CN109023198A - 氧化铝陶瓷内锅及其制备方法和烹饪器具 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及家用电器领域,公开了氧化铝陶瓷内锅及其制备方法和烹饪器具。该方法包括以下步骤:(1)将氧化铝陶瓷锅体的外表面进行表面处理;(2)将经过表面处理的锅体进行热浸铝处理以在锅体的外表面上形成铝膜;(3)通过喷涂在所述铝膜上形成金属导磁层。按照本发明所述的方法制备的氧化铝陶瓷内锅中金属导磁层与锅体的结合强度高,导磁性能好,且耐冷热冲击性能优异。
Description
技术领域
本发明涉及家用电器领域,具体涉及氧化铝陶瓷内锅及其制备方法和烹饪器具。
背景技术
氧化铝陶瓷的导磁方法有贴膜、热喷涂、陶瓷金属化等工艺,贴膜工艺不稳定,导致电磁加热时功率不稳;热喷涂时由于金属与陶瓷材料在化学键、晶体结构和热物理性能等方面存在相当大的差别,造成结合力差且有比较大的热应力集中现象而导致涂层容易脱落,耐热性能变差;陶瓷金属化工艺难度大,成本高,比较难实现,不易实现工业化生产。氧化铝陶瓷传统热浸铝工艺很难实现氧化铝陶瓷与铝的结合,这主要源于铝和氧化铝的润湿性比较差,液态铝与单晶或多晶氧化铝的接触角约为77°-135°,无法润湿氧化铝,且在氧化铝-铝界面上存在非晶态氧化膜,界面容易形成未连接缺陷,这是由于铝极容易氧化。
发明内容
本发明的目的是为了克服现有氧化铝陶瓷的导磁方法所存在的上述缺陷,提供一种氧化铝陶瓷内锅及其制备方法和烹饪器具。
本发明提供了一种氧化铝陶瓷内锅的制备方法,该方法包括以下步骤:
(1)将氧化铝陶瓷锅体的外表面进行表面处理;
(2)将经过表面处理的锅体进行热浸铝处理以在锅体的外表面上形成铝膜;
(3)通过喷涂在所述铝膜上形成金属导磁层。
优选地,所述表面处理使得经过表面处理的外表面与液态铝的接触角小于77°,优选为75°以下,更优选为60°以下,进一步优选为45°以下。
优选地,所述表面处理的过程包括:将氧化铝陶瓷锅体的外表面进行喷砂处理,然后进行超声波清洗。
优选地,所述喷砂处理的实施条件包括:砂粒的平均粒径为0.2-2mm,压缩空气的压力为0.2-0.5MPa。
优选地,所述超声波清洗的实施条件包括:频率为20-130kHz,时间为 15-60分钟。
优选地,在锅体的外表面上形成的铝膜的厚度为5-15μm。
优选地,所述热浸铝处理的实施条件包括:铝液温度为600-1000℃,锅体的移动速度为30-100mm/min,处理时间为1-30min。
优选地,所述热浸铝处理的过程在由保护气体提供的惰性气氛下进行,且所述保护气体的流速为2-10L/min。
优选地,在实施热浸铝处理之前,将经过表面处理的锅体预热到200-400 ℃。
优选地,在铝膜上形成的金属导磁层的厚度为150-400μm。
优选地,用于形成所述金属导磁层的材料为铁、镍、钴、铁铝合金、低碳钢、430不锈钢、镍铝合金、镍铁合金、铁钴合金和铁硅合金中的至少一种。
优选地,所述氧化铝陶瓷内锅的制备方法还包括:在形成有金属导磁层的锅体的表面上形成保护层。
本发明还提供了由上述方法制备的氧化铝陶瓷内锅。
本发明还提供了一种烹饪器具,所述烹饪器具包括权利要求10所述的氧化铝陶瓷内锅。
优选地,所述烹饪器具为电饭煲或电压力锅。
在本发明提供的所述氧化铝陶瓷内锅的制备方法中,通过对氧化铝陶瓷锅体的外表面进行表面处理,之后进行热浸铝处理以形成铝膜,铝膜能够牢固地结合在锅体外表面,然后在铝膜上形成金属导磁层,其金属导磁层与锅体的结合强度高,导磁性能好,且耐冷热冲击性能优异。
在优选实施方式中,当所述表面处理使得经过表面处理的外表面与液态铝的接触角降低至小于77°(优选为75°以下,更优选为60°以下,进一步优选为45°以下),能够显著提高液态铝对氧化铝陶瓷锅体外表面的润湿性,使得氧化铝陶瓷锅体与其表面上形成的铝膜能够牢固地结合在一起,从而能够进一步提高金属导磁层与锅体的结合强度,获得更好的耐冷热冲击性能。
具体实施方式
在本文中所披露的范围的端点和任何值都不限于该精确的范围或值,这些范围或值应当理解为包含接近这些范围或值的值。对于数值范围来说,各个范围的端点值之间、各个范围的端点值和单独的点值之间,以及单独的点值之间可以彼此组合而得到一个或多个新的数值范围,这些数值范围应被视为在本文中具体公开。
本发明提供了一种氧化铝陶瓷内锅的制备方法,该方法包括以下步骤:
(1)将氧化铝陶瓷锅体的外表面进行表面处理;
(2)将经过表面处理的锅体进行热浸铝处理以在锅体的外表面上形成铝膜;
(3)通过喷涂在所述铝膜上形成金属导磁层。
在本发明中,所述表面处理的过程可以按照本领域常规的操作方式实施。优选情况下,所述表面处理使得经过表面处理的外表面与液态铝的接触角小于77°。通过将氧化铝陶瓷锅体的外表面与液态铝的接触角降低至小于 77°,主要是为了改善后续热浸铝处理过程中液态铝与锅体外表面的润湿性,使得铝膜与锅体外表面能够牢固地结合在一起。因此,本发明中对于所述表面处理的方法没有特别的限定,只要能够实现降低氧化铝陶瓷锅体的外表面与液态铝的接触角(特别是降低至小于77°)即可。在具体的实施方式中,通过所述表面处理的过程将所述氧化铝陶瓷锅体的外表面与液态铝的接触角降低至75°、70°、65°、60°、55°、50°、45°、40°、35°、30°、25°、20°、 15°、10°、5°、0°以及这些点值中的任意两个所构成的范围中的任意值。在优选情况下,经过表面处理的锅体外表面与液态铝的接触角为75°以下,更优选为60°以下,进一步优选为45°以下,最优选为0-30°。
根据本发明的一种优选实施方式,为了实现将氧化铝陶瓷锅体的外表面与液态铝的接触角降低至预定值,所述表面处理的过程包括:将氧化铝陶瓷锅体的外表面进行喷砂处理,然后进行超声波清洗。
在本发明中,优选地,所述喷砂处理的实施条件包括:砂粒的平均粒径为0.1-5mm,优选为0.1-4mm,更优选为0.2-3mm,进一步优选为0.2-2mm;压缩空气的压力为0.1-2MPa,优选为0.1-1MPa,更优选为0.2-0.8MPa,进一步优选为0.2-0.5MPa。
在本发明中,优选地,所述超声波清洗的实施条件包括:频率为 10-300kHz,优选为10-200Khz,更优选为20-150kHz,进一步优选为 20-130kHz;时间为5-200分钟,优选为10-150分钟,更优选为15-100分钟,进一步优选为15-60分钟。
在本发明中,在锅体的外表面上形成的铝膜的厚度可以为3-50μm,优选为3-30μm,更优选为5-20μm,进一步优选为5-15μm。
在本发明中,所述热浸铝处理的实施条件可以包括:铝液温度为 500-1200℃,优选为600-1000℃;锅体的移动速度为20-200mm/min,优选为30-100mm/min;处理时间为1-60min,优选为1-30min。
在优选实施方式中,所述热浸铝处理的过程在由保护气体提供的惰性气氛下进行。在该优选实施方式中,惰性气氛下进行热浸铝处理可以避免氧化铝-铝界面上生成非晶态氧化膜,从而可以进一步提高铝膜与氧化铝锅体外表面之间的结合力。
进一步优选地,所述保护气体的流速可以为1-20L/min,优选为 1-18L/min,更优选为2-15L/min,进一步优选为2-10L/min。
在本发明中,所述保护气体可以氮气、氦气、氖气和氩气中的至少一种,优选为氮气。
在优选实施方式中,在实施热浸铝处理之前,将经过表面处理的锅体预热到200-400℃,例如可以为200℃、220℃、250℃、280℃、300℃、320℃、 350℃、380℃、400℃以及这些点值中的任意两个所构成的范围中的任意值。
在本发明中,在铝膜上形成的金属导磁层的厚度可以为150-400μm,优选为200-300μm。
在本发明中,用于形成所述金属导磁层的材料可以为本领域常规的导磁材料,例如可以为铁、镍、钴、铁铝合金、低碳钢、430不锈钢、镍铝合金、镍铁合金、铁钴合金和铁硅合金中的至少一种。所述低碳钢是指碳含量低于 0.25重量%的碳素钢。
在本发明中,形成金属导磁层的喷涂过程可以按照本领域常规的喷涂方式实施。在一种具体实施方式中,形成所述金属导磁层的喷涂方式为等离子喷涂,实施条件包括:喷涂功率为45-65kW,喷涂距离为200-400mm,喷涂角度为60°至80°。
在本发明中,所述氧化铝陶瓷内锅的制备方法还可以包括:在形成有金属导磁层的锅体的表面上形成保护层,赋予所述氧化铝陶瓷内锅的外表面易清洁、防锈、耐磨等功能。所述保护层的厚度可以为10-50微米。形成所述防护层的材料可以为防锈漆和硅树脂中的至少一种。
在本发明中,所述氧化铝陶瓷锅体可以为本领域常规的氧化铝陶瓷锅体,也可以按照本领域常规的方法制备得到。在一种实施方式中,所述氧化铝陶瓷锅体的制备过程包括:将70-90重量份的氧化铝粉、3-20重量份的高岭土、0.5-5重量份的滑石粉以及水混合并研磨以获得浆料;将所述浆料进行陈腐1-30小时,然后造粒,得到粒度D50为80-150μm的粒料;将所得粒料进行干压成型,并将成型得到的生坯在1400-1700℃下进行烧结,从而制得氧化铝陶瓷锅体。
本发明还提供了由上述方法制备的氧化铝陶瓷内锅。在所述氧化铝陶瓷内锅中,其金属导磁层与锅体的结合强度高,导磁性能好,且耐冷热冲击性能优异。
本发明还提供了一种烹饪器具,所述烹饪器具包括本发明提供的氧化铝陶瓷内锅。优选地,所述烹饪器具为电饭煲或电压力锅,所述氧化铝陶瓷内锅作为电饭煲和电压力锅的内锅。
以下通过实施例和对比例对本发明做进一步详细说明。
在以下实施例和对比例中,所使用的氧化铝陶瓷锅体按照以下方法制备:将85重量份的氧化铝粉(平均粒径为7微米)、8重量份的高岭土以及 7重量份的滑石粉和80重量份的水混合并研磨以获得浆料;将所述浆料进行陈腐12小时,然后造粒,得到粒度D50为95μm的粒料;将所得粒料进行干压成型,并将成型得到的生坯在1650℃下进行烧结,从而制得氧化铝陶瓷锅体。
实施例1
将氧化铝陶瓷锅体的外表面进行喷砂处理,砂粒的平均粒径为0.2mm,压缩空气的压力为0.2MPa;对经过喷砂处理的锅体进行超声波清洗,频率为20kHz,清洗时间为15min;接着将经过清洗的锅体预热至200℃,然后在氮气气氛下对锅体进行热浸铝处理以在锅体的外表面上形成厚度为15微米的铝膜,热浸铝处理的实施条件包括:铝液温度为600℃,氮气流速为 2L/min,陶瓷锅的移动速度为30mm/min,停留时间为2min;通过等离子喷涂的方式将铁喷涂在铝膜上形成厚度为200微米的金属导磁层;然后在锅体的表面上喷涂防锈漆以形成保护层,从而制得氧化铝陶瓷内锅A1。
实施例2
将氧化铝陶瓷锅体的外表面进行喷砂处理,砂粒的平均粒径为0.5mm,压缩空气的压力为0.3MPa;对经过喷砂处理的锅体进行超声波清洗,频率为50kHz,清洗时间为30min;接着将经过清洗的锅体预热至300℃,然后在氮气气氛下对锅体进行热浸铝处理以在锅体的外表面上形成厚度为20微米的铝膜,热浸铝处理的实施条件包括:铝液温度为800℃,氮气流速为 5L/min,陶瓷锅的移动速度为50mm/min,停留时间为15min;通过等离子喷涂的方式将铁喷涂在铝膜上形成厚度为250微米的金属导磁层;然后在锅体的表面上喷涂防锈漆以形成保护层,从而制得氧化铝陶瓷内锅A2。
实施例3
将氧化铝陶瓷锅体的外表面进行喷砂处理,砂粒的平均粒径为2mm,压缩空气的压力为0.5MPa;对经过喷砂处理的锅体进行超声波清洗,频率为130kHz,清洗时间为60min;接着将经过清洗的锅体预热至400℃,然后在氮气气氛下对锅体进行热浸铝处理以在锅体的外表面上形成厚度为25微米的铝膜,热浸铝处理的实施条件包括:铝液温度为1000℃,氮气流速为 10L/min,陶瓷锅的移动速度为100mm/min,停留时间为30min;通过等离子喷涂的方式将铁喷涂在铝膜上形成厚度为300微米的金属导磁层;然后在锅体的表面上喷涂防锈漆以形成保护层,从而制得氧化铝陶瓷内锅A3。
实施例4
按照实施例1的方法制备陶瓷锅体,所不同的是,所述热浸铝处理的过程不在氮气气氛下进行,从而制得氧化铝陶瓷内锅A4。
实施例5
按照实施例1的方法制备陶瓷锅体,所不同的是,经过清洗的锅体不事先预热至200℃而直接进行热浸铝处理,从而制得氧化铝陶瓷内锅A5。
对比例1
按照实施例1的方法制备陶瓷锅体,所不同的是,氧化铝陶瓷锅体的外表面不经过喷砂处理和超声波清洗,而直接进行预热等后续工序,从而制得氧化铝陶瓷内锅D1。
对比例2
按照实施例1的方法制备陶瓷锅体,所不同的是,氧化铝陶瓷锅体的外表面不经过喷砂处理,而直接进行超声波清洗等后续工序,从而制得氧化铝陶瓷内锅D2。
对比例3
按照实施例1的方法制备陶瓷锅体,所不同的是,氧化铝陶瓷锅体的外表面经过喷砂处理后不经过超声波清洗,而直接进行预热等后续工序,从而制得氧化铝陶瓷内锅D3。
对比例4
按照实施例1的方法制备陶瓷锅体,所不同的是,所述喷砂处理的实施条件包括:砂粒的平均粒径为8mm,压缩空气的压力为5MPa,从而制得氧化铝陶瓷内锅D4。
测试例
(1)按照百格法检测氧化铝陶瓷内锅的金属导磁层与锅体的结合强度,具体测试方法为:用划格器在内锅底部用介子刀划2mm2小格100格,在方格对角方向上,用日本胶布或3M公司SCOTCHNO898胶布粘紧釉层,然后立即以垂直涂层表面90°角,快速拉起胶布,试验后不能有任何1小格的釉层完全脱落,通过观察金属导磁层脱落的格数来评价结合强度。
(2)按照以下方法检测氧化铝陶瓷内锅的导磁性能:煮饭前用功率仪测量锅具的功率,煮饭700次后再用功率仪测量锅具的功率。
(3)按照以下方法检测氧化铝陶瓷内锅的耐冷热冲击性能:将氧化铝陶瓷内锅放入烤箱中加热至260℃并恒温0.5小时,然后取出放入常温水中,重复操作50次,观察陶瓷锅体是否出现开裂。
检测结果如下表1所示。
表1
由上述实施例和对比例的测试结果可以看出,按照本发明所述的方法制备的氧化铝陶瓷内锅中金属导磁层与锅体的结合强度高,导磁性能好,且耐冷热冲击性能优异。
以上详细描述了本发明的优选实施方式,但是,本发明并不限于此。在本发明的技术构思范围内,可以对本发明的技术方案进行多种简单变型,包括各个技术特征以任何其它的合适方式进行组合,这些简单变型和组合同样应当视为本发明所公开的内容,均属于本发明的保护范围。
Claims (13)
1.一种氧化铝陶瓷内锅的制备方法,该方法包括以下步骤:
(1)将氧化铝陶瓷锅体的外表面进行表面处理;
(2)将经过表面处理的锅体进行热浸铝处理以在锅体的外表面上形成铝膜;
(3)通过喷涂在所述铝膜上形成金属导磁层。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述表面处理使得经过表面处理的外表面与液态铝的接触角小于77°,优选为75°以下,更优选为60°以下,进一步优选为45°以下。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述表面处理的过程包括:将氧化铝陶瓷锅体的外表面进行喷砂处理,然后进行超声波清洗。
4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述喷砂处理的实施条件包括:砂粒的平均粒径为0.2-2mm,压缩空气的压力为0.2-0.5MPa。
5.根据权利要求3所述的方法,其中,所述超声波清洗的实施条件包括:频率为20-130kHz,时间为15-60分钟。
6.根据权利要求1所述的方法,其中,在锅体的外表面上形成的铝膜的厚度为5-15μm。
7.根据权利要求1或6所述的方法,其中,所述热浸铝处理的实施条件包括:铝液温度为600-1000℃,锅体的移动速度为30-100mm/min,处理时间为1-30min。
8.根据权利要求1或6所述的方法,其中,所述热浸铝处理的过程在由保护气体提供的惰性气氛下进行,且所述保护气体的流速为2-10L/min。
9.根据权利要求1或6所述的方法,其中,在实施热浸铝处理之前,将经过表面处理的锅体预热到200-400℃。
10.根据权利要求1或2所述的方法,其中,在铝膜上形成的金属导磁层的厚度为150-400μm;
优选地,用于形成所述金属导磁层的材料为铁、镍、钴、铁铝合金、低碳钢、430不锈钢、镍铝合金、镍铁合金、铁钴合金和铁硅合金中的至少一种。
11.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述方法还包括:在形成有金属导磁层的锅体的表面上形成保护层。
12.由权利要求1-11中任意一项所述的方法制备的氧化铝陶瓷内锅。
13.一种烹饪器具,其特征在于,所述烹饪器具包括权利要求12所述的氧化铝陶瓷内锅;
优选地,所述烹饪器具为电饭煲或电压力锅。
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