JPH0283283A - 低熱膨張釉の形成方法 - Google Patents
低熱膨張釉の形成方法Info
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- JPH0283283A JPH0283283A JP23429588A JP23429588A JPH0283283A JP H0283283 A JPH0283283 A JP H0283283A JP 23429588 A JP23429588 A JP 23429588A JP 23429588 A JP23429588 A JP 23429588A JP H0283283 A JPH0283283 A JP H0283283A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は低熱膨張釉の形成方法に関する。
(従来の技術)
従来、低熱膨張の釉を形成する方法として、特公昭44
−5550号公報、特公昭40−26430号公報に開
示された方法牟知られている。このうち前者の方法は素
地中に特定成分を予め含有させておいてその素地成形体
の生素地或いは素焼素地の表面に釉薬調合物を施し、そ
して焼成の際に素地中の成分を軸中に拡散・浸出せしめ
て軸中の成分と反応させることによって軸中に石英系の
結晶、β−スポジューメン等の低熱膨張性結晶を析出さ
せ、以て釉全体の1%膨張率を低くするものである。
−5550号公報、特公昭40−26430号公報に開
示された方法牟知られている。このうち前者の方法は素
地中に特定成分を予め含有させておいてその素地成形体
の生素地或いは素焼素地の表面に釉薬調合物を施し、そ
して焼成の際に素地中の成分を軸中に拡散・浸出せしめ
て軸中の成分と反応させることによって軸中に石英系の
結晶、β−スポジューメン等の低熱膨張性結晶を析出さ
せ、以て釉全体の1%膨張率を低くするものである。
他方後者の方法は、素地表面にリチウムの塩化物、硫化
物、炭酸塩及び燐酸塩と炭酸ソーダの混合物を施し、焼
成の際に素地表面にLi2Oに富む低熱膨張性のガラス
層を形成する方法である。
物、炭酸塩及び燐酸塩と炭酸ソーダの混合物を施し、焼
成の際に素地表面にLi2Oに富む低熱膨張性のガラス
層を形成する方法である。
ところで未出願人は先の特許願(特願昭63−7254
0)において、低熱膨張且つ緻密て耐熱衝撃性の高い(
耐熱衝撃温度差soo’c以上か可能)セラミックス材
を提案している。かかるセラミックス材はその優れた耐
熱衝撃性能から、電気調理器の天板として使用すること
も十分可能である。
0)において、低熱膨張且つ緻密て耐熱衝撃性の高い(
耐熱衝撃温度差soo’c以上か可能)セラミックス材
を提案している。かかるセラミックス材はその優れた耐
熱衝撃性能から、電気調理器の天板として使用すること
も十分可能である。
(発明か解決しようとする課題)
しかしなからかかるセラミックス材のみにて電気調理器
の天板を構成した場合、鍋等からのこぼれものによって
表面か汚れ易く、そこてこのようなセラミックス材の表
面に釉を施すことかてきれば、表面に付着した汚れもの
を容易に拭き取って天板表面を常に清浄に保つことかて
き、また天板表面を美しく仕上げることかてきて好都合
である。
の天板を構成した場合、鍋等からのこぼれものによって
表面か汚れ易く、そこてこのようなセラミックス材の表
面に釉を施すことかてきれば、表面に付着した汚れもの
を容易に拭き取って天板表面を常に清浄に保つことかて
き、また天板表面を美しく仕上げることかてきて好都合
である。
しかしなからこのような低熱膨張性のセラミックス素地
に施す釉薬として、上記方法にて得られる釉は熱膨張の
点て未だ十分てなく、従って#熱ti撃性の点ても不十
分てあって、かかる釉を施したセラミックス材を電気調
理器天板として用いた場合、鍋等からのこぼれものによ
って表面か急冷されたとき釉面に割れ等損傷を生ずる恐
れがある。
に施す釉薬として、上記方法にて得られる釉は熱膨張の
点て未だ十分てなく、従って#熱ti撃性の点ても不十
分てあって、かかる釉を施したセラミックス材を電気調
理器天板として用いた場合、鍋等からのこぼれものによ
って表面か急冷されたとき釉面に割れ等損傷を生ずる恐
れがある。
そこでこのような低熱膨張性のセラミックス素地に対し
ても適用し得るような低熱膨張の釉の開発か望まれてい
た。
ても適用し得るような低熱膨張の釉の開発か望まれてい
た。
(課題を解決するための手段)
本発明はこのようは事情を背景としてなされたものてあ
り、その要旨は、β−スポジューメン。
り、その要旨は、β−スポジューメン。
β−ユークリプタイト、β−石英固溶体等のリチウム−
アルミノ珪酸塩、コーディエライト、チタン酸アルミニ
ウム、燐酸ジルコニウム、ベリル。
アルミノ珪酸塩、コーディエライト、チタン酸アルミニ
ウム、燐酸ジルコニウム、ベリル。
五酸化タンタル、五酸化ニオブ、五酸化バナジウム、溶
融石英(石英ガラス)から成る群より選ばれた1種又は
2種以上を内割で60重量%以下の範囲で添加して成る
釉薬調合物を素地表面に施して該添加材か完全に溶融し
ない条件下で焼成することにある。
融石英(石英ガラス)から成る群より選ばれた1種又は
2種以上を内割で60重量%以下の範囲で添加して成る
釉薬調合物を素地表面に施して該添加材か完全に溶融し
ない条件下で焼成することにある。
釉薬は、基本的には全ての調合成分が焼成時に溶けて均
質化するように調合時に予め各成分を選択するのが一般
的常識である。本発明者も当初このような観点から調合
内容を検討し且つ各種実験を繰り返した。
質化するように調合時に予め各成分を選択するのが一般
的常識である。本発明者も当初このような観点から調合
内容を検討し且つ各種実験を繰り返した。
しかしながらこのような実験を繰り返す中て、従来の考
え方で釉薬を調合する限り到達てきる耐熱衝撃温度差は
せいぜい600 ’C程度まててあり、それ以上の耐熱
衝撃性を得ることか困難である結論を得た。
え方で釉薬を調合する限り到達てきる耐熱衝撃温度差は
せいぜい600 ’C程度まててあり、それ以上の耐熱
衝撃性を得ることか困難である結論を得た。
そこて本発明者は発想の転換を図り、焼成時に不溶のま
ま残留する低熱膨張性物質を釉薬調合物中に含有させる
ことをR想し、そして各種実験を繰り返しながら本発明
を完成させた。
ま残留する低熱膨張性物質を釉薬調合物中に含有させる
ことをR想し、そして各種実験を繰り返しながら本発明
を完成させた。
かかる本発明においては、釉薬調合物中への添加成分と
して、上記したようにβ−スポジューメン、β−ユーク
リプタイト、β−石英固溶体等のリチウム−アルミノ珪
酸塩、コーディエライト(2Mg0・2AI□03・5
SiO2) 、チタン酸アルミニウム(AI20+4i
0+) r燐酸ジルコニウム(2ZrO2−PtOs)
、ベリル(:1RcO・Al20ff・δ5ift)
、五酸化タンタル(Ta20s ) 、五酸化二オツ(
Nb、O,t ) 、五酸化バナジウム(V2O3)
、溶融石英(石英ガラス)の夫々を単独で或いは2種以
上組み合わせて用いることかできる。而してこのような
低熱膨張物質を釉薬調合物中に予め添加・調合しておく
と、焼成時にそれらか不溶のまま残留して釉マトリック
ス中で均−分散し、また添加成分として溶融石英(石英
ガラス)を用いた場合には軸中のガラスマトリックスが
シリカリッチとなり、或いは不溶の溶融石英(石英ガラ
ス)粉末が分散した状態となワて釉全体の熱膨張率か低
下する。
して、上記したようにβ−スポジューメン、β−ユーク
リプタイト、β−石英固溶体等のリチウム−アルミノ珪
酸塩、コーディエライト(2Mg0・2AI□03・5
SiO2) 、チタン酸アルミニウム(AI20+4i
0+) r燐酸ジルコニウム(2ZrO2−PtOs)
、ベリル(:1RcO・Al20ff・δ5ift)
、五酸化タンタル(Ta20s ) 、五酸化二オツ(
Nb、O,t ) 、五酸化バナジウム(V2O3)
、溶融石英(石英ガラス)の夫々を単独で或いは2種以
上組み合わせて用いることかできる。而してこのような
低熱膨張物質を釉薬調合物中に予め添加・調合しておく
と、焼成時にそれらか不溶のまま残留して釉マトリック
ス中で均−分散し、また添加成分として溶融石英(石英
ガラス)を用いた場合には軸中のガラスマトリックスが
シリカリッチとなり、或いは不溶の溶融石英(石英ガラ
ス)粉末が分散した状態となワて釉全体の熱膨張率か低
下する。
そこでかかる釉の熱膨張率を素地のそれより低くしてお
けば、焼成後の冷却時に軸中に圧線応力か残留し、機械
的強度とともに耐熱衝撃性か飛躍的に向上する。
けば、焼成後の冷却時に軸中に圧線応力か残留し、機械
的強度とともに耐熱衝撃性か飛躍的に向上する。
本発明においては、所望とする釉の熱膨張率。
耐熱衝撃性に応じてβ−スポジューメン等低熱膨張物質
を種々の割合(望ましくは内割て5重量%以上)で添加
することがてきる。但しその上限は内割り(全釉薬調合
物中に占める割合)で60重量%である。60重量%を
超えると釉薬の溶融温度が高くなり過ぎて、釉層を適正
に形成できなくなるからである。即ち、本発明では焼成
時に不溶のまま残存する低熱膨張物質を釉薬調合物中に
含有させるため、その添加可能な量か自ずと制限される
のであり、従ってこの意味において本発明は前述した方
法、つまり焼成時に素地成分を軸中に拡散させて釉成分
と反応させることにより軸中に低熱膨張物質を析出させ
る方法と併用すると有利である。具体的には予め釉薬調
合物中に低熱膨張物質を添加しておいて焼成時にこれを
不溶のまま残存させる一方、素地成分と釉成分との反応
により軸中に新たに低熱膨張物質を析出させるようにす
るのである。このようにすれば釉薬調合物への低熱膨張
物質の添加量を一定範囲以下に抑えつつ、軸中の低熱膨
張物質の量を相対的に多くし得て、釉全体の熱膨張率を
低く、従って耐熱衝撃性をより高くすることが可能とな
る。この方法によれば従来到達し得なかった800°C
以上の耐熱衝撃温度差も可能となり、従ってこのような
釉は前述した電気調理器天板の釉としても十分実用に耐
えられる。
を種々の割合(望ましくは内割て5重量%以上)で添加
することがてきる。但しその上限は内割り(全釉薬調合
物中に占める割合)で60重量%である。60重量%を
超えると釉薬の溶融温度が高くなり過ぎて、釉層を適正
に形成できなくなるからである。即ち、本発明では焼成
時に不溶のまま残存する低熱膨張物質を釉薬調合物中に
含有させるため、その添加可能な量か自ずと制限される
のであり、従ってこの意味において本発明は前述した方
法、つまり焼成時に素地成分を軸中に拡散させて釉成分
と反応させることにより軸中に低熱膨張物質を析出させ
る方法と併用すると有利である。具体的には予め釉薬調
合物中に低熱膨張物質を添加しておいて焼成時にこれを
不溶のまま残存させる一方、素地成分と釉成分との反応
により軸中に新たに低熱膨張物質を析出させるようにす
るのである。このようにすれば釉薬調合物への低熱膨張
物質の添加量を一定範囲以下に抑えつつ、軸中の低熱膨
張物質の量を相対的に多くし得て、釉全体の熱膨張率を
低く、従って耐熱衝撃性をより高くすることが可能とな
る。この方法によれば従来到達し得なかった800°C
以上の耐熱衝撃温度差も可能となり、従ってこのような
釉は前述した電気調理器天板の釉としても十分実用に耐
えられる。
尚釉薬調合物の基礎(ベース)y4合内容については特
に限定されないか、耐熱衝撃温度差を600℃以上に高
めたい場合、SiO□:50〜85 重 1% 、Al
□03 : 5〜25 重量% 、Li、O:2〜1
01量%、 ZnO: 0〜10 重i%、 MgO:
0〜S ii 1%その他KtO,[laO、Nano
等を微量に含むように調合するのが望ましい。
に限定されないか、耐熱衝撃温度差を600℃以上に高
めたい場合、SiO□:50〜85 重 1% 、Al
□03 : 5〜25 重量% 、Li、O:2〜1
01量%、 ZnO: 0〜10 重i%、 MgO:
0〜S ii 1%その他KtO,[laO、Nano
等を微量に含むように調合するのが望ましい。
(実施例)
次に本発明の特徴をより明確にすべく、以下にその実施
例を詳述する。
例を詳述する。
〔実施例1]
第1表に示すベース調合A、B、Cに対して第3表に示
すように溶融石英(石英ガラス)。
すように溶融石英(石英ガラス)。
β−ユークリプタイト、チタン酸アルミニウムを夫々種
々割合(内割り)で添加して成る釉薬調合物を第2表(
A)の■の組成の低熱膨張セラミックス素地(使用原料
の組成については第2表(B)を参照)表面に施し、こ
れを第3表に示す温度条件て焼成してそれらの耐熱衝撃
試験を行った。結果か同表に併せて示しである(尚第1
表に示しているようにベース調合のみの場合の耐熱衝撃
試験の値は夫々600℃、600’C,500”C)。
々割合(内割り)で添加して成る釉薬調合物を第2表(
A)の■の組成の低熱膨張セラミックス素地(使用原料
の組成については第2表(B)を参照)表面に施し、こ
れを第3表に示す温度条件て焼成してそれらの耐熱衝撃
試験を行った。結果か同表に併せて示しである(尚第1
表に示しているようにベース調合のみの場合の耐熱衝撃
試験の値は夫々600℃、600’C,500”C)。
[実施例2]
第1表に示すベース調合A、B、Cに対して溶融石英(
石英ガラス)、β−ユークリプタイトを2種類組み合せ
て第4表に示す種々割合で添加して成る釉薬調合物を、
第1の実施例と同様の低熱膨張セラミックス素地表面に
施して第4表に示す温度条件て焼成し、それらの耐熱衝
撃試験を行った。結果か同し第4表に示しである。
石英ガラス)、β−ユークリプタイトを2種類組み合せ
て第4表に示す種々割合で添加して成る釉薬調合物を、
第1の実施例と同様の低熱膨張セラミックス素地表面に
施して第4表に示す温度条件て焼成し、それらの耐熱衝
撃試験を行った。結果か同し第4表に示しである。
第1表:釉薬のベース調合内容
第2表(A)二素地の調合内容
第3表:添加材の種類と添加量
第4表:添加材の種類と添加量
尚素地として第2表(A)の■、■、■を用いた場合に
も結果は素地■の場合とほぼ同様てあった。
も結果は素地■の場合とほぼ同様てあった。
これらの結果に示しているように、溶融石英(石英ガラ
ス)、β−ユークリプタイト、チタン酸アルミニウム等
の低熱膨張物質を予め釉薬調合物中に含有させておくこ
とによって、従来到達できなかった800°C以上の耐
熱衝撃温度差も可能となる。
ス)、β−ユークリプタイト、チタン酸アルミニウム等
の低熱膨張物質を予め釉薬調合物中に含有させておくこ
とによって、従来到達できなかった800°C以上の耐
熱衝撃温度差も可能となる。
以上本発明の実施例を詳述したか、本発明はその他の態
様で実施することも可能である。
様で実施することも可能である。
例えば本発明の釉の用途として電気調理器用天板を例示
したか1本発明はその他各種用途に供される施釉製品に
も適用可能であるし、釉薬の基礎調合として上記例示し
た以外の種々の調合も勿論可能である。更に本発明の釉
を施す対象としての素地は低熱膨張のセラミックス素地
に限定されるものてなく、他の種々材質の素地にも施す
ことが可能であるなど、本発明はその主旨を逸脱しない
範囲において、当業者の知識に基づき様々な変更を加え
た態様において実施可能である。
したか1本発明はその他各種用途に供される施釉製品に
も適用可能であるし、釉薬の基礎調合として上記例示し
た以外の種々の調合も勿論可能である。更に本発明の釉
を施す対象としての素地は低熱膨張のセラミックス素地
に限定されるものてなく、他の種々材質の素地にも施す
ことが可能であるなど、本発明はその主旨を逸脱しない
範囲において、当業者の知識に基づき様々な変更を加え
た態様において実施可能である。
(発明の効果)
以上詳述したように、本発明によれば釉の熱膨張率を効
果的に低くすることがてき、釉薬の基礎調合を適宜選択
することによって従来到達できなかった800°C以上
の耐熱衝撃温度差も可能となるなど優れた効果か生ずる
。
果的に低くすることがてき、釉薬の基礎調合を適宜選択
することによって従来到達できなかった800°C以上
の耐熱衝撃温度差も可能となるなど優れた効果か生ずる
。
特許出願人 株式会社 イナックス手
続
補
正
書
(自発)
1、事件の表示
昭和6
3年特許願第234295号
事件との関係 特許出願人
住 所 愛知県常滑市鯉江木町3丁目6番地名 称
(047) 株式会社 イナックス代表者 伊
奈 輝 三 4、代理人 電話052−451−9300名古属
市中村区椿町1番3号 第−地産ビル904号 〒453 5、補正の対象 (1)明細書の発明の詳細な説明の欄 (2)明細書の図面の簡単な説明の欄 (3)図面 6、補正の内容 (1)明細書第13頁13行目の「本発明はその他」と
あるのを「本発明は第1図に示すようにセラミックス素
地1と表面の釉2とから成るカス用クツキング板3に適
用したりその他」と補正する。
(047) 株式会社 イナックス代表者 伊
奈 輝 三 4、代理人 電話052−451−9300名古属
市中村区椿町1番3号 第−地産ビル904号 〒453 5、補正の対象 (1)明細書の発明の詳細な説明の欄 (2)明細書の図面の簡単な説明の欄 (3)図面 6、補正の内容 (1)明細書第13頁13行目の「本発明はその他」と
あるのを「本発明は第1図に示すようにセラミックス素
地1と表面の釉2とから成るカス用クツキング板3に適
用したりその他」と補正する。
(2)明細書第14頁7行目の「優れた効果が生ずる。
」の後に下記の文章を挿入する。
記
第1図は本発明の一適用例としてのガス用クツキング板
を示す説明図である。 2:釉 3:ガス用クツキング板(3)図面補
正として別紙の通り第1図を追加する。 以上
を示す説明図である。 2:釉 3:ガス用クツキング板(3)図面補
正として別紙の通り第1図を追加する。 以上
Claims (1)
- β−スポジューメン、β−ユークリプタイト、β−石英
固溶体等のリチウム−アルミノ珪酸塩、コーディエライ
ト、チタン酸アルミニウム、燐酸ジルコニウム、ベリル
、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、五酸化バナジウム、
溶融石英から成る群より選ばれた1種又は2種以上を内
割で60重量%以下の範囲で添加して成る釉薬調合物を
素地表面に施して該添加材が完全に溶融しない条件下で
焼成することを特徴とする低熱膨張釉の形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23429588A JPH0283283A (ja) | 1988-09-19 | 1988-09-19 | 低熱膨張釉の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23429588A JPH0283283A (ja) | 1988-09-19 | 1988-09-19 | 低熱膨張釉の形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0283283A true JPH0283283A (ja) | 1990-03-23 |
Family
ID=16968752
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23429588A Pending JPH0283283A (ja) | 1988-09-19 | 1988-09-19 | 低熱膨張釉の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0283283A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015078104A (ja) * | 2013-10-18 | 2015-04-23 | 長崎県 | 低熱膨張陶磁器製品 |
CN106747659A (zh) * | 2015-11-20 | 2017-05-31 | 广东顺祥陶瓷有限公司 | 一种耐热瓷釉 |
CN109053226A (zh) * | 2018-08-27 | 2018-12-21 | 河源市东源鹰牌陶瓷有限公司 | 制备哑光干粒釉面砖的方法 |
CN111439928A (zh) * | 2020-06-02 | 2020-07-24 | 苏州电瓷厂股份有限公司 | 自流平低膨胀釉浆组合物 |
CN113651536A (zh) * | 2021-10-21 | 2021-11-16 | 佛山市三水大岛制釉有限公司 | 一种哑光黑色釉料、卫生洁具及其制备方法和用途 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5138730A (ja) * | 1974-09-26 | 1976-03-31 | Daiken Trade & Industry | Hekitainokoseihoho |
-
1988
- 1988-09-19 JP JP23429588A patent/JPH0283283A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5138730A (ja) * | 1974-09-26 | 1976-03-31 | Daiken Trade & Industry | Hekitainokoseihoho |
Cited By (6)
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JP2015078104A (ja) * | 2013-10-18 | 2015-04-23 | 長崎県 | 低熱膨張陶磁器製品 |
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CN113651536A (zh) * | 2021-10-21 | 2021-11-16 | 佛山市三水大岛制釉有限公司 | 一种哑光黑色釉料、卫生洁具及其制备方法和用途 |
CN113651536B (zh) * | 2021-10-21 | 2022-02-15 | 佛山市三水大岛制釉有限公司 | 一种哑光黑色釉料、卫生洁具及其制备方法和用途 |
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