CN109143421A - 一种退镀工艺 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种退镀工艺，首先，将氢氧化钠、水、铁氢化钾按照重量比为5:50:2的比例配置成退镀液；其次，将配置好的退镀液放入退镀容器中，并加热至40℃～50℃；然后，夹置薄膜，薄膜至少一面具有粘性，且薄膜上依次排列有若干待退镀镜片，将若干带有待退镀镜片的薄膜夹置在退镀架上；最后，将退镀架放置在退镀容器上方，并使得退镀液完全漫过薄膜上的待退镀镜片，直至退镀完成。该退镀工艺通过配置全新的退镀液，减少了退镀所需的时间，提高了退镀效率。同时，在退镀过程中，利用退镀架夹置薄膜的形式取代了摆架，不需要将待退镀镜片从薄膜上取下，再摆放到摆架上，从而节约了大量时间；而且，降低了摆架的需求量和周转压力。

Description

一种退镀工艺

技术领域

本发明属于镜片退镀领域，尤其涉及一种退镀工艺。

背景技术

摄像头的镜片在加工过程中，需要对镜片进行丝印，丝印完成的镜片需要通过退镀液退镀后才能形成所需的丝印效果。

目前，镜片退镀时，一般需要将薄膜上的待退镀镜片一片一片取下，并摆放在摆架中，一个摆架中一般可摆放几百片镜片，然后将若干摆架整体放置在退镀液中进行退镀。

然而，现有的退镀液退镀效果较差，需要在退镀液中放置较长时间才能彻底完成退镀操作，退镀效率较低。同时，摆架不仅造价相对较为昂贵，而且需求量较大，在摄像头镜片生产过程中，需要使用大量的摆架进行镜片的清洗工作，如果退镀也占用了较多的摆架，则会加大摆架的需求量和周转难度，提高了生产成本。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种退镀工艺，旨在解决目前镜片退镀的退镀效率较低，而且会占用大量摆架的问题。

为解决上述技术问题，本发明是这样实现的，一种退镀工艺，包括：

配置退镀液，将氢氧化钠、水、铁氢化钾按照重量比为5:50:2的比例配置成退镀液；

加热退镀液，将配置好的退镀液放入退镀容器中，并加热至40℃～50℃；

夹置薄膜，所述薄膜至少一面具有粘性，且所述薄膜上依次排列有若干待退镀镜片，将若干带有待退镀镜片的薄膜夹置在退镀架上；

退镀，将退镀架放置在退镀容器上方，并使得所述退镀液完全漫过所述薄膜上的待退镀镜片，直至退镀完成。

进一步地，所述退镀工艺还包括：

擦拭，将每一张退镀完成后的薄膜放置在人工擦拭处或机器擦拭处，通过人工或机器将退镀完成的镜片进行擦拭。

进一步地，所述退镀容器包括第一腔体和第二腔体，所述第二腔体位于第一腔体下方，且所述第一腔体的顶部开设有第一开口，所述第二腔体内容置有加热装置；所述退镀液从所述第一开口进入所述第一腔体内，所述第二腔体内的加热装置相应地加热所述第一腔体内的退镀液。

进一步地，所述第二腔体的一侧具有第二开口，所述退镀容器上与所述第二开口相对应的位置处具有可开合的门板，所述门板的开合相应地封堵或打开所述第二开口。

进一步地，所述退镀架包括金属件和若干磁石组，所述磁石组包括至少一个磁石，所述磁石组可分离地吸附在所述金属件上，每一张所述的薄膜均可分离地夹置在所述磁石组上或夹置在所述磁石组与金属件之间。

进一步地，所述磁石组包括一个磁石，所述磁石可分离地吸附在所述金属件上，所述薄膜夹置在所述磁石与金属件之间。

进一步地，所述磁石组包括两个磁石，所述两个磁石分别为第一磁石和第二磁石，所述第一磁石的一端可分离地吸附在所述金属件上，所述第二磁石可分离地吸附在所述第一磁石的另一端，所述薄膜夹置在所述第一磁石与第二磁石之间。

本发明与现有技术相比，有益效果在于：本发明的一种退镀工艺，其利用氢氧化钠、水、铁氢化钾按照重量比为5:50:2的比例配置成全新的退镀液，与传统的退镀液相比，退镀所需的时间较少，能够提高退镀效率。同时，该退镀工艺在退镀过程中，利用退镀架夹置薄膜的形式取代了摆架，不需要将待退镀镜片从薄膜上取下，再摆放到摆架上，从而节约了大量时间；而且，降低了摆架的需求量，减轻了摆架的周转压力。

附图说明

图1是本发明实施例的退镀架和退镀容器的整体结构示意图；

图2是图1中退镀架的结构示意图；

图3是图2中带有镜片的薄膜的结构示意图；

图4是图1中退镀容器的主视结构示意图；

图5是图4的俯视结构示意图；

图6是图2中退镀架的另一实施例的结构示意图；

图7是利用图1所示的退镀架和退镀容器进行退镀的退镀工艺流程图。

在附图中，各附图标记表示：

10、退镀架；20、退镀容器；30、退镀液；40、加热装置；11、金属件；12、磁石；13、薄膜；14、待退镀镜片；21、第一腔体；22、第一开口；23、出液孔；24、出液阀门；25、第二腔体；251、第二开口；26、门板；121、第一磁石；122、第二磁石。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

如图1所示，为本发明实施例提供的退镀架10和退镀容器20。具体地，参照图2和图3，所述退镀架10包括金属件11和若干磁石组。若干待退镀镜片14依次排列在一张具有粘性的薄膜13上。在本发明实施例中，所述磁石组包括一个磁石12，所述磁石12可分离地吸附在所述金属件11上，所述薄膜13相应地夹置在所述磁石12与金属件11之间。

参照图4和图5，所述退镀容器20具有中空的第一腔体21，且所述第一腔体21的顶部开设有第一开口22，所述第一开口22与所述第一腔体21相连通，所述第一腔体21内盛放有退镀液30。

具体使用时，通过所述磁石12和金属件11即可将一张带有若干待退镀镜片14的薄膜13夹紧固定。若干张薄膜13依次排列成一排后，即可将夹置有薄膜13的退镀架10整体横放在盛放退镀液30的退镀容器20上方，使得薄膜13上的待退镀镜片14接触到退镀液30，从而完成对待退镀镜片14的退镀操作。

此过程中，由于利用金属件11加磁石组的形式取代了摆架，因此，不需要将待退镀镜片14从薄膜13上取下，再摆放到摆架上，从而节约了大量的时间，提高了生产效率。同时，降低了生产成本，也减轻了摆架的周转压力。

在上述实施例中，所述金属件11为条形金属杆；所述磁石12呈圆柱形形状。但不限定于所述金属件11和磁石12的具体形状和结构类型，使用者可根据自身需求自行设计所述金属件11和磁石12的形状，例如：所述金属件11可以是金属板或金属架等结构形式，所述磁石12也可以是长方体、正方体或多棱柱等结构形式。

继续参照图4和图5，所述退镀容器20上还开设有出液孔23，所述出液孔23与所述第一腔体21的底部相连通。同时，所述出液孔23处安装有出液阀门24，利用所述出液阀门24可打开或关闭所述出液孔23。当需要更换退镀液30时，利用所述出液阀门24打开所述出液孔23，将废液从所述出液孔23排出，然后关闭所述出液阀门24后，再重新注入新的退镀液30即可。

所述退镀容器20还具有第二腔体25，所述第二腔体25位于所述第一腔体21的下方，所述第二腔体25内容置有加热装置40，利用所述加热装置40可对所述退镀液30进行加热，以达到退镀所需的温度，并保持退镀液30处于恒温状态。

为方便所述加热装置40的取放，所述第二腔体25的一侧具有第二开口251，所述退镀容器20上与所述第二开口251相对应的位置处具有可开合的门板26，所述门板26的开合相应地封堵或打开所述第二开口251。当需要取出所述加热装置40时，打开所述门板26，直接将所述加热装置40取出即可；当加热装置40放回到第二腔体25内后，将所述门板26关闭，形成封闭的内腔，保证热量不会外泄。

如图6所示，其示出了退镀架10的另一实施例的结构图。与上述实施例相比较，该实施例中的退镀架10具有以下不同之处。

在该实施例中，所述磁石组包括两个磁石，所述两个磁石分别为第一磁石121和第二磁石122。所述第一磁石121的一端可分离地吸附在所述金属件11上，所述第二磁石122可分离地吸附在所述第一磁石121的另一端，所述薄膜13夹置在所述第一磁石121与第二磁石122之间。

第二实施例与第一实施例的区别仅在于磁石的数量以及薄膜13的位置有所不同，其余结构均相同，所能够产生的有益效果也相同，在此不再赘述。

如图7所示，为本发明实施例提供的一种利用上述退镀架10和退镀容器20进行退镀的工艺流程图，其具体包括如下步骤：

配置退镀液30，将氢氧化钠、水、铁氢化钾按照重量比为5:50:2的比例配置成上述退镀液30。与传统的退镀液相比，利用该退镀液30进行退镀所需的时间较少，能够提高退镀效率。

加热退镀液30，将配置好的退镀液30放入退镀容器20的第一腔体21内，然后，利用第二腔体25内的加热装置40将所述退镀液30加热至40℃～50℃。

夹置薄膜13，如图2所示，利用一个磁石12将一张带有待退镀镜片14的薄膜13夹置在金属件11与磁石12之间；或如图6所示，直接将所述薄膜13夹置在第一磁石121与第二磁石122之间，然后再将第一磁石121吸附在金属件11上即可。

退镀，将退镀架10放置在退镀容器20上方，并使得所述退镀液30完全漫过所述薄膜13上的待退镀镜片14，直至退镀完成。

擦拭，将每一张退镀完成后的薄膜13放置在人工擦拭处或机器擦拭处，通过人工或机器将退镀完成的镜片进行擦拭。

综上所述，本发明实施例提供的一种退镀工艺，其通过配置全新的退镀液，减少了退镀所需的时间，提高了退镀效率。同时，该退镀工艺在退镀过程中，不需要将待退镀镜片14从薄膜13上取下，再摆放到摆架上，从而节约了大量时间；而且，利用退镀架10夹置薄膜13的形式取代了摆架，降低了摆架的需求量，减轻了摆架的周转压力。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种退镀工艺，其特征在于，包括：

配置退镀液，将氢氧化钠、水、铁氢化钾按照重量比为5:50:2的比例配置成退镀液；

加热退镀液，将配置好的退镀液放入退镀容器中，并加热至40℃～50℃；

夹置薄膜，所述薄膜至少一面具有粘性，且所述薄膜上依次排列有若干待退镀镜片，将若干带有待退镀镜片的薄膜夹置在退镀架上；

退镀，将退镀架放置在退镀容器上方，并使得所述退镀液完全漫过所述薄膜上的待退镀镜片，直至退镀完成。

2.如权利要求1所述的退镀工艺，其特征在于，所述退镀工艺还包括：

擦拭，将每一张退镀完成后的薄膜放置在人工擦拭处或机器擦拭处，通过人工或机器将退镀完成的镜片进行擦拭。

3.如权利要求1所述的退镀工艺，其特征在于，所述退镀容器包括第一腔体和第二腔体，所述第二腔体位于第一腔体下方，且所述第一腔体的顶部开设有第一开口，所述第二腔体内容置有加热装置；所述退镀液从所述第一开口进入所述第一腔体内，所述第二腔体内的加热装置相应地加热所述第一腔体内的退镀液。

4.如权利要求3所述的退镀工艺，其特征在于，所述第二腔体的一侧具有第二开口，所述退镀容器上与所述第二开口相对应的位置处具有可开合的门板，所述门板的开合相应地封堵或打开所述第二开口。

5.如权利要求1所述的退镀工艺，其特征在于，所述退镀架包括金属件和若干磁石组，所述磁石组包括至少一个磁石，所述磁石组可分离地吸附在所述金属件上，每一张所述的薄膜均可分离地夹置在所述磁石组上或夹置在所述磁石组与金属件之间。

6.如权利要求5所述的退镀工艺，其特征在于，所述磁石组包括一个磁石，所述磁石可分离地吸附在所述金属件上，所述薄膜夹置在所述磁石与金属件之间。

7.如权利要求5所述的退镀工艺，其特征在于，所述磁石组包括两个磁石，所述两个磁石分别为第一磁石和第二磁石，所述第一磁石的一端可分离地吸附在所述金属件上，所述第二磁石可分离地吸附在所述第一磁石的另一端，所述薄膜夹置在所述第一磁石与第二磁石之间。