CN109136950A - 用于医疗器械和设备的清洗剂 - Google Patents

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李继增
朱静
张力
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TIANJIN ZHENPENG CLEANING TECHNOLOGY DEVELOPMENT Co Ltd
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TIANJIN ZHENPENG CLEANING TECHNOLOGY DEVELOPMENT Co Ltd
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
    • C23G1/02Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
    • C23G1/10Other heavy metals
    • C23G1/106Other heavy metals refractory metals

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Abstract

本发明涉及一种用于医疗器械和设备的清洗剂,组成成分及重量百分比如下:脂肪醇丙氧基化物。本发明制备的清洗剂适用于医疗器械钛合金,植入人体无毒无害,对清洗后的工件无任何残留,该清洗剂能够清洗抛光皂、切削液、磨削液在机加工过程中适合于任何工序的污染物的清洗,代替航空清洗剂。

Description

用于医疗器械和设备的清洗剂
技术领域
本发明属于设备清洗领域,涉及医疗器械清洗,尤其是一种用于医疗器械和设备的清洗剂。
背景技术
医疗和/或外科器械和设备的消毒剂在实践中广泛使用。消毒作用常基于醛类、季铵化合物类、酚类、醇类或其它有效物质。同样已知的是基于过氧化物,尤其是过乙酸的清洗剂和消毒剂。过氧化物有好的抗微生物作用,但通常仅具有很低的储存稳定性。
在植入人体钛合金医疗器械时,其器械必须要无毒无害无残留。在制造过程中,既有抛光皂、切削液还有磨削液,目前国内的清洗剂,如企业所用的航空清洗剂都不能达到无残留的要求。
另外,现有技术中的抛光皂、切削液及磨削液不能完全高效的清除干净,通常还需要用机械的电动毛刷清理诸如螺孔深处的污垢,选用强力清洗剂虽然清除效果好,但是通常会有磷残留,使用时对人体产生危害。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足之处,提供一种清洗效果好、使用无毒的用于医疗器械和设备的清洗剂。
本发明解决其技术问题是采取以下技术方案实现的:
一种用于医疗器械和设备的清洗剂,组成成分及重量百分比如下:
而且,还包括EO-PO-嵌段共聚物2%。
而且,还包括硼酸盐和/或过碳酸盐2%。
本发明的优点和有益效果:
本发明制备的金属清洗剂,适用于植物人体器械的钛合金,含有的油酸、柠檬酸、柠檬酸钠能增加金属表面的活性,提高清洗效果。本产品制备的清洗剂含有多种表面活性剂进行复配,进一步提高清洗能力,适用于不同污垢的清洗设备,本清洗剂清洗过的植入人体的钛合金器械,残留量为0,不影响重复利用。本发明制备的清洗剂既可用于除蜡,又能用于除油,还可用于磨削液的清洗,拥有较大的市场潜力。
具体实施方式
下面通过具体实施例对本发明作进一步详述,以下实施例只是描述性的,不是限定性的,不能以此限定本发明的保护范围。
实施例1
经过上述试验,本实施例制备的清洗剂清洗过的植入人体的钛合金器械,残留量为0,不影响重复利用。
三种清洗剂对比表

Claims (3)

1.一种用于医疗器械和设备的清洗剂,其特征在于:组成成分及重量百分比如下:
2.根据权利要求1所述的用于医疗器械和设备的清洗剂,其特征在于:还包括EO-PO-嵌段共聚物2%。
3.根据权利要求1所述的用于医疗器械和设备的清洗剂,其特征在于:还包括硼酸盐和/或过碳酸盐2%。
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
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RJ01 Rejection of invention patent application after publication

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