CN108962781B - 一种药液供给系统 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种药液供给系统,包括控制器、药液传输管路、吹扫机构以及用于盛放药液的供给瓶和工艺瓶,供给瓶和工艺瓶通过药液传输管路相连,吹扫机构与所述药液传输管路相连,能够在通过药液传输管路从供给瓶向工艺瓶传输药液之前,吹扫所述药液传输管路,以去除药液传输管路内的空气和杂质,这样,通过药液传输管路传输药液时,没有空气进入工艺瓶中,因此不会降低药液气体的浓度,从而为后续的工艺效果提供保证。
Description
技术领域
本发明涉及半导体设备制造领域,具体涉及一种药液供给系统。
背景技术
硅片是集成电路(IC)中的主要衬底,在硅片上制作电路时,硅片会被大气环境中的氧气氧化,形成一层绝缘的氧化物。这层氧化物会对后续在硅片上制作的电路造成不良,需在制作后续电路前将其去除。去除该氧化物时会用到气化的药液和其它化学气体。设备在使用药液时需要更换或者补充药液,这就需要了解药液的剩余量,并了解气化后的药液在管路中是否存在凝结的现象。
图1为现有的药液供给系统的示意图。该药液供给系统包括供给瓶1和工艺瓶2,供给瓶1和工艺瓶2之间通过药液传输管路3连接,供给瓶1和工艺瓶2分别连接第一供气管路15和第二供气管路16,工艺瓶2还连接药液输出管路4。所述药液供给系统具体工作原理如下:
当工艺瓶2中的液位传感器21检测到液位处于低位且供给瓶1中的液位传感器22检测到液位处于高位时,阀门61和阀门32打开,通过第一供气管路15向供给瓶1内充入压缩气体,药液17通过药液传输管路3输送到工艺瓶2中。当工艺瓶2中的液位传感器21检测到液位处于高位,或者,供给瓶1中的液位传感器22检测到液位处于低位时,阀门61和阀门32关闭。当工艺瓶2中的液位传感器21检测到液位处于低位以上时,工艺正常运行,第二供气管路16上的阀门和药液输出管路4上的阀门打开,通过第二供气管路16将气体通入工艺瓶2中,这样挥发后药液可以跟随气体通过药液输出管路4排出,以气体形式参与工艺。
使用现有的药液供给系统中,药液传输管路3中会存在少部分空气,不能排出管路,空气会随着药液的传输进入工艺瓶2内,在药液挥发后,这部分空气与挥发的药液混合,降低药液气体的浓度,当药液气体通过药液输出管路4排出进行工艺时,影响工艺结果。
发明内容
本发明针对现有技术中存在的上述不足,提供一种药液供给系统,用以解决药液传输管路中存在空气,降低药液气体的浓度,影响工艺结果的问题。
本发明为解决上述技术问题,采用如下技术方案:
本发明提供一种药液供给系统,包括控制器、药液传输管路、用于盛放药液的供给瓶和工艺瓶,所述药液传输管路分别连接所述供给瓶和工艺瓶,用于将药液从所述供给瓶传输到所述工艺瓶中,其特征在于,所述药液供给系统还包括吹扫机构,所述吹扫机构与所述药液传输管路相连,用于去除所述药液传输管路内的空气;
所述控制器用于,在开启所述药液传输管路之前,开启所述吹扫机构吹扫所述药液传输管路。
优选的,所述吹扫机构包括:第一吹扫管路、第二吹扫管路、抽真空装置和用于提供非空气的气体供给装置;所述第一吹扫管路的第一端与所述药液传输管路的第一位置相连,所述第一吹扫管路的第二端与所述气体供给装置相连;所述第二吹扫管路的第一端与所述药液传输管路的第二位置相连,所述第二吹扫管路的第二端与所述抽真空装置相连;
所述吹扫机构具体用于,去除所述第一位置和第二位置之间的药液传输管路内的空气。
进一步的,所述吹扫机构还包括压力检测装置,所述压力检测装置设置在所述第一吹扫管路内,用于检测所述第一吹扫管路内的压力;
所述控制器具体用于,关闭所述第一位置到与所述供给瓶相连的一端之间的药液传输管路、所述第二位置到与所述工艺瓶相连的一端之间的药液传输管路和所述第二吹扫管路,并开启所述气体供给装置和抽真空装置;开启所述第一吹扫管路,当所述第一吹扫管路内的压力达到预设的压力阈值后,再关闭所述第一吹扫管路;开启所述第一位置和第二位置之间的药液传输管路、第二吹扫管路,并记录吹扫次数;根据所述吹扫次数和预设的吹扫次数阈值是否相等,确定是否关闭所述抽真空装置和第二吹扫管路。
进一步的,所述吹扫机构还包括真空度检测装置,所述真空度检测装置设置在所述药液传输管路内,并位于所述第一位置和第二位置之间,用于检测所述第一位置和第二位置之间的药液传输管路内的真空度;
所述控制器具体用于,当检测到的真空度小于预设的真空度阈值时,当前的吹扫次数加1,否则保持当前的吹扫次数不变;当所述吹扫次数等于所述吹扫次数阈值时,关闭所述抽真空装置和所述第二吹扫管路,否则,关闭所述第二吹扫管路,并开启所述第一吹扫管路,当所述第一吹扫管路内的压力达到所述压力阈值后,再关闭所述第一吹扫管路,以及,开启所述第一位置和第二位置之间的药液传输管路、第二吹扫管路,并记录吹扫次数,直到所述吹扫次数等于所述吹扫次数阈值时为止。
进一步的,所述药液供给系统还包括用于检测供给瓶内液位的第一传感器和用于检测工艺瓶内液位的第二传感器,所述第一传感器包括第一接近开关,第二传感器包括第二接近开关,所述第一接近开关和第二接近开关分别设置在所述供给瓶和工艺瓶的瓶壁外侧,用于感应瓶壁内侧对应该位置是否有药液;所述第一接近开关的位置高于所述第二接近开关的位置;
所述控制器还用于,当判断出所述工艺瓶内的液位低于所述第二接近开关,且判断出所述供给瓶内的液位高于所述第一接近开关时,开启所述药液传输管路,以通过所述药液传输管路将所述供给瓶中的药液输送到所述工艺瓶中。
进一步的,所述第一传感器还包括第三接近开关,所述第二传感器还包括第四接近开关,所述第一和第三接近开关分别对应所述供给瓶的高液位和较高液位设置,所述第二和第四接近开关分别对应所述工艺瓶的低液位和较低液位设置,其中,高液位、较高液位、较低液位、低液位的位置由高到低依次排列;
所述控制器具体用于,当根据所述第二和第四接近开关判断出所述工艺瓶内的液位高于所述低液位且低于所述较低液位,且根据所述第三和第一接近开关判断出所述供给瓶内的液位高于所述较高液位且低于所述高液位时,开启所述药液传输管路。
优选的,所述第一、第二、第三和第四接近开关在所述供给瓶和工艺瓶的瓶壁上的位置能够调节。
进一步的,所述药液供给系统还包括与所述工艺瓶相连的药液输出管路,用于将所述工艺瓶内挥发的药液从所述工艺瓶中输出。
进一步的,所述药液供给系统还包括第三传感器,所述第三传感器设置在所述药液传输管路和/或所述药液输出管路的管壁外侧,所述第三传感器为接近开关,用于感应管壁内侧对应该位置是否有药液;
所述控制器还用于,根据所述第三传感器检测到是否有药液,判断所述药液传输管路和/或所述药液输出管路内是否发生药液凝结。
优选的,所述第三传感器设置在所述药液传输管路和/或所述药液输出管路的折弯位置。
本发明的药液供给系统包括控制器、药液传输管路、吹扫机构以及用于盛放药液的供给瓶和工艺瓶,供给瓶和工艺瓶通过药液传输管路相连,吹扫机构与所述药液传输管路相连,能够在通过药液传输管路从供给瓶向工艺瓶传输药液之前,吹扫所述药液传输管路,以去除药液传输管路内的空气和杂质,这样,通过药液传输管路传输药液时,没有空气进入工艺瓶中,因此不会降低药液气体的浓度,从而为后续的工艺效果提供保证。
附图说明
图1为现有的药液供给系统的示意图;
图2为本发明实施例提供的药液供给系统的示意图;
图3为本发明实施例提供的药液传输管路吹扫流程图;
图4a为本发明实施例提供的液位检测装置与药液液位的关系示意图之一;
图4b为本发明实施例提供的液位检测装置与药液液位的关系示意图之二;
图5为本发明实施例提供的药液供给流程图;
图6为本发明实施例提供的管路中发生液体凝结的示意图。
图例说明:
1、供给瓶 2、工艺瓶 3、药液传输管路
4、药液输出管路 5、供气管路 6、第一吹扫管路
7、第二吹扫管路 8、抽真空装置 9、气体供给装置
10、压力检测装置 11、真空检测装置 12、第一传感器
13、第二传感器 14、第三传感器 15、第一供气管路
16、第二供气管路 17、药液 21、22、液位传感器
31、32、33、41、51、61、阀门
121、第一接近开关 132、第二接近开关
123、第三接近开关 134、第四接近开关
125、第五接近开关 136、第六接近开关
127、第七接近开关 138、第八接近开关
具体实施方式
下面将结合本发明中的附图,对本发明中的技术方案进行清楚、完整的描述,显然,所描述的实施例是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
如图2所示,本发明提供一种药液供给系统,所述药液供给系统包括:控制器(图中未绘示)、药液传输管路3、用于盛放药液17的供给瓶1和工艺瓶2,药液传输管路3分别连接供给瓶1和工艺瓶2,且药液传输管路3的两端分别伸入供给瓶1的液面和工艺瓶2的液面以下,供给瓶1中的药液17能够经由药液传输管路3输送到工艺瓶2中。
所述药液供给系统还包括吹扫机构,所述吹扫机构与药液传输管路3相连,用于去除药液传输管路3内的空气和杂质。所述控制器用于,在开启药液传输管路3之前,开启所述吹扫机构吹扫药液传输管路3。
所述药液供给系统还包括药液输出管路4,药液输出管路4与工艺瓶2相连,且该相连的一端位于药液液面以上,用于将挥发的药液17从工艺瓶2中输出以进行后续工艺。
进一步的,所述药液供给系统还包括供气管路5,供气管路5与工艺瓶2相连,且该相连的一端位于药液17液面以下,用于向工艺瓶2内通入氮气,以稀释药液气体。
具体的,药液传输管路3上设置有阀门31、阀门32和阀门33,药液输出管路4上设置有阀门41,供气管路5上设置有阀门51。优选的,阀门32、33、41、51为气动阀门,所述控制器通过控制上述阀门开启或关闭来控制相应的管路开启或关闭。
需要说明的是,为了提高系统的安全性和可靠性,药液传输管路3上的阀门31为手动阀门。
本发明的药液供给系统,能够在通过药液传输管路3从供给瓶1向工艺瓶2传输药液之前,利用吹扫机构吹扫药液传输管路3,以去除药液传输管路3内的空气和杂质,这样,通过药液传输管路3传输药液时,没有空气进入工艺瓶1中,因此不会降低药液气体的浓度,从而为后续的工艺效果提供保证。
如图2所示,所述吹扫机构包括:第一吹扫管路6、第二吹扫管路7、抽真空装置8和气体供给装置9。第一吹扫管路6的第一端与药液传输管路3的第一位置A相连,第一吹扫管路6的第二端与气体供给装置9相连,气体供给装置9用于提供非空气的气体。第二吹扫管路7的第一端与药液传输管路3的第二位置B相连,第二吹扫管路7的第二端与抽真空装置8相连。所述吹扫机构具体用于,去除第一位置A和第二位置B之间的药液传输管路3内的空气。
具体的,第一位置A和第二位置B分别位于阀门32的两端,且第一位置A位于阀门31和阀门32之间,第二位置B位于阀门32和33之间。阀门31控制第一位置A到与供给瓶1相连的一端之间的药液传输管路3的开启或关闭,阀门32控制第一位置A与第二位置B之间的药液传输管路3的开启或关闭,阀门33控制第二位置B到与工艺瓶2相连的一端之间的药液传输管路3的开启或关闭。第一吹扫管路6上靠近气体供给装置9的位置处设置有阀门61,第二吹扫管路7上靠近抽真空装置8的位置处设置有阀门71,阀门61和阀门71为气动阀门。所述控制器通过控制阀门61、71开启或关闭来控制第一吹扫管路6和第二吹扫管路7开启或关闭。抽真空装置8可以为真空泵,气体供给装置9可以为气源,用于提供惰性气体。
也就是说,所述吹扫机构通过第一吹扫管路6,从药液传输管路3的一端(即第一位置A处)通入气体,并通过第二吹扫管路7,从药液传输管路3的另一端(即第二位置B处)抽真空,从而去除第一位置A和第二位置B之间的药液传输管路3内的空气和杂质。
进一步的,所述吹扫机构还可以包括压力检测装置10,压力检测装置10设置在第一吹扫管路6内,优选的,位于阀门61和第一位置A之间,用于检测第一吹扫管路6内的压力。
所述控制器具体用于,关闭第一位置A到与供给瓶1相连的一端之间的药液传输管路3、第二位置B到与工艺瓶2相连的一端之间的药液传输管路3和第二吹扫管路7,并开启气体供给装置9和抽真空装置8;开启第一吹扫管路6,当第一吹扫管路6内的压力达到压力阈值后,再关闭第一吹扫管路6;开启第一位置A和第二位置B之间的药液传输管路3、第二吹扫管路7,并记录吹扫次数;根据吹扫次数和预设的吹扫次数阈值是否相等,确定是否关闭抽真空装置8和第二吹扫管路7。
进一步的,如图2所示,所述吹扫机构还可以包括真空度检测装置11,真空度检测装置11设置在药液传输管路3内,并位于第一位置A和第二位置B之间,用于检测第一位置A和第二位置B之间的药液传输管路3内的真空度。
所述控制器具体用于,当检测到的真空度小于预设的真空度阈值时,当前的吹扫次数加1,当检测到的真空度大于或等于预设的真空度阈值时,保持当前的吹扫次数不变;当所述吹扫次数等于所述吹扫次数阈值时,关闭抽真空装置8和第二吹扫管路7,当所述吹扫次数小于所述吹扫次数阈值时,关闭第二吹扫管路7,并开启第一吹扫管路6,当第一吹扫管路6内的压力达到压力阈值后,再关闭第一吹扫管路6,以及,开启第一位置A和第二位置B之间的药液传输管路3、第二吹扫管路7,并记录吹扫次数,直到所述吹扫次数等于所述吹扫次数阈值时为止。
为了清楚说明本发明的方案,以下结合图3的流程图,对药液传输管路3的吹扫流程进行详细说明。
结合图2和图3所示,吹扫药液传输管路3的流程包括以下步骤:
步骤31,关闭第一位置A到与供给瓶1相连的一端之间的药液传输管路3、第二位置B到与工艺瓶2相连的一端之间的药液传输管路3和第二吹扫管路7,并开启气体供给装置9和抽真空装置8。
具体的,关闭阀门31、33和71,使第一位置A和第二位置B之间的药液传输管路3保持密闭。
S32,开启第一吹扫管路6,当第一吹扫管路6内的压力达到压力阈值后,再关闭第一吹扫管路6。
具体的,通过开启阀门61,将第一吹扫管路6内的压力调节到较高的值(即压力阈值),以便后续利用第一吹扫管路6内的高压气体吹扫药液传输管路3,将药液传输管路3内的空气赶出。优选的,压力阈值可以为50-80Psig。
一旦开启阀门61之后,所述控制器就开始监测压力检测装置10检测到的压力值,当所述压力值达到压力阈值时,通过关闭阀门61,关闭第一吹扫管路6。
步骤33,开启第一位置A和第二位置B之间的药液传输管路3、第二吹扫管路7,并记录吹扫次数。
具体的,通过开启阀门32,开启第一位置A和第二位置B之间的药液传输管路3,通过开启阀门71,开启第二吹扫管路7。这样,一方面利用第一吹扫管路6内的高压气体吹扫第一位置A和第二位置B之间的药液传输管路3,另一方面利用抽真空装置8对第一位置A和第二位置B之间的药液传输管路3和第二吹扫管路7抽真空,从而将第一位置A和第二位置B之间的药液传输管路3内的空气赶出。
需要说明的是,上述过程(S31-S33)为一次吹扫过程,为了保证吹扫效果,本发明的药液供给系统需要进行多次吹扫,在预设的多次吹扫完成之后,才能够开启药液传输管路3以进行药液传输。因此,每完成一次吹扫,控制器还需要记录吹扫次数。
步骤34,若吹扫次数等于预设的吹扫次数阈值,则执行步骤35,否则,关闭第二吹扫管路7,并执行步骤32。
优选的,吹扫次数阈值可以设置为50-100,当吹扫次数已达到吹扫次数阈值时,才结束吹扫(即关闭抽真空装置8)。
具体的,吹扫次数可以根据真空度检测装置11检测到的真空度和预设的真空度阈值进行记录。优选的,真空度阈值可以设置为100T。
具体的,当所述控制器判断出检测到的真空度小于真空度阈值时,说明本次吹扫已达到预定效果,则将当前的吹扫次数加1,即对本次吹扫计次。当所述控制器判断出检测到的真空度大于或等于真空度阈值时,说明本次吹扫未达到预定效果,则本次吹扫不计次,即保持当前的吹扫次数不变。
当吹扫次数等于预设的吹扫次数阈值时,说明已对第一位置A和第二位置B之间的药液传输管路3进行了预设次数的吹扫,此时,关闭抽真空装置8,并结束吹扫流程。当吹扫次数小于预设的吹扫次数阈值时,说明对第一位置A和第二位置B之间的药液传输管路3进行的吹扫尚未达到预设的次数,需要继续吹扫,即关闭第二吹扫管路7,并执行步骤32。
步骤35,关闭抽真空装置8和第二吹扫管路7。
进一步的,如图2所示,所述药液供给系统还包括用于检测供给瓶1内液位的第一传感器12和用于检测工艺瓶2内液位的第二传感器13。
现有的液位传感器为超声波液位传感器,设置在供给瓶和工艺瓶的顶部,而药液容易在瓶顶凝结,由此影响液位检测精度。而且,由于超声波液位传感器是根据超声波发射与接收的时间间隔确定液面的高度,为配合超声波液位传感器工作,需要减小供给瓶和工艺瓶的厚度,增加额外成本。为了解决上述问题,本发明的第一传感器12和第二传感器13采用接近开关作为液面传感器。具体的,第一传感器12和第二传感器13分别设置在供给瓶1和工艺瓶2的瓶壁外侧,用于瓶壁内侧对应该位置是否有药液17。接近开关的顶端贴附在供给瓶1的瓶壁外侧,接近开关可以感应瓶壁上的电荷,并向所述控制器反馈相应的信号。所述控制器可以根据接近开关反馈信号的不同判断接近开关所在位置是否有液体,从而判断液位高度。需要说明的是,由于液体有波动,当接近开关反馈的信号不一致,且持续特定时间(例如,5-10s)时,可以认为接近开关附近无液体。
本发明利用接近开关检测药液17的液位,接近开关设置在瓶壁的外侧,与药液17不接触,无需考虑防腐设计,降低成本。而且,即使发生药液凝结也不会影响液位检测的精度。而且,无需对现有的供给瓶1和工艺瓶2进行改造,可以直接安装使用,降低成本。此外,接近开关通过感应瓶壁上的电荷实现液位的检测,因此,供给瓶1和工艺瓶2可以为钢质药液瓶以及其他不透光容器,适用范围广。
第一传感器12包括第一接近开关121,第二传感器13包括第二接近开关132,第一接近开关121和第二接近开关132分别设置在供给瓶1和工艺瓶2的瓶壁外侧,用于感应瓶壁内侧对应该位置是否有药液,第一接近开关121的位置高于第二接近开关132的位置。
所述控制器还用于,当判断出工艺瓶2内的液位低于第二接近开关132,且判断出供给瓶1内的液位高于第一接近开关121时,开启药液传输管路3,以通过药液传输管路3将供给瓶1中的药液输送到工艺瓶2中。
进一步的,如图2所示,第一传感器12还包括第三接近开关123,第二传感器13还包括第四接近开关134,第一接近开关121和第三接近开关123分别对应供给瓶1的高液位HH和较高液位H设置,第二接近开关132和第四接近开关134分别对应工艺瓶2的低液位LL和较低液位L设置,其中,高液位HH、较高液位H、较低液位L、低液位LL的位置由高到低依次排列。
所述控制器具体用于,当根据第二接近开关132和第四接近开关134判断出工艺瓶2内的液位高于低液位LL且低于较低液位L,且根据第三接近开关123和第一接近开关121判断出供给瓶1内的液位高于较高液位H且低于高液位HH时,开启药液传输管路3。
优选的,第一传感器12的第一接近开关121和第三接近开关123,在供给瓶1的瓶壁上的位置能够调节,即可以上下或者左右移动。第二传感器13的第二接近开关132和第四接近开关134在工艺瓶2的瓶壁上的位置能够调节,即可以上下或者左右移动。这样,可以根据实际需要,控制开始传输药液的时机和停止传输药液的时机,使用更加灵活方便。
需要说明的是,第一传感器12和第二传感器13也可以分别包括4个接近开关,4个接近开关分别对应高液位HH、较高液位H、较低液位L、低液位LL对应的位置。具体的,第一传感器12包括第一接近开关121、第三接近开关123、第五接近开关125和第七接近开关127,第二传感器13包括第二接近开关132、第四接近开关134、第六接近开关136和第八接近开关138。第一接近开关121和第八接近开关138分别设置在供给瓶1和工艺瓶2的高液位HH的位置,第三接近开关123和第六接近开关136分别设置在供给瓶1和工艺瓶2的较高液位H的位置,第五接近开关125和第四接近开关134分别设置在供给瓶1和工艺瓶2的较低液位L的位置,第七接近开关127和第二接近开关132分别设置在供给瓶1和工艺瓶2的低液位LL的位置。
此时,所述控制器具体用于,当根据第二接近开关132和第四接近开关134判断出工艺瓶2内的液位高于低液位LL且低于较低液位L,且根据第三接近开关123和第一接近开关121判断出供给瓶1内的液位高于较高液位H且低于高液位HH时,开启药液传输管路3。
所述控制器还可以用于,在开启药液传输管路3之后,当根据第八接近开关138判断出工艺瓶2内的液位高于高液位HH,或者,根据第七接近开关127判断出供给瓶1内的液位低于低液位LL时,关闭药液传输管路3。
为了清楚说明本发明的方案,以下结合图5的流程图,对药液供给流程进行详细说明。
结合图2和图5所示,在关闭抽真空装置8和第二吹扫管路7之后,药液供给流程包括以下步骤:
步骤51,判断工艺瓶2内的液位是否较低,且供给瓶1内的液位是否较高,若是,则执行步骤52;否则,保持当前状态。
具体的,当所述控制器根据第二接近开关132和第四接近开关134判断出工艺瓶2内的液位高于低液位LL且低于较低液位L,且根据第三接近开关123和第一接近开关121判断出供给瓶1内的液位高于较高液位H且低于高液位HH时,说明工艺瓶2需要补充药液17,且供给瓶1内有充足的药液17提供,则开启药液传输管路3(即执行步骤52),以将供给瓶1内的药液17输送给工艺瓶2。否则,保持当前状态。
步骤52,开启药液传输管路3,以通过药液传输管路3将供给瓶1中的药液输送到工艺瓶2中。
步骤53,判断工艺瓶2内的液位是否高于高液位HH,或者,供给瓶1内的液位是否低于低液位LL,若是,则执行步骤54;否则,保持当前状态。
具体的,在药液传输过程中,所述控制器始终监测供给瓶1和工艺瓶2的液位,当所述控制器根据第八接近开关138判断出工艺瓶2内的液位高于高液位HH,或者,根据第七接近开关127判断出供给瓶1内的液位低于低液位LL,说明此时工艺瓶2内的已补充了足够的药液17,或者,供给瓶1中的药液17已不足,则关闭药液传输管路3,以结束供液流程(即执行步骤54)。否则,保持当前状态,以继续从供给瓶1向工艺瓶2传输药液。
步骤54,关闭药液传输管路3。
由于药液易挥发,在药液传输过程中,容易在管路中凝结,造成工艺不良。为了解决上述问题,进一步的,如图6所示,所述药液供给系统还包括第三传感器14,第三传感器14设置在药液传输管路3和/或药液输出管路4的管壁外侧,第三传感器14为接近开关,用于感应管壁内侧对应该位置是否有药液。
所述控制器还用于,根据第三传感器14检测到是否有药液,判断相应的药液传输管路3和/或药液输出管路4内是否发生药液凝结。
由于,凝结现象通常发生在管路的折弯处,因此,优选的,第三传感器14设置在药液传输管路3和/或药液输出管路4的折弯位置。需要说明的是,第三传感器14还可以设置在管路中温度易于发生变化的位置。
进一步的,所述控制器还用于,当判断出药液传输管路3和/或药液输出管路4内发生药液凝结时,指示报警装置报警,以通知相关人员检测管路中的液体凝结情况。
本发明的药液供给系统有两个药液存储瓶,分别为供给瓶1和工艺瓶2,通过增加吹扫机构来吹扫更换药液存储瓶时管路中存在的空气和杂质,并采用接近开关检测管路中是否有液体凝结现象,有利于提高整机工艺性能。采用接近开关检测药液存储瓶中的液面位置,降低生产加工改造成本。
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (9)
1.一种药液供给系统,包括控制器、药液传输管路、用于盛放药液的供给瓶和工艺瓶,所述药液传输管路分别连接所述供给瓶和工艺瓶,所述药液传输管路的两端分别伸入所述供给瓶和所述工艺瓶,用于将药液从所述供给瓶传输到所述工艺瓶中,其特征在于,所述药液供给系统还包括吹扫机构,所述吹扫机构与所述药液传输管路相连,用于去除所述药液传输管路内的空气;
所述控制器用于,在开启所述药液传输管路之前,开启所述吹扫机构吹扫所述药液传输管路,以避免所述药液传输管路内的空气进入所述工艺瓶内;
所述吹扫机构包括:第一吹扫管路、第二吹扫管路、抽真空装置和用于提供非空气的气体供给装置;所述第一吹扫管路的第一端与所述药液传输管路的第一位置相连,所述第一吹扫管路的第二端与所述气体供给装置相连;所述第二吹扫管路的第一端与所述药液传输管路的第二位置相连,所述第二吹扫管路的第二端与所述抽真空装置相连;
所述吹扫机构具体用于,去除所述第一位置和第二位置之间的药液传输管路内的空气。
2.如权利要求1所述的系统,其特征在于,所述吹扫机构还包括压力检测装置,所述压力检测装置设置在所述第一吹扫管路内,用于检测所述第一吹扫管路内的压力;
所述控制器具体用于,关闭所述第一位置到与所述供给瓶相连的一端之间的药液传输管路、所述第二位置到与所述工艺瓶相连的一端之间的药液传输管路和所述第二吹扫管路,并开启所述气体供给装置和抽真空装置;开启所述第一吹扫管路,当所述第一吹扫管路内的压力达到预设的压力阈值后,再关闭所述第一吹扫管路;开启所述第一位置和第二位置之间的药液传输管路、第二吹扫管路,并记录吹扫次数;根据所述吹扫次数和预设的吹扫次数阈值是否相等,确定是否关闭所述抽真空装置和第二吹扫管路。
3.如权利要求2所述的系统,其特征在于,所述吹扫机构还包括真空度检测装置,所述真空度检测装置设置在所述药液传输管路内,并位于所述第一位置和第二位置之间,用于检测所述第一位置和第二位置之间的药液传输管路内的真空度;
所述控制器具体用于,当检测到的真空度小于预设的真空度阈值时,当前的吹扫次数加1,否则保持当前的吹扫次数不变;当所述吹扫次数等于所述吹扫次数阈值时,关闭所述抽真空装置和所述第二吹扫管路,否则,关闭所述第二吹扫管路,并开启所述第一吹扫管路,当所述第一吹扫管路内的压力达到所述压力阈值后,再关闭所述第一吹扫管路,以及,开启所述第一位置和第二位置之间的药液传输管路、第二吹扫管路,并记录吹扫次数,直到所述吹扫次数等于所述吹扫次数阈值时为止。
4.如权利要求1所述的系统,其特征在于,还包括用于检测供给瓶内液位的第一传感器和用于检测工艺瓶内液位的第二传感器,所述第一传感器包括第一接近开关,第二传感器包括第二接近开关,所述第一接近开关和第二接近开关分别设置在所述供给瓶和工艺瓶的瓶壁外侧,用于感应瓶壁内侧分别对应所述第一接近开关和第二接近开关的位置是否有药液;所述第一接近开关的位置高于所述第二接近开关的位置;
所述控制器还用于,当判断出所述工艺瓶内的液位低于所述第二接近开关,且判断出所述供给瓶内的液位高于所述第一接近开关时,开启所述药液传输管路,以通过所述药液传输管路将所述供给瓶中的药液输送到所述工艺瓶中。
5.如权利要求4所述的系统,其特征在于,所述第一传感器还包括第三接近开关,所述第二传感器还包括第四接近开关,所述第一和第三接近开关分别对应所述供给瓶的高液位和较高液位设置,所述第二和第四接近开关分别对应所述工艺瓶的低液位和较低液位设置,其中,高液位、较高液位、较低液位、低液位的位置由高到低依次排列;
所述控制器具体用于,当根据所述第二和第四接近开关判断出所述工艺瓶内的液位高于所述低液位且低于所述较低液位,且根据所述第三和第一接近开关判断出所述供给瓶内的液位高于所述较高液位且低于所述高液位时,开启所述药液传输管路。
6.如权利要求5所述的系统,其特征在于,所述第一、第二、第三和第四接近开关在所述供给瓶和工艺瓶的瓶壁上的位置能够调节。
7.如权利要求1所述的系统,其特征在于,还包括与所述工艺瓶相连的药液输出管路,用于将所述工艺瓶内挥发的药液从所述工艺瓶中输出。
8.如权利要求7所述的系统,其特征在于,还包括第三传感器,所述第三传感器设置在所述药液传输管路和/或所述药液输出管路的管壁外侧,所述第三传感器为接近开关,用于感应管壁内侧对应所述第三传感器的位置是否有药液;
所述控制器还用于,根据所述第三传感器检测到是否有药液,判断所述药液传输管路和/或所述药液输出管路内是否发生药液凝结。
9.如权利要求8所述的系统,其特征在于,所述第三传感器设置在所述药液传输管路和/或所述药液输出管路的折弯位置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710369013.XA CN108962781B (zh) | 2017-05-23 | 2017-05-23 | 一种药液供给系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710369013.XA CN108962781B (zh) | 2017-05-23 | 2017-05-23 | 一种药液供给系统 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108962781A CN108962781A (zh) | 2018-12-07 |
CN108962781B true CN108962781B (zh) | 2020-12-08 |
Family
ID=64463098
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201710369013.XA Active CN108962781B (zh) | 2017-05-23 | 2017-05-23 | 一种药液供给系统 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN108962781B (zh) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2726281B2 (ja) * | 1988-09-30 | 1998-03-11 | 東京エレクトロン株式会社 | レジスト処理装置 |
JP5726784B2 (ja) * | 2012-02-24 | 2015-06-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液交換方法および基板処理装置 |
JP6821327B2 (ja) * | 2015-05-22 | 2021-01-27 | ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation | オンデマンド充填アンプルの補充 |
-
2017
- 2017-05-23 CN CN201710369013.XA patent/CN108962781B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108962781A (zh) | 2018-12-07 |
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