块,左滑块20的右端与压板15的左端连接,并且右滑块的左端与压板15的右端连接,左挡板的右端纵向设置有左滑槽,并且右挡板的左端纵向设置有右滑槽,左滑块20和右滑块分别可滑动设置在左滑槽和右滑槽内部;可以通过左滑块和右滑块分别与左滑槽和右滑槽之间的滑动配合,使左顶紧块和右顶紧块均可以沿着左滑槽或者右滑槽的方向向下移动,防止左顶紧块和右顶紧块锁调节丝杠的转动而偏离对刻蚀机的顶紧位置,提高使用可靠性。
本发明的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,还包括上手轮21,上手轮21的底端与调节丝杠17的顶端同心连接;可以通过上手轮方便操作人员转动调节丝杠,提高实用性。
本发明的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,还包括左手轮22和右手轮,左手轮22的右端与左带动轴11的左端同心连接,并且右手轮的左端与右带动轴的右端同心连接;可以通过左手轮和右手轮分别方便操作人员转动左带动轴和右带动轴,提高实用性。
本发明的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,还包括左固定圈23、右固定圈、左紧固螺母24和右紧固螺母,左固定圈23和右固定圈分别套设在左螺纹管8和右螺纹管的外部下侧,并且左固定圈23和右固定圈的底端均与放置板3的顶端连接,左固定圈23和右固定圈的顶端均设置有防滑纹,左螺纹管8和右螺纹管的外部分别设置有左外部螺纹和右外部螺纹,并且左紧固螺母24通过左外部螺纹螺装套设在左螺纹管8的外部,并且右紧固螺母通过右外部螺纹螺装套设在右螺纹管的外部;当左指针和右指针调节至合适位置后,可以通过握住左螺纹管,转动左紧固螺母,使左紧固螺母向下转动与左固定圈的顶端锁紧接触,从而可以将左螺纹管与放置板之间的相对位置进行锁紧,防止调节后的左螺纹管的位置再次发生转动,同时可以通过握住右螺纹管,转动右紧固螺母,使右紧固螺母向下转动与右固定圈的顶端锁紧接触,从而可以将右螺纹管与放置板之间的相对位置进行锁紧,防止调节后的右螺纹管的位置再次发生转动,从而提高调节后的刻蚀探针的位置的稳定性。
本发明的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,还包括四组限位板25,四组限位板25的底端分别与四组定位滑柱13的顶端连接;可以通过四组限位板防止支撑板在四组定位滑柱上脱离,提高使用可靠性。
本发明的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,左指针和右指针的前端均涂装设置有红色漆料26;可以通过红色漆料的喷涂,方便操作人员观察左指针和右指针,提高实用性。
本发明的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,其在工作时,首先通过放置板将整体固定安装在晶圆刻蚀作业的架台上,然后可以通过同时转动左带动轴和右带动轴,使左小锥齿轮和右小锥齿轮同时转动,从而分别带动左大锥齿轮和右大锥齿轮转动,由于左小锥齿轮带动左大锥齿轮为降速传动,同时右小锥齿轮带动右大锥齿轮亦为降速传动,同时由于左小齿轮与左大锥齿轮同步转动,左小齿轮带动左大齿轮为降速传动,所以转动左带动轴可以使左螺纹管进行缓慢转动,同时由于右小齿轮与右大锥齿轮同步转动,右小齿轮带动右大齿轮为降速传动,所以转动右带动轴可以使右螺纹管进行缓慢转动,所以可以分别是左螺纹杆和右螺纹杆分别自左螺纹管和右螺纹管内部缓慢的旋进和旋出,可以通过对照刻蚀探针与晶圆刻蚀作业的架台上晶圆的位置,对左指针和右指针进行调试,使左指针和右指针分别在左刻度尺和右刻度尺上选取初始刻度位置作为参考位置,并做好标记,然后通过同时转动左带动轴和右带动轴,对左指针和右指针的高度进行缓慢调节,从而可以缓慢的向下调节刻蚀探针伸出至放置板底端外界的长度,同时观察左指针和右指针分别在左刻度尺和右刻度尺上与初始刻度位置之间的距离变化,记录刻蚀探针调节的深度,通过四组定位滑柱分别与支撑板上的四组滑动通孔之间的滑动配合,使刻蚀探针可以沿着四组滑动通孔的方形稳定的进行上下调节,从而可以方便对晶圆刻蚀的深度进行控制调节操作,同时提高深度调节精确度,并且可以通过转动调节丝杠,使调节丝杠在顶板内部向下旋出,从而带动压板向下运动,使左顶紧块和右顶紧块分别将刻蚀机顶端的左侧和右侧在与支撑板的配合下固定在左挡板和右挡板之间,并且可以通过分别向下转动上锁紧螺母和向上转动下锁紧螺母,使调节丝杠与顶板调节后的相对位置进行锁紧固定,通过左固定螺栓和右固定螺栓分别与左螺纹孔和右螺纹孔之间的螺装配合,使顶板可以进行拆卸,从而使刻蚀机方便进行拆卸和安装,方便对刻蚀机进行检修和刻蚀液等的添加,通过左滑块和右滑块分别与左滑槽和右滑槽之间的滑动配合,使左顶紧块和右顶紧块均可以沿着左滑槽或者右滑槽的方向向下移动,防止左顶紧块和右顶紧块锁调节丝杠的转动而偏离对刻蚀机的顶紧位置,通过上手轮方便操作人员转动调节丝杠,通过左手轮和右手轮分别方便操作人员转动左带动轴和右带动轴,当左指针和右指针调节至合适位置后,可以通过握住左螺纹管,转动左紧固螺母,使左紧固螺母向下转动与左固定圈的顶端锁紧接触,从而可以将左螺纹管与放置板之间的相对位置进行锁紧,防止调节后的左螺纹管的位置再次发生转动,同时可以通过握住右螺纹管,转动右紧固螺母,使右紧固螺母向下转动与右固定圈的顶端锁紧接触,从而可以将右螺纹管与放置板之间的相对位置进行锁紧,防止调节后的右螺纹管的位置再次发生转动,通过四组限位板防止支撑板在四组定位滑柱上脱离,通过红色漆料的喷涂,方便操作人员观察左指针和右指针即可。
此外,术语“安装”、“设置”、“设有”、“连接”、“相连”、“套装”应做广义理解,例如,可以是固定连接,可拆卸连接,或整体式构造;可以是机械连接,或电连接;可以是直接相连,或者是通过中间媒介间接相连,又或者是两个装置、元件或组成部分之间内部的连通,对于本领域普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和变型,这些改进和变型也应视为本发明的保护范围。
Claims (8)
1.一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,包括刻蚀机(1)和支撑板(2),支撑板(2)的顶端的左侧和右侧分别设置有左挡板和右挡板,并且刻蚀机(1)位于左挡板和右挡板之间,刻蚀机(1)的左端与左挡板的右端可滑动接触,刻蚀机(1)的右端与右挡板的左端可滑动接触,支撑板(2)的顶端中部设置有上下贯穿的调节通孔,刻蚀机(1)的底部输出端设置有刻蚀探头,并且刻蚀探头的底端自支撑板(2)的顶端可滑动穿过调节通孔内部并伸出至支撑板(2)的底端外界;其特征在于,包括放置板(3)、左刻度板(4)、右刻度板、左调节板(5)、右调节板、左定位板(6)、右定位板、左螺纹杆(7)、右螺纹杆、左螺纹管(8)、右螺纹管、左大齿轮(9)、右大齿轮、左支撑轴(10)、右支撑轴、左带动轴(11)、右带动轴、左大锥齿轮(12)、右大锥齿轮和四组定位滑柱(13),所述左刻度板(4)和右刻度板的底端分别与所述放置板(3)顶端的左侧和右侧连接,并且放置板(3)的左端探出至左刻度板(4)的左端外界,左刻度板(4)和右刻度板上分别设置有左刻度尺和右刻度尺,所述四组定位滑柱(13)的底端分别与所述放置板(3)顶端中部区域的左前侧、左后侧、右前侧和右后侧连接,并且所述支撑板(2)顶端的左前侧、左后侧、右前侧和右后侧均设置有上下贯穿的滑动通孔,四组定位滑柱(13)的顶端均自支撑板(2)的底端分别可滑动穿过四组滑动通孔内部并伸出至支撑板(2)的顶端外界,所述左调节板(5)和右调节板的底端分别与支撑板(2)顶端的左侧和右侧连接,并且所述左定位板(6)的右端与左调节板的左端上侧连接,左定位板(6)的左端设置有左指针,所述右定位板的左端与右调节板的右端上侧连接,并且右定位板的右端设置有右指针,所述左指针的左端指向左刻度尺的右端刻度位置,并且右指针的右端指向右刻度尺左端的刻度位置,所述左螺纹杆(7)和右螺纹杆的顶端分别与所述左定位板(6)和右定位板底端的左侧和右侧中部连接,并且左螺纹杆(7)和右螺纹杆的底端分别插入并螺装至左螺纹管(8)和右螺纹管的顶端内部,放置板(3)顶端的左侧和右侧分别对应设置有左固定槽和右固定槽,左固定槽和右固定槽内部分别设置有左滚珠轴承和右滚珠轴承,所述左螺纹管(8)和右螺纹管的底端分别插入并固定安装至左滚珠轴承和右滚珠轴承内部,所述左大齿轮(9)固定套装在左螺纹管(8)的外部,并且所述右大齿轮固定套装在右螺纹管的外部,放置板(3)的顶端左侧和右侧分别设置有左调节槽和右调节槽,并且左调节槽位于左刻度板(4)与左固定槽之间,右调节槽位于所述右刻度板与右固定槽之间,左调节槽和右调节槽内部分别设置有左调节滚珠轴承和右调节滚珠轴承,所述左支撑轴(10)和右支撑轴的底端分别插入并固定安装至左调节滚珠轴承和右调节滚珠轴承内部,左支撑轴(10)和右支撑轴的顶端分别同心设置有左小齿轮和右小齿轮,左小齿轮与左大齿轮(9)啮合,右小齿轮与右大齿轮啮合,所述左刻度板和右刻度板上分别横向设置有左右贯穿的左带动通孔和右带动通孔,左带动通孔的左端同心设置有左轴承座,左轴承座内部设置有左带动滚珠轴承,右带动通孔的右端同心设置有右轴承座,并且右轴承座内部设置有右带动滚珠轴承,所述左带动轴(11)的右端自左刻度板(4)的左端依次穿过左带动滚珠轴承和左带动通孔内部并伸出至左刻度板(4)的右端外界,左带动轴(11)的右端同心设置有左小锥齿轮,所述左大锥齿轮(12)固定套装在所述左支撑轴(10)的外部上侧,并且左小齿轮与左大齿轮(9)啮合,所述右带动轴的左端自右刻度板的右端依次穿过右带动滚珠轴承和右带动通孔内部并伸出至右刻度板的左端外界,右带动轴的左端同心设置有右小锥齿轮,所述右大锥齿轮固定套装在所述右支撑轴的外部上侧,并且右小齿轮与右大齿轮啮合,放置板(3)的顶端中部设置有上下贯穿的定位通孔,并且刻蚀探头的底端自放置板(3)的顶端穿过定位通孔并伸出至放置板(3)的底端外界;还包括左顶紧块(14)、右顶紧块、压板(15)、顶板(16)、调节丝杠(17)、上锁紧螺母(18)和下锁紧螺母,所述顶板(16)横向连接在所述左挡板和右挡板内部上侧,并且顶板(16)的顶端中部设置有上下贯穿的螺纹通孔,所述压板(15)位于所述顶板(16)的下方,并且所述左顶紧块(14)和右顶紧块的顶端分别与所述压板(15)底端的左侧和右侧连接,左顶紧块(14)和右顶紧块的底端分别与所述刻蚀机(1)的顶端左侧和右侧顶紧接触,所述调节丝杠(17)的底端自顶板(16)的顶端螺装穿过螺纹通孔内部并旋出至顶板(16)的底端外界与所述压板(15)的顶端中部顶紧接触,所述上锁紧螺母(18)和下锁紧螺母分别位于所述顶板(16)的上方和下方,并且上锁紧螺母(18)和下锁紧螺母均螺装套设在调节丝杠(17)的外部,上锁紧螺母(18)的底端与所述顶板(16)的顶端锁紧接触,下锁紧螺母的顶端与顶板(16)的底端锁紧接触;
刻蚀机内添加有刻蚀液;
对左指针和右指针的高度进行调节,从而调节刻蚀探针伸出至放置板底端外界的长度;
使用时,刻蚀探头位于晶圆的上方,通过刻蚀探头对晶圆进行刻蚀。
2.如权利要求1所述的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,其特征在于,还包括左固定螺栓(19)和右固定螺栓,所述左挡板和右挡板的内部上侧分别横向设置有左右贯穿的左安装通孔和右安装通孔,所述顶板(16)的左端和右端分别设置有左螺纹孔和右螺纹孔,所述左固定螺栓(19)的右端自左挡板的左端穿过左安装通孔内部并伸出至左挡板的右端外界,并且左固定螺栓(19)的右端插入并螺装至左螺纹孔内部,所述右固定螺栓的左端自右挡板的右端穿过右安装通孔内部并伸出至右挡板的左端外界,并且右固定螺栓的左端插入并螺装至右螺纹孔内部。
3.如权利要求2所述的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,其特征在于,还包括左滑块(20)和右滑块,所述左滑块(20)的右端与所述压板(15)的左端连接,并且所述右滑块的左端与压板(15)的右端连接,所述左挡板的右端纵向设置有左滑槽,并且右挡板的左端纵向设置有右滑槽,所述左滑块(20)和右滑块分别可滑动设置在左滑槽和右滑槽内部。
4.如权利要求3所述的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,其特征在于,还包括上手轮(21),所述上手轮(21)的底端与所述调节丝杠(17)的顶端同心连接。
5.如权利要求4所述的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,其特征在于,还包括左手轮(22)和右手轮,所述左手轮(22)的右端与所述左带动轴(11)的左端同心连接,并且所述右手轮的左端与所述右带动轴的右端同心连接。
6.如权利要求5所述的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,其特征在于,还包括左固定圈(23)、右固定圈、左紧固螺母(24)和右紧固螺母,所述左固定圈(23)和右固定圈分别套设在所述左螺纹管(8)和右螺纹管的外部下侧,并且左固定圈(23)和右固定圈的底端均与所述放置板(3)的顶端连接,左固定圈(23)和右固定圈的顶端均设置有防滑纹,所述左螺纹管(8)和右螺纹管的外部分别设置有左外部螺纹和右外部螺纹,并且左紧固螺母(24)通过左外部螺纹螺装套设在左螺纹管(8)的外部,并且右紧固螺母通过右外部螺纹螺装套设在右螺纹管的外部。
7.如权利要求6所述的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,其特征在于,还包括四组限位板(25),所述四组限位板(25)的底端分别与所述四组定位滑柱(13)的顶端连接。
8.如权利要求7所述的一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,其特征在于,所述左指针和右指针的前端均涂装设置有红色漆料(26)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201811166558.1A CN109148340B (zh) | 2018-10-08 | 2018-10-08 | 一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201811166558.1A CN109148340B (zh) | 2018-10-08 | 2018-10-08 | 一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN109148340A CN109148340A (zh) | 2019-01-04 |
CN109148340B true CN109148340B (zh) | 2023-10-31 |
Family
ID=64810345
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201811166558.1A Active CN109148340B (zh) | 2018-10-08 | 2018-10-08 | 一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN109148340B (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109752571A (zh) * | 2019-01-25 | 2019-05-14 | 程慧玲 | 一种用于手机pcba板的射频测试治具 |
CN111872332A (zh) * | 2020-07-23 | 2020-11-03 | 惠州帅翼驰铝合金新材料有限公司 | 铝锭生产用便于脱模的铝锭成型注模装置及其实施方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11258266A (ja) * | 1998-03-11 | 1999-09-24 | Omron Corp | 半導体デバイスの製造プロセスにおいて異方性エッチングによるエッチング深さを適正化する方法、その方法を適用して製造された半導体デバイス |
JP2003258052A (ja) * | 2002-03-04 | 2003-09-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | エッチング溝深さ分布を測定するための装置および方法 |
JP2004214559A (ja) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Toshiba Nanoanalysis Corp | エッチング装置、エッチング方法及び分析方法 |
JP2005136249A (ja) * | 2003-10-31 | 2005-05-26 | Applied Materials Inc | エッチング処理のモニター装置 |
WO2015198818A1 (ja) * | 2014-06-25 | 2015-12-30 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置、治具、およびティーチング方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011243769A (ja) * | 2010-05-19 | 2011-12-01 | Tokyo Electron Ltd | 基板のエッチング方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
-
2018
- 2018-10-08 CN CN201811166558.1A patent/CN109148340B/zh active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11258266A (ja) * | 1998-03-11 | 1999-09-24 | Omron Corp | 半導体デバイスの製造プロセスにおいて異方性エッチングによるエッチング深さを適正化する方法、その方法を適用して製造された半導体デバイス |
JP2003258052A (ja) * | 2002-03-04 | 2003-09-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | エッチング溝深さ分布を測定するための装置および方法 |
JP2004214559A (ja) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Toshiba Nanoanalysis Corp | エッチング装置、エッチング方法及び分析方法 |
JP2005136249A (ja) * | 2003-10-31 | 2005-05-26 | Applied Materials Inc | エッチング処理のモニター装置 |
WO2015198818A1 (ja) * | 2014-06-25 | 2015-12-30 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置、治具、およびティーチング方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN109148340A (zh) | 2019-01-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109382428B (zh) | 一种植保无人机落地支架生产加工用金属管折弯装置 | |
CN109148340B (zh) | 一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置 | |
CN206132036U (zh) | 内孔锥度测量装置 | |
CN204064218U (zh) | 测量平面度的工装 | |
CN212763348U (zh) | 一种可调节式仪器维修装置 | |
CN219337712U (zh) | 一种风电法兰钻螺纹孔用标记装置 | |
CN111879216A (zh) | 一种高精度机械加工误差检测装置 | |
CN105903505A (zh) | 一种升降式铁架台 | |
CN214119472U (zh) | 一种不动产测绘用测量仪支架 | |
CN209263840U (zh) | 一种精密测量支架 | |
CN213301097U (zh) | 一种螺纹检测机 | |
CN209991891U (zh) | 一种从动锥齿轮的齿圈跳动检测装置 | |
CN211136315U (zh) | 一种仪表钻孔加工用固定底座 | |
CN220699540U (zh) | 一种测试与维修辅助平台 | |
CN209000876U (zh) | 一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置 | |
CN103950013B (zh) | 螺纹紧固装置 | |
CN207741756U (zh) | 一种用于地铁平面控制点的测量标志 | |
CN219177377U (zh) | 一种采矿工程测量用三脚架 | |
CN220729069U (zh) | 一种高精度测量装置 | |
CN218119263U (zh) | 非接触式物体尺寸测量装置 | |
CN218235034U (zh) | 一种工程检测用开孔装置 | |
CN213515483U (zh) | 一种abs齿圈跳动测量装置 | |
CN214095813U (zh) | 一种汽车玻璃检具基础稳定机构 | |
CN217663439U (zh) | 一种滴定管支架 | |
CN219154752U (zh) | 一种用于测试无人机拉力测试装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |