CN109073876B - 光学增强的光转换器 - Google Patents

Abstract

提供了一种光转换器和制造方法。提供了光转换层(301)，该光转换层包括粘结材料(301b)中的光转换颗粒(301a)，用于将入射在所述光转换层(301)上的激发光生成发射光。平面化层(304)位于所述光转换层(301)的表面上，并且至少一个光学涂层(305)是所述平面化层(304)的一部分或者位于所述平面化层的表面上，所述平面化层的表面与所述光转换层(301)的所述表面相比是相对光滑的。

Description

光学增强的光转换器

技术领域

本发明涉及一种包括固态光转换材料的光转换器，该光转换器可形成诸如荧光轮等光学设备的一部分。本发明还提供了一种制造光转换器的方法。

背景技术

诸如荧光体等光转换(或波长转换)材料用于各种应用，特别是用于光学设备中。图1示出现有技术的示例性光转换器100的横截面的示意图。该光转换器包括：光转换层101；以及高反射涂层102。光转换层101通常包括位于诸如固化有机硅胶101b等聚合物粘结剂内的荧光体颗粒(粉末)101a。该光转换器也被称为有机硅内具有荧光体(PIS)类型。荧光体颗粒101a通过滴涂、网印或其他涂覆方法分散在液体透明有机硅101b内，然后热固化并凝固。光转换层101具有位于与在其上提供高反射涂层102的一侧相对的一侧上的粗糙表面101c。

激发光103a入射在光转换层101上，并且荧光体粉末101a将激发光转换为发射光。高反射涂层102捕捉来自所有可能方向的这个发射光并且对其进行反射，使得发射光103b全部在与激发光103a相反的方向行进。因此，光转换器100为反射类型。还已知的是提供不具有高反射涂层102的光转换层101，并且这种光转换器为透射类型。

这种光转换器的一个应用是荧光轮，该荧光轮是用于从单个光源的激发光(通常具有窄波长范围)生成一个或通常多个不同波长的发射光。在本发明人的WO2014/016574中描述了示例荧光轮。

接下来参照图2a和图2b，分别示意性地示出了已知的荧光轮结构的第一和第二示例。这两个示例具有类似的特征，并且相同的参考标记用来指示相同的特征。光转换器201设置在盘形基板202上。根据图1，光转换器201是PIS类型。光转换器201被形成为单个彩色荧光环(在同心图案中，如图2a所示)或多个彩色区段201(R)(红色)、201(Y)(黄色)和201(G)(绿色)，每个彩色区段用来按照特定的颜色生成光(如图2b所示)。光转换器201将光谱从第一光谱波长范围的激发光转换为第二不同光谱波长范围的发射(或重新发射)光。当入射在光转换器201上时，激发光203a(光源，例如蓝光)致使生成发射光203b(例如，黄光，特别是在201(Y)的情况下)。发射光203b由盘形基板202反射，并且发射光203b由透镜系统(未示出)收集。通常，盘型基板202在使用期间转动，但是该设备可以在静止(非转动)配置下使用，在这种情况下，可以不被称为荧光轮。

特别是在具体用于荧光轮的光转换器的效率、输出功率和温度管理方面改善性能是显著的挑战。解决这种挑战的一种方式是通过用固态光转换材料(诸如陶瓷转换器或荧光玻璃)替换PIS类型光转换层。然而，PIS类型的材料具有优于这种固态光转换材料的优点。例如，它们可以允许更灵活地选择颜色、更简单的结构和更低的成本。提供性能改进而不改变所使用的光转换层的类型是有益的。

发明内容

针对此背景，提供了一种根据权利要求1的光转换器和根据权利要求12的光学设备。还提供了一种根据权利要求14的制造光转换器的方法。参照权利要求书并且在以下描述中公开其他优选特征。

已经认识到，包括位于光转换层上的至少一个光学涂层的光转换器可以是有利的，其中，光转换层包括位于粘结材料(例如，诸如有机硅等聚合物)内的光转换颗粒(例如，荧光粉)。平面化层有利地设置在位于光转换层的表面上。光学涂层有益地被设置为平面化层的一部分或者位于平面化层的表面上。平面化层的表面(与至少一个光学涂层相邻)是光学光滑的和/或与光转换层的表面(与平面化层相邻)相比是相对光滑的。

由粘结剂中的荧光颗粒形成的光转换层可以具有粗糙表面，并且可能难以用这种光学涂层涂覆这个表面。平面化层具有更平滑的表面，例如光学平滑表面，可以在该表面上更容易地涂覆光学涂层(或多个涂层)。例如，平面化层的平均粗糙度(Ra)可以不大于0.02μm。平面化层可以包括有机硅材料、有机材料或复合材料。

平面化层可以通过滴涂、喷涂、刷涂、溅射、旋涂或丝印或网印来沉积。优选地，平面化层特别的是通过热固化来固化。热固化可以在例如不大于150℃的低温下进行和/或持续例如至少1或2个小时。这可以允许平面化层形成平滑层，而不影响下方的光转换层。

光学涂层可以是薄膜涂层，诸如抗反射(AR)涂层、高反射(HR)涂层、双向滤光片(DF)涂层和/或金属涂层。光学涂层可以改善光转换器的性能(在效率方面)5％，同时显著地降低运行温度，例如降低约9℃。

附图说明

可以按照许多方式来实施本发明，并且现在将仅通过示例并且参照附图描述优选实施例，在附图中：

图1示意性地示出现有示例性光转换器的剖面图；

图2a示出包括根据图1的光转换器的已知荧光轮结构的第一示例；

图2b示出包括根据图1的光转换器的已知荧光轮结构的第二示例；

图3示意性地示出根据本公开的第一光转换器实施例的剖面图；

图4示出第一荧光轮实施例的爆炸图；

图5示出第二荧光轮实施例的爆炸图；以及

图6示出用于测试图4和图5的荧光轮实施例的示意图。

具体实施方式

首先参照图3，示意性地示出光转换器300的实施例的剖面图。示出了：光转换层301；高反射涂层302；平面化层304；以及光学涂层305。

光转换层301形成在高反射涂层302上。对应于图1所示的现有技术的实施例，光转换层301包括位于诸如固化有机硅胶301b等聚合物粘结剂内的荧光体颗粒(粉末)301a。换言之，该光转换层301为有机硅内具有荧光体(PIS，phosphor-in-silicone)类型。光转换层301具有位于与在其上提供的高反射涂层302的一侧相对的一侧上的颗粒状的粗糙表面301c。如图3所示，激发光303a入射在光转换层301上，该光转换层301将激发光转换为不同波长的光，然后由高反射层302反射，以提供发射光303b。

平面化层304沉积在光转换层301的粗糙表面301c上。平面化层304是有机硅粘合剂。对平面化层304的涂覆和/或厚度进行控制，使得在微观尺寸上实现光学表面(光学平滑的)。例如，平面化层304的平均粗糙度(Ra)可以小于0.02μm。平面化层304的厚度可以足够大以使得该层在光学上获得平滑性，例如400nm至1000nm或者厚度高达(并且可选地包括)100μm、150μm或200μm(400nm、1μm、100μm或150μm可以可选地是最小厚度)。平面化层被固化以提供结实的干燥表面，从而能够更好地处置。使用在150C下持续1或2个小时的热固化。这个温度限制特别用来避免损坏下方的光转换层301。

光学涂层305是薄膜涂层，诸如抗反射AR涂层。在已经固化平面化层304之后涂覆该光学涂层。PVD用来涂覆该涂层。AR涂层305涂覆在光转换层301的待暴露给激发光303a的一侧上。这旨在减少与光转换层301的界面处的激发光303a的反射损耗。这个涂层的厚度基于设计性能、所使用的薄膜材料以及相邻材料(诸如平面化层304)的特性。

平面化层304和光学涂层305可以提供另外的进一步的优点。平面化层304具有低折射系数，通常低于光转换层301的折射系数。这增加发射光303b收集到和/或发射自光转换层301的角度(相对于表面的法线为至少30度)。因此，改善了转换光的总提取比。

实践中，以上效果的组合已经显示出在性能方面提供5％的改进并且将PIS光转换层201的温度减少9℃。这可以允许更有效地使用PIS类型的光转换层并且避免与其他类型的光转换器相关联的问题。

需要说明的是，高反射涂层302是可选的，并且以下讨论不具有这种层的实施例。同样，光转换层301的结构可以改变成任何类型的粘结剂内具有颗粒的配置(particle-in-binder)。这种结构倾向于用粗糙外表面形成，如果涂覆光学涂层的话，这可能产生问题。

平面化层304无需由有机硅形成。这个层的期望特性可以包括以下各项中的一项或多项：低吸收率；宽带(380nm至800nm)中的高透射率(至少50％、60％、70％、75％、80％、85％、90％或95％)；能够容易地形成光学平滑的表面；低成本；容易制造。可以使用特别包括SiO₂和/或Al₂O₃的其他材料。在一些情况下，平面化层304的折射系数可以小于光转换层201的折射系数，并且可选地可以尽可能地低(小于1.3、1.25、1.2、1.1或1.05)，同时仍允许在其上形成可靠的光薄膜。可以根据所使用的光学涂层来设置折射系数，并且当使用AR涂层时，高折射系数可以是优选的。

有利地，平面化层304的折射系数可以被设置为接近或匹配光转换层301的折射系数。例如，YAG荧光体具有1.7或更高的折射系数。分布在有机硅树脂内的荧光体通常具有约1.4至1.5的折射系数，以形成光转换层301。由于折射系数的不同，可以在这些层之间的界面处散布相当比例的光。

尽管平面化层304优选地具有特定折射系数，替代方法用于在平面化层304上形成具有期望的折射系数的光学涂层。具有在TIR功能中统一的并且适合涂覆涂层的低折射系数的平面化层304提供显著的优点。可以通过任何有机硅粘结工艺(诸如喷涂)来形成平面化层304，并且替代方案可以包括滴涂、刷涂、溅射、旋涂或丝印或网印。溶胶凝胶/浸渍涂层CVD、磁溅射PVD(可以提供良好的薄膜密度)或其他技术可以可替代地用来沉积平面化层。可以使用室温硫化(RTV)而不是热固化。

附加或替代类型的光学涂层可以设置在平面化层304上，诸如：高反射(HR)涂层(不经常使用)；双向滤光片(DR)涂层(用于对激发光和/或发射光滤光)；和/或金属涂层(诸如AIRlex(TM)或SilFlex(TM)，也不经常使用)。浸渍涂覆可以另外使用或者作为PVD的替代方案来涂覆光学涂层。还可以使用其他已知的技术。

一般意义上，可以提供光转换器，包括：光转换层，包括位于粘结材料中的光转换颗粒，用于将入射在光转换层上的激发光生成发射光；以及位于光转换层的表面上的平面化层。平面化层的表面是光学光滑的和/或比光转换层的表面更光滑。有利的是，至少一个光学涂层是平面化层的光滑表面的一部分或位于平面化层的光滑表面上。换言之，平面化层的表面的粗糙度低于特定值和/或低于光转换层的表面(与平面化层相邻)的粗糙度。然后光学涂层可以涂覆到平面化层上或者与平面化层一起形成。

另外或可替代地，可以考虑一种制造光转换器的方法，包括：在光转换层的表面上沉积平面化层，该光转换层包括位于粘结材料内的光转换颗粒并且将入射在该光转换层上的激发光生成发射光；以及在该平面化层的表面上涂覆至少一个光学涂层或形成至少一个光学涂层。有利的是，平面化层的表面与光转换层的表面相比是相对光滑的。本方法可以具有用于提供本文关于光转换器描述的任何特征。

在不同的方法中，光转换层的表面可以具有本文参照平面化层描述的粗糙度。这可以通过使(PIS)光转换层平滑来实现，例如通过在(有机硅)材料的最终凝固之前适当地进行滴涂和/或固化以及模制。在这种方法中，不需要任何平面化层。然后，厚度约为1μm的光学涂层(例如二氧化硅)可以直接沉积在光转换层的表面上。然而，已经发现，本方法难以实现制造并且性能也不及提供附加平面化层时那样好。

光转换颗粒通常是荧光体颗粒。粘结材料优选地是聚合物。例如，粘结材料可以包括有机硅材料。平面化层可以包括(或形成自)与粘结材料相同的材料。

平面化层的表面通常配置成光学上光滑的。其可以覆盖宽光入射角(与表面成至少5度、10度、15度、20度、25度、30度、40度或45度)和/或宽波长范围(380nm至800nm或至少是激发光和/或发射光的波长)。例如，平面化层的平均粗糙度(Ra)可以不大于(或小于)0.03μm、0.025μm、0.02μm、0.015μm、0.01μm或0.005μm。平面化层的表面的Ra可以不大于光转换层的表面的Ra的0.5、0.4、0.3、0.25、0.2、0.1或0.05倍。另外或可替代地，平面化层的表面的Ra可以不大于激发光或发射光的波长的0.3、0.25、0.2、0.1、0.05或0.01倍。

平面化层的光折射系数可以小于、类似于或大于光转换层的光折射系数。通常，平面化层的折射系数与光转换层的折射系数之间的差值应当小于(或不大于)光转换层的折射系数的50％、40％、30％、25％、20％、15％、10％或5％。另外或可替代地，平面化层的光折射系数在一些实施例中可以小于(或不大于)并且在其他实施例中可以大于(或至少为)1.7、1.6、1.5、1.4、1.3、1.25、1.2、1.1或1.05。平面化层可以包括有机硅材料、有机材料或复合材料。平面化层可以包括SiO₂和/或Al₂O₃。平面化层可以通过以下各项中的一项或多项来沉积：滴涂、喷涂、刷涂、溅射、丝印刷或网印刷。平面化层可以进一步通过例如热固化或室温硫化(RTV)来固化。热固化可以在不大于(或小于)150℃的温度下进行。热固化的持续时间可以约为或至少为1或2个小时。

该至少一个光学涂层优选包括薄膜涂层。该至少一个光学涂层可以包括以下各项中的一项或多项：抗反射(AR)涂层；高反射(HR)涂层；双向滤光片(DF)涂层；以及金属涂层。

平面化层位于光转换层的第一表面上。光转换器还可以包括位于光转换层的第二表面(通常与光转换层的第一表面相对)上的光学功能层。例如，光学功能层可以包括高反射材料或反射性树脂层。

光转换器优选地被实现为光学设备的一部分。特别地，光学设备可以包括基板。然后，光转换器可以设置在(安装在或附接到)基板上。基板可以包括(或形成自)金属材料、非金属材料或复合材料。特别地，光学设备可以是以下之一：色轮；荧光轮；投影显示器；以及汽车头灯。

接下来参照图4，示出了第一荧光轮400实施例的爆炸图。该实施例包括：基板402；光转换层401；平面化层404；以及光学涂层405。基板402是具有高反射膜的金属盘涂层。光转换层401是PIS类型(以上讨论的)并且通常通过滴涂、网印或其他涂覆方法来涂覆。光转换层然后热固化并凝固以形成彩色区段或色环。平面化层404由有机硅形式，以提供在其上涂覆是AR和/或DF涂层的光学涂层的光学地平滑的表面。所构建的色轮/荧光轮模块安装在电机上，以高速转动。光转换层401、平面化层404和光学涂层405的形成是根据图3的描述。

尽管已经描述了特定实施例，本领域技术人员可以理解的是可以进行变化和修改。例如，以上参照图3的光转换器描述的任何替代方案可以等效地应用于图4的实施例。可以考虑基板402的其它形状和/或材料。而且，基板无需具有高反射膜。基板可以是金属反射基板。可替代地，可以不在光转换层401的与平面化层404相对的一侧上设置反射层。基板可以是(全部地或部分地)光学地透明的。然后，色轮/荧光轮可以是透射类型。基板402无需安装在电机上和/或转动。而且，基板可以在静态(非转动)配置中使用。

另一个替代实现方式可以将平面化层和光学涂层组合为一个层。如果平面化层被选择为具有大致介于两个围绕介质之间中点的折射系数(也就是，分别是波长转换层通常是有机硅内具有荧光体以下和空气以上)，通过合适地选择这个层的厚度，可以形成平滑的并且是单层AR涂层的层。另外或可替代地，如果平面化层足够薄，平面化层可以成为薄膜堆叠物的一部分，例如使其成为AR涂层设计的一部分。平面化层的折射系数和厚度可以按照AR涂层设计的需要来控制。

现在参照图5，示出第二荧光轮实施例的爆炸图。荧光轮500包括：基板502；光转换层501；平面化层504；光学涂层505；以及高反射有机硅层506。高反射有机硅层506可以被认为是反射性树脂层，如在本申请人的相关的第PCT/CN2015/097366号国际(PCT)专利申请中所描述的，该国际申请的内容通过引用结合在此。图5的实施例可以被认为是与该相关的专利申请中描述的反射性树脂层结合而实现本公开的光转换器。

高反射有机硅层506是由道康宁公司(Dow Corning Corporation)以CI-2001名称销售的有机硅材料。可以在其技术数据表和安全数据表中发现有关这种材料的其他信息，这两个表的内容通过引用结合在此。这种材料的主要组成成分是八甲基三硅氧烷(是反射性树脂)，并且还包括：二氧化钛(浓度为约20至30％，折射系数是2.1)；二氧化硅(浓度约为1至5％，RI为1.47)；以及氢氧化铝(浓度约为1至5％，RI为1.8)。这些附加组成成分可以是用于光漫反射的其他活性成分。这种材料在室温下固化到坚硬的、弹性的并且非粘性的表面并且具有低可燃性，但是缓和热加速(在溶剂闪蒸之后)可以加速内联处理。这种材料还具有增强流动并填充窄空隙和空间的低粘度。通常，合适的材料应当是能够在-45至200℃的温度范围(-49至392°F)内操作持续较长的时间段(至少1500小时)。然而，在光谱的低温端和高温端下，材料的行为以及在特定应用中的性能会变得复杂并且需要附加考虑因素。可以影响性能的因素是部件的配置和应力灵敏度、冷却速率和保存时间以及先前温度历史。在高温端，固化有机硅弹性体的持续性取决于时间和温度。

有机硅材料在涂覆之前与有机溶剂混合，在这种情况下，有机溶剂包括甲基硅氧烷并且是由道康宁公司以名称OS-20销售的。可以在其技术数据表和安全数据表中发现有关这种材料的其他信息，这两个表的内容通过引用结合在此。该有机溶剂是挥发性溶剂并且用作稀释液来调整溶液粘度。混合的有机硅材料根据工艺要求被制备为均匀的，并且添加更薄的硅油，以在将其放入混合机器内进行混合之前调整粘度。推荐混合机器的两步混合程序，在600RPM低速下持续60s，并且在1200RPM高速下持续120s。

有机硅层通过滴涂、喷涂或网印形成在基板502上。通常使用室温固化或室温硫化(RTV)，但是固化速率可以通过温和加热来加速(并且可以减少到达无粘性状态所需的时间)。可以可替代地使用热固化。空气湿度可以辅助固化。应当允许在暴露于空气循环炉内的升高温度之前溶剂有足够的时间挥发。3mil(75微米)涂层的典型固化安排是在室温下进行10分钟，此后是在60℃下进行10分钟。如果涂层起泡或包含气泡，室温下的附加时间允许溶剂在炉固化之前闪蒸。有机硅材料的贮存期取决于所选择的应用方法。为了延长贮存期，通过使用干燥空气或干燥氮气层在任何合适的时候使暴露的湿度最小化。有机硅材料的粘结通常滞后于固化，并且可以需要高达48小时来构建。因此固化形成有机硅涂层203。在固化之后，溶剂(诸如OS-20)不存在于层中。这个结构通常具有介于380nm与800nm之间的波长的高光反射性。例如，盘形表面的反射率可以在固化之后到达98％。有机硅层实现98％反射率的典型厚度是约0.05mm至约0.15mm。

更一般地，反射性树脂层可以包括混合无机-有机聚合物或弹性体(并且可以是由这种聚合物或弹性体组成的层)。在优选实施例中，反射性树脂层包括有机硅，并且优选地，反射性树脂层是有机硅层。反射性树脂层可以包括硅氧烷，诸如八甲基三硅氧烷。反射性树脂层可以包括其他组成物质，诸如至少一个另外的光反射材料，但是反射性树脂材料应当是反射性树脂层的光学主导和/或大多数(例如按照浓度或w/w)成分。反射性树脂可以形成反射性树脂层的至少(或大于)50％(按照浓度或w/w)。可以存在的其他光反射材料可以包括或包含以下各项中的一项或多项：二氧化钛；二氧化硅；以及氢氧化铝。反射性树脂层的厚度通常是至少(或大于)约0.05mm并且通常不多于(或小于)约0.15mm并且更优选地至少约0.1mm和/或约0.1mm(例如，0.08mm或0.09mm至0.11mm或0.12mm)。

返回图5的实施例，光转换层501按照以上参照图3描述的方式被形成为PIS层。当凝固时，其作为在有机硅反射层502上的光转换层501而形成色段或色彩。有机硅平面化层504被涂覆并凝固在光转换层501上，也如参照图3详细描述的。其形成光平滑表面，薄膜光学涂层505涂覆在该光平滑表面上，该薄膜光学涂层通常包括AR和/或DF涂层。色轮/荧光轮模块安装在电机上，以高速转动。

一般意义上，基板可以涂覆有光学功能层。然后，可以通过在光学功能层上设置光转换层来在基板上设置光转换层。如上所述，光学功能层可以是反射性树脂层。

图5的实施例的变化或修改也是可能的。例如，以上参照图3的光转换器和/或图4的色轮/荧光轮描述的任何替代方案可以等效地应用于图5的实施例。高反射有机硅层506可以由可选的光学功能层替换。这个层可以是高反射的和/或由除了有机硅之外的材料形成。光学功能层(有机硅层或其他层)可以通过其他涂覆方法涂覆到基板502上，例如以上参照光转换和/或平面化层的涂覆所讨论的任一种。

现在参照图6，示出了用于测试图4和图5的荧光轮实施例的示意图。这个配置包括：第一激光二极管组601a；第二激光二极管组601b；透镜系统620、621、622、623；双向反射镜630；监测功率计640；输出功率计650；以及荧光轮660。

第一激光二极管组601a和第二激光二极管组601b为光提供60W的总功率。来自这两个激光二极管组601a和601b的光经由滤光片610被指引以向第一透镜系统620提供输入光615。来自第一透镜系统620的输出光681入射在双向反射镜630上。输出光681被分路为：经由第二透镜系统621提供到监测功率计640的测量光682；以及经由第三透镜系统622作为激发光提供给荧光轮660的测试光683。来自色轮660的发射光684返回到双向反射镜630，其中，发射光被反射以经由第四透镜系统623向输出功率计650提供输入光685。通过对来自监测功率计640和输出功率计650的测量值进行比较，可以发现荧光轮的效率性能，该效率性能可以出于说明性目的与其他荧光轮比较。使用这种配置，观察到根据图2a的实现方式与根据图4的实现方式之间的5％的性能改进。

Claims (17)

1.一种光转换器，包括：

光转换层，所述光转换层在基于有机硅的粘结材料中包括荧光体光转换颗粒，用于将入射在所述光转换层上的激发光生成发射光；

位于所述光转换层的表面上的平面化层；以及

作为所述平面化层的表面的一部分或者位于所述平面化层的所述表面上的至少一个光学涂层，其中所述平面化层的所述表面与所述光转换层的所述表面相比是相对光滑的，其中所述平面化层的所述表面的平均粗糙度Ra不大于所述光转换层的所述表面的Ra的0.25倍。

2.根据权利要求1所述的光转换器，其中，所述平面化层的所述表面配置成在光学上光滑的。

3.根据前述权利要求中任一项所述的光转换器，其中，所述平面化层的所述表面的平均粗糙度Ra不大于所述激发光或发射光的波长的0.1倍。

4.根据权利要求1所述的光转换器，其中，所述平面化层包括有机硅材料、有机材料或复合材料。

5.根据权利要求1所述的光转换器，其中，所述至少一个光学涂层包括薄膜涂层。

6.根据权利要求1所述的光转换器，其中，所述至少一个光学涂层设置在所述平面化层的与所述光转换层的所述表面相比相对光滑的所述表面上，所述至少一个光学涂层包括以下各项中的一项或多项：抗反射AR涂层；高反射HR涂层；双向滤光片DF涂层；以及金属涂层。

7.根据权利要求1所述的光转换器，其中，所述平面化层位于所述光转换层的第一表面上，所述光转换器还包括：

位于所述光转换层的第二表面上的光学功能层。

8.根据权利要求7所述的光转换器，其中，所述光转换层的所述第二表面与所述光转换层的所述第一表面相对。

9.根据权利要求7所述的光转换器，其中，所述光学功能层包括反射性树脂材料。

10.一种光学设备，包括：

基板；以及

位于所述基板上的根据前述权利要求中任一项的光转换器。

11.根据权利要求10所述的光学设备，其中，所述光学设备是以下之一：色轮；荧光轮；投影显示器；以及汽车头灯。

12.一种制造光转换器的方法，包括：

将平面化层沉积在光转换层的表面上，所述光转换层在基于有机硅的粘结材料中包括荧光体光转换颗粒并且将入射在所述光转换层上的激发光生成发射光；以及

在所述平面化层的表面上涂覆至少一个光学涂层或形成至少一个光学涂层，所述平面化层的所述表面与光转换层的所述表面相比是相对平滑的；并且

其中所述平面化层的所述表面的平均粗糙度Ra不大于所述光转换层的所述表面的Ra的0.25倍。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，沉积所述平面化层包括滴涂、喷涂、刷涂、溅射、旋涂或丝印或网印。

14.根据权利要求12或权利要求13所述的方法，其中，沉积所述平面化层还包括固化所述平面化层。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，固化所述平面化层包括在不大于150℃的温度下进行热固化。

16.根据权利要求12所述的方法，在沉积所述平面化层之前，还包括：在基板上提供所述光转换层。

17.根据权利要求16所述的方法，还包括：

用光学功能层涂覆所述基板；

其中，所述在基板上提供所述光转换层包括在所述光学功能层上提供所述光转换层使得所述光学功能层位于所述基板和所述光转换层之间。

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