CN109001958B - 解决版图图形偏离栅格线的修正方法 - Google Patents
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- 238000012937 correction Methods 0.000 title claims abstract description 132
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 53
- 238000013461 design Methods 0.000 claims description 25
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 claims description 10
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 6
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims 10
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 claims 1
- 238000012552 review Methods 0.000 abstract description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 238000002715 modification method Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
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Abstract
本发明提供了一种解决版图图形偏离栅格线的修正方法，对于偏离栅格线的目标图形，通过在栅格阵列中定义并连接各个栅格偏离点所对应的栅格修正点获得修正后的图形。本发明可有效解决人工逐条审查修改效率低下的问题。通过使用本发明的修正方法，不但可以修正偏离栅格线的图形，也可以修正版图中的畸形点，使版图可以在光罩上准确刻写。
Description
技术领域
本发明涉及集成电路设计领域，特别是涉及一种解决版图图形偏离栅格线的修正方法。
背景技术
在进行集成电路版图设计时，由于光罩版图设计以及制造方法的限制，版图上对的每个图案都必须符合on-grid规则，即每个图案的边缘必须位于指定的栅格线上。当出现off-grid的情况，即图案的边缘不在栅格线上时，该版图就无法正常交付光罩加工。目前，主要依靠技术人员对初步设计后的版图中的off-grid图案进行人工逐条审查修改，这不但费时费力，也无法保证修改的正确率。
因此，针对改进偏离栅格线图案修正方法的应用需求，有必要提出一种新的解决版图图形偏离栅格线的修正方法，以解决上述问题。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种修正版图图形偏离栅格线的方法，用于解决现有的人工逐条审查修改效率低下的问题。
为实现上述目的及其它相关目的，本发明提供一种解决版图图形偏离栅格线的修正方法，其特征在于，包括如下步骤：
1)提供一目标图形，所述目标图形形成于一栅格阵列中，所述栅格阵列包括由在直角坐标系中沿X轴方向和Y轴方向等间距排列的若干栅格点所构成的矩阵；
2)定义一包含所述目标图形的最小矩形，所述最小矩形的边线平行于所述X轴或所述Y轴；
3)通过所述最小矩形的边线两侧的栅格点，分别沿平行于所述X轴方向和所述Y轴方向作垂直于所述最小矩形的边线的垂线，将所述垂线与所述目标图形的交点定义为栅格偏离点；
4)将距离所述栅格偏离点最近的栅格点定义为栅格修正点，得到所述目标图形上的所有所述栅格偏离点所对应的所述栅格修正点；
5)将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接，以得到修正后图形。
作为本发明的一种优选方案，在步骤5)中，将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接之前，还包括对所述栅格修正点进行线性度评估和曲率半径评估，并剔除线性度或曲率半径异常的栅格修正点的步骤。
作为本发明的一种优选方案，在步骤5)中，将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接时，当相邻的两个所述栅格修正点不在一条所述连接线上时，将通过相邻的两个所述栅格修正点的两条所述连接线的交点定义为辅助栅格修正点，相邻两所述栅格修正点分别沿X轴方向或Y轴方向与所述辅助栅格修正点相连接。
作为本发明的一种优选方案，在步骤5)中，采用外接方式或内接方式将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接以得到所述修正后图形；其中，与所述栅格修正点相连接的所述辅助栅格修正点位于所述目标图形外侧时得到所述修正后图形的连接方式为外接方式，与所述栅格修正点相连接的所述辅助栅格修正点位于所述目标图形内侧时得到所述修正后图形的连接方式为内接方式。
作为本发明的一种优选方案，在步骤5)中，采用外接方式和内接方式将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接以得到所述修正后图形；其中，与所述栅格修正点相连接的所述辅助栅格修正点位于所述目标图形外侧时得到所述修正后图形的连接方式为外接方式，与所述栅格修正点相连接的所述辅助栅格修正点位于所述目标图形内侧时得到所述修正后图形的连接方式为内接方式。
作为本发明的一种优选方案，在步骤5)后，还包括以下步骤：
6)对所述修正后图形进行设计规则检查验证，对所述修正后图形中违反设计规则的图形部分进行再修正。
作为本发明的一种优选方案，在步骤6)中，当所述设计规则检查验证发现所述修正后图形中有违反设计规则的图形部分时，更改所述修正后图形中所述栅格修正点与所述辅助栅格修正点的连接方式，以使得再修正后的所述修正后图形符合所述设计规则。
作为本发明的一种优选方案，所述解决版图图形偏离栅格线的修正方法用于对光刻版图中偏离栅格点的图形进行修正。
如上所述，本发明提供一种解决版图图形偏离栅格线的修正方法，具有以下有益效果：
本发明通过引入一种解决版图图形偏离栅格线的修正方法，可有效解决人工逐条审查修改效率低下的问题。通过使用本发明的修正方法，不但可以修正偏离栅格线的图形，也可以修正版图中的畸形点，使版图可以在光罩上准确刻写。
附图说明
图1显示为本发明提供的解决版图图形偏离栅格线的修正方法的流程图。
图2至图10显示为本发明实施例中提供的解决版图图形偏离栅格线的修正方法的各步骤的示意图。
元件标号说明
101 目标图形
102 栅格点
103 最小矩形
104 垂线
105 栅格偏离点
106 栅格修正点
106a 异常栅格修正点
107 连接线
108 修正后图形
109 辅助栅格修正点
S1～S6 本发明实施例中提供的解决版图图形偏离栅格线的修正方法步骤1)～6)
具体实施方式
以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其它优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。
请参阅图1至图10。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本发明的基本构想，虽图示中仅显示与本发明中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的形态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局形态也可能更为复杂。
如图1至图10所示，本发明提供了一种解决版图图形偏离栅格线的修正方法，包括如下步骤：
1)提供一目标图形101，所述目标图形101形成于一栅格阵列中，所述栅格阵列包括由在直角坐标系中沿X轴方向和Y轴方向等间距排列的若干栅格点102所构成的矩阵；
2)定义一包含所述目标图形101的最小矩形103，所述最小矩形103的边线平行于所述X轴或所述Y轴；
3)通过所述最小矩形的边线两侧的栅格点102，分别沿平行于所述X轴方向和所述Y轴方向作垂直于所述最小矩形的边线的垂线104，将所述垂线104与所述目标图形101的交点定义为栅格偏离点105；
4)将距离所述栅格偏离点105最近的栅格点102定义为栅格修正点106，得到所述目标图形101上的所有所述栅格偏离点105所对应的所述栅格修正点106；
5)将相邻所述栅格修正点106沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线107相连接，以得到修正后图形108。
请参阅图1的S1以及图2，提供一目标图形101，所述目标图形101位于一栅格阵列中，所述栅格阵列包括由在直角坐标系中沿X轴方向和Y轴方向等间距排列的若干栅格点102所构成的矩阵。在光罩版图设计中，所有图形的边缘都必须位于栅格线上，即符合on-grid规则，而在图2中所示的所述目标图形101显然不符合on-grid规则，需要对其进行修正。在本实施例中，所述目标图形101形成于栅格阵列中，所述栅格阵列位于一直角坐标系中，是由沿X轴方向和Y轴方向等间距排列的若干栅格点102所构成矩阵。
请参阅图1的S2以及图2，定义一包含所述目标图形101的最小矩形103，所述最小矩形103的边线平行于所述X轴或所述Y轴。对于每个位于所述栅格阵列中的所述目标图形101都可以找到一个将所述目标图形101包含在内的最小矩形103，且所述最小矩形103的四条边线分别平行于所述X轴或所述Y轴。
请参阅图1的S3以及图2至图4，通过所述最小矩形的边线两侧的栅格点102，分别沿平行于所述X轴方向和所述Y轴方向作垂直于所述最小矩形的边线的垂线104，将所述垂线104与所述目标图形101的交点定义为栅格偏离点105。如图2所示，通过所述最小矩形的边线两侧的栅格点沿平行于所述X轴方向和所述Y轴方向作垂直于所述最小矩形四条边线的垂线104。其中，直角坐标系的第一象限展示的是沿平行于X轴方向作所述垂线104，直角坐标系的第二象限展示的是沿平行于Y轴方向作所述垂线104。按照上述方法可以得到所有与所述目标图形101的边线相交的所述垂线104。所述垂线104沿平行于所述X轴方向和所述Y轴方向上延伸后得到与所述目标图形101的若干交点，所述交点定义为所述栅格偏离点105。如图3所示，直角坐标系的第一象限展示的是沿平行于X轴方向作所述垂线104后得到的所述栅格偏离点105，直角坐标系的第二象限展示的是沿平行于Y轴方向作所述垂线104后得到的所述栅格偏离点105。按照上述方法可以得到所有所述垂线104与所述目标图形101相交后得到的栅格偏离点105，如图4所示。需要指出的是，为了更清楚地展示本发明所提供的修正方法的实施过程，图3及图5中的第一象限都只展示了沿平行于所述X轴方向作垂线的部分情况，第二象限都只展示了沿平行于所述Y轴方向作垂线的部分情况，而图4和图6才是沿平行于所述X轴方向和所述Y轴方向作所有相交垂线得到的实际结果。
请参阅图1的S4以及图5至图6，将距离所述栅格偏离点105最近的栅格点102定义为栅格修正点106，得到所述目标图形101上的所有所述栅格偏离点105所对应的所述栅格修正点106。如图5所示，对于每一个栅格偏离点105，都可以找到对应的最邻近的栅格点102，将其定义为所述栅格修正点106。显然，对于沿X轴方向作所述垂线104得到的所述栅格偏离点105，其邻近的所述栅格修正点106必然也是沿X轴方向得到的；对于沿Y轴方向作所述垂线104得到的所述栅格偏离点105，其邻近的所述栅格修正点106必然也是沿Y轴方向得到的，即所述栅格偏离点105所对应的所述栅格修正点106必然是在其垂线方向上找到的。在图5中，直角坐标系的第一象限展示的是沿平行于X轴方向作所述垂线104后得到的所述栅格偏离点105，及其所述栅格修正点106；直角坐标系的第二象限展示的是沿平行于Y轴方向作所述垂线104后得到的所述栅格偏离点105，及其所述栅格修正点106。按照上述方法可以得到所有所述栅格偏离点105所对应的所述栅格修正点106，如图6所示。需要注意的是，在一些区域，沿平行于X轴方向作所述垂线104后得到的所述栅格偏离点105与沿平行于Y轴方向作所述垂线104后得到的所述栅格偏离点105，其对应的所述栅格修正点106是同一点。
请参阅图1的S5以及图7至图10，将相邻所述栅格修正点106沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线107相连接，以得到修正后图形108。由于根据所述栅格偏离点105得到的所述栅格修正点106都位于所述栅格阵列的栅格点102上，因此过所述栅格修正点106作平行于所述X轴方向和/或所述Y轴方向的所述连接线107都位于所述栅格线上，由所述连接线107相连而得到的所述修正后图形108显然也符合on-grid规则。当相邻的两个所述栅格修正点106处于同一所述连接线107上时，即两个所述栅格修正点106的X坐标值相同或Y坐标值相同，这两个所述栅格修正点106之间的连接方法仅有一种，即通过同一所述连接线107相连；而当相邻的两个所述栅格修正点106不在同一所述连接线107上时，由图7和图9可知，根据所选择的连接线不同，这两个所述栅格修正点106之间的连接方法有两种。对于相邻的两个所述栅格修正点106不在同一所述连接线107上的情况，将通过相邻的两个所述栅格修正点106的两条所述连接线的交点定义为辅助栅格修正点109，相邻两所述栅格修正点106分别沿X轴方向或Y轴方向与所述辅助栅格修正点109相连接。显然，对于相邻两所述栅格修正点106可以找出两个所述辅助栅格修正点109，一个位于所述目标图形101的外侧，另一个位于所述目标图形101的内侧。根据对这两个所述辅助栅格修正点109的选择，可以决定图形的连接方式是采用外接方式还是内接方式。其中，如图7所示，与所述栅格修正点106相连接的所述辅助栅格修正点109位于所述目标图形101外侧时得到所述修正后图形108的连接方式为外接方式；如图9所示，与所述栅格修正点106相连接的所述辅助栅格修正点109位于所述目标图形101内侧时得到所述修正后图形108的连接方式为内接方式。所述修正后图形108的连接方式可以只采用所述外接方式或者只采用所述内接方式，也可以根据版图设计规则的要求在图形的部分区域使用所述外接方式，在其余区域使用所述内接方式。
作为示例，在将相邻所述栅格修正点106沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接之前，还包括对所述栅格修正点106进行线性度评估和曲率半径评估，并剔除线性度或曲率半径异常的栅格修正点109的步骤。请参阅图9和图10，在步骤4)中确定所述栅格修正点106后，对于所述修正后图形108，一些位置上的所述栅格修正点106的线性度和曲率半径并不符合要求，需要剔除。例如图9所示的异常栅格修正点106a，在采用所述内接方式进行连接时，所述异常栅格修正点106a与邻近的所述栅格修正点106之间的连接并不符合线性度要求，因此需要剔除。最终得到如图10所示的所述修正后图形108中，并不包含所述异常栅格修正点106a。对于圆弧型图案，还需要进行曲率半径的评估，当发现有所述栅格修正点106的拟合曲率半径明显异于邻近的所述栅格修正点106的拟合曲率半径时，则判定该点异常，需要剔除。
请参阅图1的S6以及图8和图10，对所述修正后图形108进行设计规则检查验证，对所述修正后图形中违反设计规则的图形部分进行再修正。所述设计规则是指在光罩版图设计中，工艺制程的限制对于版图几何尺寸的约束。例如，某些接触孔图案必须大于一定尺寸，某些连接线图案之间的间距必须大于一定距离。因此，对于所述修正后图形108，按照所述设计规则限制进行图形调整时，其面积需要增大或者减小。从图8和图10可以看出，采用所述外接方式连接的所述修正后图形108会比采用所述内接方式连接的所述修正后图形108占有更多面积。因此，可以通过更换所述外接方式或所述内接方式改变所述修正后图形108的面积，使所述修正后图形108符合所述设计规则。例如，采用所述外接方式得到的所述修正后图形108在某些区域需要根据设计规则减小面积，则该区域的连接方式可以部分更换为所述内接方式；采用所述内接方式得到的所述修正后图形108在某些区域需要根据设计规则增大面积，则该区域的连接方式可以部分更换为所述外接方式。对于所述修正后图形108，为了满足所述设计规则，可以结合所述外接方式和所述内接方式进行连接。需要指出的是，上述修正方式只是对所述修正后图形108进行微调，如果微调后仍不能满足所述设计规则的，则表明处理前的所述目标图形101本身就不符合所述设计规则，需要由设计人员进一步进行判断和修正。
综上所述，本发明提供了一种解决版图图形偏离栅格线的修正方法，包括如下步骤：提供一目标图形，所述目标图形形成于一栅格阵列中，所述栅格阵列包括由在直角坐标系中沿X轴方向和Y轴方向等间距排列的若干栅格点所构成的矩阵；定义一包含所述目标图形的最小矩形，所述最小矩形的边线平行于所述X轴或所述Y轴；通过所述最小矩形的边线两侧的栅格点，分别沿平行于所述X轴方向和所述Y轴方向作垂直于所述最小矩形的边线的垂线，将所述垂线与所述目标图形的交点定义为栅格偏离点；将距离所述栅格偏离点最近的所述栅格点定义为栅格修正点，得到所述目标图形上的所有所述栅格偏离点所对应的所述栅格修正点；将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接，以得到修正后图形。本发明可有效解决人工逐条审查修改效率低下的问题。通过使用本发明的修正方法，不但可以修正偏离栅格线的图形，也可以修正版图中的畸形点，使版图可以在光罩上准确刻写。
上述实施例仅例示性说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本发明的权利要求所涵盖。
Claims (8)
1.一种解决光刻版图图形偏离栅格线的修正方法，其特征在于，包括如下步骤：
1)提供一目标图形，所述目标图形形成于一栅格阵列中，所述栅格阵列包括由在直角坐标系中沿X轴方向和Y轴方向等间距排列的若干栅格点所构成的矩阵；
2)定义一包含所述目标图形的最小矩形，所述最小矩形的边线平行于所述X轴或所述Y轴；
3)通过所述最小矩形的边线两侧的栅格点，分别沿平行于所述X轴方向和所述Y轴方向作垂直于所述最小矩形的边线的垂线，将所述垂线与所述目标图形的交点定义为栅格偏离点；
4)将距离所述栅格偏离点最近的栅格点定义为栅格修正点，得到所述目标图形上的所有所述栅格偏离点所对应的所述栅格修正点；
5)将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接，以得到修正后图形。
2.根据权利要求1所述的解决光刻版图图形偏离栅格线的修正方法，其特征在于，在步骤5)中，将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接之前，还包括对所述栅格修正点进行线性度评估和曲率半径评估，并剔除线性度或曲率半径异常的栅格修正点的步骤。
3.根据权利要求1所述的解决光刻版图图形偏离栅格线的修正方法，其特征在于，在步骤5)中，将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接时，当相邻的两个所述栅格修正点不在一条所述连接线上时，将通过相邻的两个所述栅格修正点的两条所述连接线的交点定义为辅助栅格修正点，相邻两所述栅格修正点分别沿X轴方向或Y轴方向与所述辅助栅格修正点相连接。
4.根据权利要求3所述的解决光刻版图图形偏离栅格线的修正方法，其特征在于，在步骤5)中，采用外接方式或内接方式将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接以得到所述修正后图形；其中，与所述栅格修正点相连接的所述辅助栅格修正点位于所述目标图形外侧时得到所述修正后图形的连接方式为外接方式，与所述栅格修正点相连接的所述辅助栅格修正点位于所述目标图形内侧时得到所述修正后图形的连接方式为内接方式。
5.根据权利要求3所述的解决光刻版图图形偏离栅格线的修正方法，其特征在于，在步骤5)中，采用外接方式和内接方式将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接以得到所述修正后图形；其中，与所述栅格修正点相连接的所述辅助栅格修正点位于所述目标图形外侧时得到所述修正后图形的连接方式为外接方式，与所述栅格修正点相连接的所述辅助栅格修正点位于所述目标图形内侧时得到所述修正后图形的连接方式为内接方式。
6.根据权利要求4或5所述的解决光刻版图图形偏离栅格线的修正方法，其特征在于，在步骤5)后，还包括以下步骤：
6)对所述修正后图形进行设计规则检查验证，对所述修正后图形中违反设计规则的图形部分进行再修正。
7.根据权利要求6所述的解决光刻版图图形偏离栅格线的修正方法，其特征在于，在步骤6)中，当所述设计规则检查验证发现所述修正后图形中有违反设计规则的图形部分时，更改所述修正后图形中所述栅格修正点与所述辅助栅格修正点的连接方式，以使得再修正后的所述修正后图形符合所述设计规则。
8.根据权利要求1所述的解决光刻版图图形偏离栅格线的修正方法，其特征在于，所述解决光刻版图图形偏离栅格线的修正方法用于对光刻版图中偏离栅格点的图形进行修正。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810878190.5A CN109001958B (zh) | 2018-08-03 | 2018-08-03 | 解决版图图形偏离栅格线的修正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810878190.5A CN109001958B (zh) | 2018-08-03 | 2018-08-03 | 解决版图图形偏离栅格线的修正方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN109001958A CN109001958A (zh) | 2018-12-14 |
| CN109001958B true CN109001958B (zh) | 2021-08-20 |
Family
ID=64595166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201810878190.5A Active CN109001958B (zh) | 2018-08-03 | 2018-08-03 | 解决版图图形偏离栅格线的修正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN109001958B (zh) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN102193305A (zh) * | 2010-03-12 | 2011-09-21 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种增强高meef图形的opc精度的方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6546509B2 (ja) * | 2015-10-28 | 2019-07-17 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | パターン検査方法及びパターン検査装置 |
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- 2018-08-03 CN CN201810878190.5A patent/CN109001958B/zh active Active
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN109001958A (zh) | 2018-12-14 |
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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