CN109053226B - 制备哑光干粒釉面砖的方法 - Google Patents

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Abstract

本申请提供一种制备哑光干粒釉面砖的方法。所述方法包括以下步骤:压机打好的砖坯经过第一次干燥除去里面的自由水,控制砖坯中的水分含量小于砖坯总质量的0.5%;砖坯出干燥窑后在其表面喷水雾;然后向坯体表面淋底釉,然后用喷墨机喷绘图案,经第二次干燥窑干燥;喷干粒釉,然后经干燥窑第三次干燥后入烧成窑炉,经过1170‑1185℃高温烧制60‑70min获得半成品;半成品经过磨边和用纤维抛光模块组合进行柔抛,检质后打包作为成品。本申请提供的方法,制得的哑光干粒釉面砖具有逼真的石材质感,同时触感温润如玉。

Description

制备哑光干粒釉面砖的方法
技术领域
本发明涉及陶瓷领域,具体而言,涉及一种制备哑光干粒釉面砖的方法。
背景技术
近几年现代仿古砖市场占有率越来越高,其流露出来的历史感、怀旧感、自然感、回归感、个性化等文化元素以及兼具的时尚流行风情逐渐获得了越来越多的关注和认可。哑光柔润干粒釉面砖属于现代仿古砖的一种升级产品,它不仅继承了仿古砖本身独特的文化元素和抛光砖的超强硬度,而且赋予了其更逼真石材的质感,同时触感温润如玉,而没有石材的冰冷感觉。
目前市场上有许多此类产品,只是简单的用干粒和悬浮剂按一定比例混合后,用喷釉柜均匀的喷在产品表面上。该工艺多用在仿古砖产品上,起到装饰产品表面质感作用,但由于产品表面凹凸不平,干粒之间的间隙或大或小,在产品内铺贴后,表面容易卡污和吸污。同时由于制备工艺存在缺陷,会导致其强度下降。
有鉴于此,特提出本发明。
发明内容
本发明的目的在于提供的一种制备哑光干粒釉面砖的方法,可以获得表面防污性能好、仿古观赏性能佳、强度高的哑光干粒釉面砖。
为了实现本发明的上述目的,特采用以下技术方案:
一种制备哑光干粒釉面砖的方法,包括以下步骤:
A.压机打好的砖坯经过第一次干燥除去里面的自由水,控制所述砖坯中的水分含量小于所述砖坯总质量的0.5%;砖坯出干燥窑后在其表面喷水雾;
B.然后向坯体表面淋底釉,然后用喷墨机喷绘图案,经第二次干燥窑干燥;
C.喷干粒釉,然后经干燥窑第三次干燥后入烧成窑炉,经过1170-1185℃高温烧制60-70min获得半成品;所述干粒釉以重量份数计包括干粒40-50份、保护釉10-20份、高岭土浆1-3份、烧滑石浆0.5-1.5份、悬浮剂90-110份和排墨剂0.05-0.1份;
D.半成品经过磨边和用纤维抛光模块组合进行柔抛,检质后打包作为成品。
通过控制砖坯中水分的含量,主要是控制砖坯内部含水量,避免在后续烧制过程中鼓泡,导致产品瑕疵;砖坯干燥后喷水雾是为了底釉和砖坯能够更好的贴合,提升强度;烧制温度的控制是为了控制干粒釉内的各个成分在烧制时获得最佳的微观形态,达到最佳的互相配合和包覆形态,从而获得最佳的防污性能;干粒釉的成分和用量的选择,可以获得性能更好、仿古效果更佳的产品,具体的:保护釉的作用是在干粒之间形成有效的填充效应,使得釉面获得恰当大小的半圆形凸起,改善表面结构,提高防污效果;高岭土浆为高岭土和水,起到分散作用的同时,可以提高干粒釉的烧制温度;烧滑石浆为烧滑石和水,主要起到降低干粒釉的烧制温度的作用,其与高岭土浆配合,获得合适的烧制温度,有利于控制干粒和保护釉的成分在烧制时的状态,获得较佳的熔融或半熔融形态,从而确保釉面微观结构,保证防污性能。悬浮剂的使用是为了保证各组分能够更好的分散在体系中,防止烧制过程中发生局部不均匀而带来的质量瑕疵;排墨剂的使用是为了避免以下情况:由于油水不能兼溶而造成喷墨印花部位和水性釉料连结处产生油水分离,进而造成瓷砖烧成后表面产生缩釉、凹坑和气泡等缺陷,严重影响产品质量。排墨剂除能克服以上缺陷外还能大大提高釉浆流平及粘结性,进而提高釉面平整及粘结度;使用纤维抛光模块是为了减少表面毛刺,降低表面强光效应,避免光污染,同时仿古效果更好。
优选地,步骤A中,所述喷水雾的量为120-140g/m2。
喷水雾的量的控制是为了达到既满足淋底釉需求,又避免喷水过多造成表面水分渗透到内部,降低第一次干燥的效果,带来起泡等问题。
更加优选地,所述第一次干燥的温度为90-110℃,时间为60-120min;所述第二次干燥的温度为200-300℃,时间为10-20min;所述第三次干燥的温度为150-200℃,时间为60-80min。
第一次干燥温度和时间的控制,是为了既达到干燥目的,又避免过快干燥造成的砖坯不稳定问题;第二次干燥温度和时间的控制,是为了既达到干燥目的,又避免过快干燥造成图案不稳定,在后期烧制过程中模糊的问题;第三次干燥温度和时间的控制,是为了既达到干燥目的,又避免快干燥造成干粒釉层内部应力不均造成烧制过程中出现瑕疵。三次干燥同时考虑了在保证产品质量的前提下提高生产效率的问题。
优选地,所述干粒以质量百分比计,包括:Al2O35-15%、SiO240-55%、CaO10-18%、K2O5-10%、MgO5-12%、BaO4-10%、ZnO2-5%、RuO20.1-0.5%、V2O50.1-0.5%和Bi2O30.1-0.5%。
RuO2在烧制时非常稳定,1400℃以上才会分解。在1170-1185℃下,其在砖的表面形成稳定分布中心,其他成分处于熔融或半熔融状态,进而一起形成大小比较均匀的半球形颗粒覆盖在产品表面,起到防止卡污和吸污作用,同时使釉面触感温润舒适。五氧化二钒在700-1125℃左右会分解为氧和四氧化二钒,这种变化会使得在烧制过程中,改善釉面的微观结构,有效的改善防污性能。三氧化二铋就有三种不同晶型,这种不同晶型的配合,使其加入到干粒之中后能够改变干粒的构成,使制备过程中获得最佳的熔融状态,进而得到更好的表面结构,获得优秀的防污性能。
进一步优选地,所述干粒的粒度为120-200目,所述干粒釉比重为1.23-1.27g/ml,细度为经200目筛后干料重量百分比为0.4%-0.6%。
粒度的控制可以使得表面形态更加优化,防污性能更好。控制比重和筛余是为了获得更好的产品性能。
更加优选地,所述保护釉以质量百分比计包括透明釉粉55-65%、羧甲基纤维素钠0.2-0.5%、三聚磷酸钠0.2-0.4%、氯化铝1-2%、硫酸铝1-2%、十二水合硫酸铝钾1-2%、水30-36%和印膏1-5%;所述透明釉粉以质量百分比计包括Al2O315%、SiO255%、CaO10%、K2O5%、MgO5%、BaO4.5%、ZnO5%、Lu2O30.5%。
保护釉的优选,可以更好地与干粒配合,获得最佳的表面微观结构,进而获得最佳的防污性能。
更优选地,所述底釉以质量百分比计包括SiO240-55%、Al2O310-15%、CaO8-10%、MgO5-8%、ZnO10-15%、K2O4-6%、Na2O1-3%、BaO1-3%。
底釉的选择,可以使得砖坯、底釉和干粒釉之间配合的更好,强度和仿古性能更佳。
优选地,所述悬浮剂为羧甲基纤维素钠,所述排墨剂为聚乙烯醇、聚马来酸酐、聚季胺盐和聚乙二醇中的一种。
悬浮剂和排墨剂可选的有很多种,上述优选结果可以使得整体性能达到最佳。
与现有技术相比,本发明的有益效果为:
1.控制砖坯的含水量,有利于减少产品瑕疵,提高产品强度;
2.优选组分和烧制温度,在烧成过程中形成的熔融状态,冷却后获得最佳的表面微观结构,改善防污性能。
具体实施方式
下面将结合实施例对本发明的实施方案进行详细描述,但是本领域技术人员将会理解,下列实施例仅用于说明本发明,而不应视为限制本发明的范围。实施例中未注明具体条件者,按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者,均为可以通过市售购买获得的常规产品。
实施例1
按照下述步骤制备干粒釉面砖:
1、压机打好的砖坯经过第一次干燥,控制干燥温度90℃、时间为120min除去里面的自由水,使砖坯的水分小于0.5%;砖坯出干燥窑后在其表面喷水,在其表面形成一层水膜,喷水雾的量为120g/m2
2、然后向坯体表面淋底釉,釉量为87g(340*670的托盘);底釉以质量百分比计包括SiO240%、Al2O315%、CaO10%、MgO8%、ZnO15%、K2O6%、Na2O3%、BaO3%;再用喷墨机喷绘图案,经第二次干燥窑干燥,控制干燥温度200℃、时间为20min;
3、喷干粒釉;干粒釉流速为26s,比重为1.27g/ml,釉量为67g(340*670的托盘),细度为经200目筛后干料重量百分比为0.4%;干粒釉按质量份数计包括干粒40份、保护釉20份、高岭土浆1份、烧滑石浆1.5份、悬浮剂90份和排墨剂0.1份;
干粒以质量百分比计包括Al2O35%、SiO255%、CaO10%、K2O10%、MgO5%、BaO10%、ZnO4.3%、RuO20.5%、V2O50.1%和Bi2O30.1%;干粒的粒度为120目;
保护釉以质量百分比计包括透明釉粉60%、羧甲基纤维素钠0.3%、三聚磷酸钠0.2%、氯化铝1%、硫酸铝1.5%、十二水合硫酸铝钾2%、水30%和印膏5%;透明釉粉以质量百分比计包括Al2O315%、SiO255%、CaO10%、K2O5%、MgO5%、BaO4.5%、ZnO5%、Lu2O30.5%;
悬浮剂为羧甲基纤维素钠,所述排墨剂为聚乙烯醇;
喷过干粒釉的砖坯经干燥窑第三次干燥,控制干燥温度150℃、时间为80min;然后入烧成窑炉,经过1170℃高温烧制70min获得半成品;
4、半成品经过磨边和800目数的纤维抛光模块组合柔抛检质后,打包作为成品。
实施例2
按照下述步骤制备干粒釉面砖:
1、压机打好的砖坯经过第一次干燥,控制干燥温度110℃、时间为60min除去里面的自由水,使砖坯的水分小于0.5%;砖坯出干燥窑后在其表面喷水,在其表面形成一层水膜,喷水雾的量为140g/m2
2、然后向坯体表面淋底釉,釉量为93g(340*670的托盘);底釉以质量百分比计包括SiO255%、Al2O313%、CaO8%、MgO5%、ZnO10%、K2O5%、Na2O2%、BaO2%;再用喷墨机喷绘图案,经第二次干燥窑干燥,控制干燥温度300℃、时间为10min;
3、喷干粒釉;干粒釉流速为31s,比重为1.23g/ml,釉量为73g(340*670的托盘),细度为经200目筛后干料重量百分比为0.6%;干粒釉按质量份数计包括干粒50份、保护釉10份、高岭土浆3份、烧滑石浆0.5份、悬浮剂110份和排墨剂0.05份;
干粒以质量百分比计包括Al2O315%、SiO240%、CaO18%、K2O5.3%、MgO12%、BaO4%、ZnO5%、RuO20.1%、V2O50.5%和Bi2O30.1%;干粒的粒度为200目;
保护釉以质量百分比计包括透明釉粉63%、羧甲基纤维素钠0.2%、三聚磷酸钠0.3%、氯化铝2%、硫酸铝1%、十二水合硫酸铝钾1%、水30.5%和印膏2%;透明釉粉以质量百分比计包括Al2O315%、SiO255%、CaO10%、K2O5%、MgO5%、BaO4.5%、ZnO5%、Lu2O30.5%;
悬浮剂为羧甲基纤维素钠,排墨剂为聚马来酸酐;
喷过干粒釉的砖坯经干燥窑第三次干燥,控制干燥温度200℃、时间为60min;然后入烧成窑炉,经过,1185℃高温烧制70mim获得半成品;
4、半成品经过磨边和800目数的纤维抛光模块组合柔抛检质后,打包作为成品。
实施例3
按照下述步骤制备干粒釉面砖:
1、压机打好的砖坯经过第一次干燥,控制干燥温度100℃、时间为130min除去里面的自由水,使砖坯的水分小于0.5%;砖坯出干燥窑后在其表面喷水,在其表面形成一层水膜,喷水雾的量为130g/m2
2、然后向坯体表面淋底釉,釉量为90g(340*670的托盘);底釉以质量百分比计包括SiO254%、Al2O310%、CaO9%、MgO7%、ZnO14%、K2O4%、Na2O1%、BaO1%;再用喷墨机喷绘图案,经第二次干燥窑干燥,控制干燥温度250℃、时间为15min;
3、喷干粒釉;干粒釉流速为29s,比重为1.25g/ml,釉量为70g(340*670的托盘),细度为经200目筛后干料重量百分比为0.5%;干粒釉按质量份数计包括干粒48份、保护釉15份、高岭土浆2份、烧滑石浆1份、悬浮剂100份和排墨剂0.08份;
干粒以质量百分比计包括Al2O39%、SiO250%、CaO15%、K2O5%、MgO10%、BaO8%、ZnO2%、RuO20.4%、V2O50.1%和Bi2O30.5%;干粒的粒度为150目;
保护釉按质量百分比计包括透明釉粉55%、羧甲基纤维素钠0.5%、三聚磷酸钠0.4%、氯化铝1%、硫酸铝2%、十二水合硫酸铝钾1.1%、水36%和印膏4%;
悬浮剂为羧甲基纤维素钠,排墨剂为聚季铵盐;
喷过干粒釉的砖坯经干燥窑第三次干燥,控制干燥温度180℃、时间为70min;然后入烧成窑炉,经过1180℃高温烧制65mim获得半成品;
4、半成品经过磨边和800目数的纤维抛光模块组合柔抛检质后,打包作为成品。
实施例4
按照下述步骤制备干粒釉面砖:
1、压机打好的砖坯经过第一次干燥,控制干燥温度95℃、时间为115min除去里面的自由水,使砖坯的水分小于0.5%;砖坯出干燥窑后在其表面喷水,在其表面形成一层水膜,喷水雾的量为135g/m2
2、然后向坯体表面淋底釉,釉量为91g(340*670的托盘);底釉以质量百分比计包括SiO253%、Al2O311%、CaO8%、MgO8%、ZnO14%、K2O4%、Na2O1%、BaO1%;再用喷墨机喷绘图案,经第二次干燥窑干燥,控制干燥温度220℃、时间为18min;
3、喷干粒釉;干粒釉流速为30s,比重为1.26g/ml,釉量为69g(340*670的托盘),细度为经200目筛后干料重量百分比为0.45%;干粒釉按质量份数计包括干粒48份、保护釉18份、高岭土浆2份、烧滑石浆1份、悬浮剂95份和排墨剂0.1份;
干粒以质量百分比计包括Al2O310%、SiO245%、CaO17%、K2O8%、MgO8%、BaO7%、ZnO4%、RuO20.2%、V2O50.4%和Bi2O30.4%;干粒的粒度为180目;
保护釉以质量百分比计包括透明釉粉65%、羧甲基纤维素钠0.2%、三聚磷酸钠0.2%、氯化铝1.6%、硫酸铝1%、十二水合硫酸铝钾1%、水30%和印膏1%;
悬浮剂为羧甲基纤维素钠,排墨剂为聚乙二醇;
喷过干粒釉的砖坯经干燥窑第三次干燥,控制干燥温度160℃、时间为75min;然后入烧成窑炉,经过1175℃高温烧制68mim获得半成品;
6、半成品经过磨边和800目数的纤维抛光模块组合柔抛检质后,打包作为成品。
比较例1
与实施例1相比,不同之处在于,第一次干燥之后不喷水雾;
比较例2
与实施例2相比,不同之处在于,干粒釉中不含有保护釉;
比较例3
与实施例3相比,不同之处在于,不含有悬浮剂和排墨剂;
比较例4
与实施例4相比,不同之处在于,烧制温度1200℃;
比较例5
与实施例1相比,不同之处在于,第一次干燥50min,第二次干燥5min、第三次干燥30min;
比较例6
与实施例2相比,不同之处在于,干粒中不含RuO2、V2O5和Bi2O3
测试实施例1-4和比较例1-5所得的产品的参数,结果如下表1所示:
表1测试结果
Figure BDA0001778249070000101
Figure BDA0001778249070000111
由上表1可知,喷水雾对提高产品强度有促进作用;保护釉、悬浮剂和排墨剂的使用,有利于改善表面装饰性能,提高产品的强度,尤其是保护釉的使用,可以改善防污性能;烧制温度的控制,有利于优化表面结构,提高防污性能和仿古效果;干燥速度的控制,对提高产品的强度有很大帮助;RuO2、V2O5和Bi2O3的添加,能够有效的改善成品的光泽度,改变直接反射产生的强光给使用者带来的不适感,同时,能够有效提高防污性能。
使用本申请提供的方法,制备的哑光干粒釉面砖防污性能好、装饰效果佳、强度高。
对于本领域的技术人员来说,本申请可以有各种更改和变化。凡在本申请的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。尽管已用具体实施例来说明和描述了本发明,然而应意识到,在不背离本发明的精神和范围的情况下可以作出许多其它的更改和修改。因此,这意味着在所附权利要求中包括属于本发明范围内的所有这些变化和修改。

Claims (7)

1.一种制备哑光干粒釉面砖的方法,其特征在于,包括以下步骤:
A.压机打好的砖坯经过第一次干燥除去里面的自由水,控制所述砖坯中的水分含量小于所述砖坯总质量的0.5%;砖坯出干燥窑后在其表面喷水雾;
B.然后向坯体表面淋底釉,然后用喷墨机喷绘图案,经第二次干燥窑干燥;
C.喷干粒釉,然后经干燥窑第三次干燥后入烧成窑炉,经过1170-1185℃高温烧制60-70min获得半成品;所述干粒釉以重量份数计包括干粒40-50份、保护釉10-20份、高岭土浆1-3份、烧滑石浆0.5-1.5份、悬浮剂90-110份和排墨剂0.05-0.1份,所述干粒以质量百分比计,包括:Al2O35-15%、SiO240-55%、CaO10-18%、K2O5-10%、MgO5-12%、BaO4-10%、ZnO2-5%、RuO20.1-0.5%、V2O50.1-0.5%和Bi2O30.1-0.5%;
D.半成品经过磨边和用纤维抛光模块组合进行柔抛,检质后打包作为成品。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤A中,所述喷水雾的量为120-140g/m2
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一次干燥的温度为90-110℃,时间为60-120min;所述第二次干燥的温度为200-300℃,时间为10-20min;所述第三次干燥的温度为150-200℃,时间为60-80min。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述干粒的粒度为120-200目,所述干粒釉比重为1.23-1.27g/ml,细度为经200目筛后干料重量百分比为0.4%-0.6%。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述保护釉以质量百分比计包括透明釉粉55-65%、羧甲基纤维素钠0.2-0.5%、三聚磷酸钠0.2-0.4%、氯化铝1-2%、硫酸铝1-2%、十二水合硫酸铝钾1-2%、水30-36%和印膏1-5%;所述透明釉粉以质量百分比计包括Al2O315%、SiO255%、CaO10%、K2O5%、MgO5%、BaO4.5%、ZnO5%、Lu2O30.5%。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述底釉以质量百分比计包括SiO240-55%、Al2O310-15%、CaO8-10%、MgO5-8%、ZnO10-15%、K2O4-6%、Na2O1-3%、BaO1-3%。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述悬浮剂为羧甲基纤维素钠,所述排墨剂为聚乙烯醇、聚马来酸酐、聚季胺盐和聚乙二醇中的一种。
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